Fig. 3. Morphology of the oxide lay

Fig. 3. Morphology of the oxide layer (OL) formed on Ti–15Mo alloy after thermal oxidation at 800◦C for 8 h: (a) at the cross-section with EDAX line scanning performedacross the alloy, oxygen diffusion zone (ODZ) and OL; and (b) at the surface.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3. ผล และการอภิปราย3.1. ลักษณะของชั้นออกไซด์ที่เกิดขึ้นในโลหะผสม Ti – 15Mo หลังจากออกซิเดชันความร้อน3.1.1. surface สัณฐานวิทยาของชั้นออกไซด์และวิวัฒนาการของเป็นฟังก์ชันของการรักษาอุณหภูมิและเวลาลักษณะสัณฐานของชั้นออกไซด์พัฒนาบนโลหะผสม Ti – 15Mo หลังจากถึงที่ 500 และ 650◦C สำหรับ 8 ชั่วโมงจะแสดงในมะเดื่อ. 2 (ก) และ (ข) ตามลำดับ เมื่อรับการรักษาที่ 500◦C สำหรับ 8 ชม. พื้นผิวของโลหะผสม Ti – 15Mo ครอบคลุมกับเมล็ดบาง ๆ ออกไซด์ (รูป 2(a)) การเพิ่มขึ้นของอุณหภูมิรักษาตั้งแต่ 500 ถึง 650◦C นำไปสู่การเพิ่มขึ้นของอัตราการเจริญเติบโตของฟิล์มออกไซด์รวมทั้งขนาดของเมล็ดออกไซด์ที่ทำให้ออกไซด์ฟิล์มค่อนข้างหยาบ (รูป 2(b)) กว่าที่เตรียมไว้ที่ 500◦C อย่างไรก็ตาม ข้อบกพร่องบางอย่างในรูปของดีรูขุมขนและหลุมอุกกาบาตขนาดใหญ่ที่สังเกต (รูป 2(b)) การเกิดขึ้นของข้อบกพร่องเหล่านี้อาจสามารถเกิดจากการสะสมของความเครียดในชั้นออกไซด์ตามอัตราสูงขึ้นของการเติบโตที่ 650◦C การเพิ่มขึ้นของขนาดของเมล็ดออกไซด์เป็นที่สังเกตเมื่อระยะเวลาเพิ่มขึ้นจาก 8 ถึง 24 ชั่วโมงเมื่อรับการรักษาที่ 500◦C ขณะคลุมผิวเพิ่มขึ้น และก่อตัวของก้อนออกไซด์จำนวนมากได้มีปฏิบัติที่ 650◦C ภายใต้เงื่อนไขที่คล้ายกัน ตั้งแต่การเจริญเติบโตของออกไซด์ เด่นชัดน้อยกว่าที่ 500◦C เพิ่มเติมศึกษาสมบัติจะจำกัดผู้ได้รับการรักษา ที่ 650◦C หรือสูงกว่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3. ผลการทดลองและการอภิปราย
3.1 ลักษณะของชั้นออกไซด์ที่เกิดขึ้นบน Ti-15Mo อัลลอยหลังจากการเกิดออกซิเดชันความร้อน
3.1.1 ลักษณะพื้นผิวของชั้นออกไซด์และวิวัฒนาการของมันเป็นหน้าที่ของการรักษาอุณหภูมิและเวลา
ที่มีคุณสมบัติทางสัณฐานวิทยาของชั้นออกไซด์พัฒนาบน Ti-15Mo อัลลอยหลังอย่าง 500 และ650◦Cเป็นเวลา 8 ชั่วโมงจะแสดงในมะเดื่อ 2 (ก) และ (ข) ตามลำดับ เมื่อได้รับการรักษาที่500◦Cเป็นเวลา 8 ชั่วโมง, พื้นผิวของ Ti-15Mo อัลลอยที่ปกคลุมไปด้วยธัญพืชบางออกไซด์ (รูป. 2 (ก)) เพิ่มขึ้นในการรักษาอุณหภูมิ 500 650◦Cนำไปสู่การเพิ่มขึ้นของอัตราการเจริญเติบโตของฟิล์มออกไซด์ที่เช่นเดียวกับขนาดของเมล็ดออกไซด์ที่ทำให้ฟิล์มออกไซด์ค่อนข้างหยาบ (รูป. 2 (ข)) นอกเหนือจากที่ เตรียม500◦C อย่างไรก็ตามข้อบกพร่องบางอย่างในรูปแบบของรูขุมขนและปรับหลุมอุกกาบาตขนาดใหญ่ที่มีการตั้งข้อสังเกตยัง (รูป. 2 (ข)) การเกิดข้อบกพร่องเหล่านี้สามารถนำมาประกอบกับการสะสมของความเครียดในชั้นออกไซด์ต่อไปนี้อัตราที่สูงขึ้นของการเจริญเติบโตที่650◦C การเพิ่มขนาดของเมล็ดออกไซด์เป็นที่สังเกตเมื่อเวลาในการรักษาจะเพิ่มขึ้น 8-24 ชั่วโมงเมื่อได้รับการรักษาที่500◦Cในขณะที่ความคุ้มครองพื้นผิวที่เพิ่มขึ้นและการก่อตัวของก้อนออกไซด์จำนวนมากมีการตั้งข้อสังเกตที่650◦Cภายใต้เงื่อนไขที่คล้ายกัน เนื่องจากการเจริญเติบโตของออกไซด์ที่เด่นชัดคือน้อยกว่าที่500◦Cการศึกษาลักษณะต่อไปจะถูก จำกัด ให้ผู้ที่รับการรักษาที่650◦Cหรือสูงกว่า