In this paper a fabrication process

In this paper a fabrication process of large area nanostructures is presented. The nanostructure is created by self-assembling a highly ordered monolayer nanospheres as optical lenses over photoresist to produce deep ordered nano patterns. The obtained structure is characterized utilizing SEM stereoscopic technique through 3D-reconstruction of nanostructures. The results show that there are two kinds of deformations. The regular waves of the surface are caused by the embedment of nanospheres to the photoresist. The irregular ups and downs in surface structure could be caused by deposition and UV exposure. The average roughness of the surface is 16.5 nm, indicating that the surface is reasonably smooth. The value of maximum peak to valley distance is 351.8 nm significantly, higher than average surface roughness, which is due to the irregular ups and downs of the surface. Surface properties and geometry of nanostructures are important to their applications, especially when they are used as nano-templates for fabrication of components. Evaluation of these nanostructures is an essential step for intensifying potential nano fabrication problems which improve production quality.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

กระบวนการผลิตของพื้นที่ใหญ่ nanostructures ถูกนำเสนอในเอกสารนี้ Nanostructure สร้างขึ้น โดยตนเอง nanospheres monolayer สูงสั่งประกอบเป็นเลนส์ออพติคอลผ่าน photoresist ผลิตรูปแบบ nano ลึกสั่ง โครงสร้างได้รับเป็นลักษณะใช้เทคนิค stereoscopic SEM ผ่าน 3D-ฟื้นฟูของ nanostructures ผลแสดงว่า มีสองชนิดของ deformations คลื่นปกติของพื้นผิวที่เกิดจาก embedment ของ nanospheres เพื่อ photoresist อาจเกิดการผิดปกติดอน ๆ ในโครงสร้างพื้นผิวด้วยการสะสมรังสี ความหยาบเฉลี่ยของพื้นผิวเป็น 16.5 nm บอกว่า ผิวค่อนข้างเรียบ ค่าสูงสุดสูงสุดจะห่างจากหุบเขาเป็น 351.8 nm มาก สูงกว่าค่าเฉลี่ยผิวความหยาบ ซึ่งเกิดจากการผิดปกติดอน ๆ ของพื้นผิว คุณสมบัติของพื้นผิวและรูปทรงเรขาคณิตของ nanostructures มีความสำคัญสำหรับโปรแกรมประยุกต์ของตน โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อพวกเขาจะใช้เป็นแม่แบบนาโนสำหรับผลิตส่วนประกอบ ประเมิน nanostructures เหล่านี้จะมีขั้นตอนสำคัญสำหรับนาโนผลิตปัญหาการปรับปรุงคุณภาพการผลิตที่ทวีความรุนแรง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในบทความนี้กระบวนการผลิตของโครงสร้างนาโนพื้นที่ขนาดใหญ่ที่จะนำเสนอ โครงสร้างระดับนาโนจะถูกสร้างขึ้นโดยการรวบรวมตัวเองสั่งสูง nanospheres monolayer เป็นเลนส์สายตามากกว่าไวแสงในการผลิตได้รับคำสั่งรูปแบบนาโนลึก โครงสร้างที่ได้รับเป็นลักษณะการใช้ SEM เทคนิคสามมิติผ่านการฟื้นฟู-3 มิติของโครงสร้างนาโน ผลการศึกษาพบว่ามีสองชนิดของรูปร่าง คลื่นปกติของผิวที่เกิดจากการฝังของ nanospheres ไปไวแสงที่ อัพและดาวน์ที่ผิดปกติในโครงสร้างพื้นผิวที่อาจจะเกิดจากการสะสมและการสัมผัสรังสียูวี ขรุขระเฉลี่ยของพื้นผิวที่เป็น 16.5 นาโนเมตรแสดงให้เห็นว่าพื้นผิวที่เป็นเหตุผลที่ราบรื่น มูลค่าของยอดเขาที่สูงสุดกับระยะทางหุบเขาเป็น 351.8 นาโนเมตรอย่างมีนัยสำคัญสูงกว่าพื้นผิวที่ขรุขระเฉลี่ยซึ่​​งเกิดจากการผิดปกติอัพและดาวน์ของพื้นผิว คุณสมบัติของพื้นผิวและรูปทรงเรขาคณิตของโครงสร้างนาโนที่มีความสำคัญกับการใช้งานของพวกเขาโดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อพวกเขาถูกใช้เป็นแม่แบบนาโนสำหรับการผลิตชิ้นส่วน การประเมินผลของโครงสร้างนาโนเหล่านี้เป็นขั้นตอนที่จำเป็นสำหรับการทวีความรุนแรงปัญหาการผลิตนาโนที่มีศักยภาพซึ่งปรับปรุงคุณภาพการผลิต

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในกระดาษนี้ผลิตกระบวนการนาโนพื้นที่ขนาดใหญ่แสดง การสร้างโครงสร้างนาโนด้วยตนเองประกอบขอสั่งอย่าง nanospheres เป็นเลนส์ออปติคอลมากกว่าระบบผลิตลึกสั่งนาโน ลวดลาย การวิเคราะห์โครงสร้างมีลักษณะ การใช้เทคนิค SEM สามมิติผ่านมิติการสร้างใหม่นาโน .ผลการวิจัยพบว่า มีอยู่สองชนิดของรูป . คลื่นปกติของพื้นผิวที่เกิดจากการฝังตัวของ nanospheres ไปยังระบบ . ups และดาวน์ในโครงสร้างผิวที่ผิดปกติ อาจเกิดจาก การสะสมและการเปิดรับแสงยูวี ความหยาบเฉลี่ยพื้นผิวเป็น 16.5 นาโนเมตร ระบุว่า พื้นผิวเป็นเหตุราบรื่นมูลค่าของยอดสูงสุดของหุบเขาระยะทาง 351.8 nm อย่างมีนัยสำคัญสูงกว่าค่าเฉลี่ยความเรียบของพื้นผิวของชิ้นงาน ซึ่งเกิดจากการ ups และดาวน์ผิดปกติของผิว สมบัติเรขาคณิตของนาโนเป็นสำคัญเพื่อการใช้งานของพวกเขา โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อพวกเขาถูกใช้เป็นแม่แบบสำหรับการสร้างนาโนคอมโพเนนต์การประเมินผลของนาโนเหล่านี้เป็นขั้นตอนที่จำเป็นสำหรับการเพิ่มศักยภาพการผลิตนาโนปัญหาซึ่งปรับปรุงคุณภาพการผลิต