A titanium nitride (TiN)-based dye-

A titanium nitride (TiN)-based dye-sensitized solar cell is developed where TiN is used as a charge collector and TCO-less glass as a substrate. A nanocrystalline TiO2 film was deposited onto a TCO-less glass substrate using the radio frequency (r.f.) magnetron sputtering method and capped with a TiN film with a thickness of 66 to 167 nm, which was controlled by varying sputtering time. The crystal structure of TiN layers is analyzed using XRD, chemical bonding nature and composition (TiN0.95) were confirmed by XPS and RBS, respectively. Cross-sectional scanning electron microscopic images confirmed the columnar structure of TiN films. Electrical resistance is exponentially decayed and approaches 4.4 Ω as the TiN film thickness increases up to 167 nm. The photovoltaic property is significantly influenced by the TiN film thickness. The energy conversion efficiency increases from 3.3% to 6.8% with increasing the TiN film thickness from 66 nm to 86 nm, where an increase in fill factor from 0.33 to 0.64 is mainly responsible for the efficiency improvement. The highest efficiency of 7.4% is obtained with a 136 nm-thick TiN film and declines to 5.8% at 167 nm, resulting in a one order of magnitude retarded diffusion rate of I3−. A long-term stability test was performed for 1000 h and compared with a cell with pure Ti metal. The TiN-based cell maintains an efficiency of 84% after 1000 h, while the efficiency of the Ti-based cell is degraded by 34%, indicating that TiN is more stable than Ti in the TCO-less dye-sensitized solar cell.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Nitride ไทเทเนียม (TiN) -ตาม sensitized ย้อมเซลล์แสงอาทิตย์คือพัฒนาที่มีใช้ดีบุกเป็นการเก็บค่าธรรมเนียมโดย - น้อยแก้วเป็นกับพื้นผิว Nanocrystalline TiO2 ฟิล์มฝากลงบนพื้นผิวแก้วน้อยโดยการใช้ magnetron คลื่นความถี่วิทยุ (r.f.) วิธีสปัตเตอร์ และปรบมือ ด้วยฟิล์มดีบุก มีความหนาของ 66-167 nm ซึ่งถูกควบคุม โดยเวลาพ่นที่แตกต่างกัน โครงสร้างผลึกดีบุกชั้นจะวิเคราะห์โดยใช้ XRD เคมียึดธรรมชาติและองค์ประกอบ (TiN0.95) ถูกยืนยัน โดย XPS และ RBS ตามลำดับ เหลวสแกนอิเล็กตรอนด้วยกล้องจุลทรรศน์ภาพยืนยันโครงสร้างการเรียงเป็นแนวตั้งของทินฟิล์ม ความต้านทานไฟฟ้าจะสร้างผุ และยื่น 4.4 Ωเป็นความหนาของฟิล์มดีบุกเพิ่มถึง 167 nm คุณสมบัติเซลล์แสงอาทิตย์อย่างมีนัยสำคัญมีผลต่อความหนาฟิล์มดีบุก แปลงพลังงานเพิ่มขึ้น 3.3% จาก 6.8% พร้อมเพิ่มความหนาของฟิล์มดีบุกจาก 66 nm การ 86 nm ส่วนใหญ่ชอบปรับปรุงประสิทธิภาพในการเพิ่มเติมปัจจัยจาก 0.33 0.64 ประสิทธิภาพสูงสุด 7.4% ได้รับกับ 136 ฟิล์มดีบุกหนา nm และลดอัตราการ 58% ที่ 167 nm ในอัตราแพร่ retarded หนึ่งสั่งของขนาด I3− การทดสอบเสถียรภาพระยะยาวสำหรับ 1000 h และเปรียบเทียบกับเซลล์ที่มีตี้โลหะบริสุทธิ์ เซลล์ดีบุกใช้รักษามีประสิทธิภาพ 84% หลัง 1000 h ในขณะที่ประสิทธิภาพของเซลล์ตามตี้จะเสื่อมโทรม 34% ระบุว่า ดีบุกล้ำกว่าตี้ในน้อยโดย sensitized ย้อมพลังงานแสงอาทิตย์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไนไตรด์ไททาเนียม (ดีบุก) ตามเซลล์แสงอาทิตย์สีไวแสงได้รับการพัฒนาที่ดีบุกจะใช้เป็นค่าใช้จ่ายสะสมและกระจก TCO น้อยเป็นสารตั้งต้น ผลึกนาโนฟิล์ม TiO2 ถูกวางลงบนพื้นผิวกระจก TCO น้อยโดยใช้คลื่นความถี่วิทยุ (RF) วิธีการสปัตเตอร์แมกและปกคลุมด้วยฟิล์มดีบุกที่มีความหนาของ 66-167 นาโนเมตรซึ่งถูกควบคุมโดยการเปลี่ยนแปลงเวลาสปัตเตอร์ โครงสร้างผลึกของชั้น TiN มีการวิเคราะห์โดยใช้ XRD ธรรมชาติพันธะเคมีและองค์ประกอบ (TiN0.95) ได้รับการยืนยันโดย XPS และ RBS ตามลำดับ ตัดอิเล็กตรอนสแกนภาพกล้องจุลทรรศน์ยืนยันโครงสร้างเสาของภาพยนตร์ดีบุก ความต้านทานไฟฟ้าจะสลายตัวไปชี้แจงและแนวทาง 4.4 Ωเป็นฟิล์มดีบุกเพิ่มขึ้นความหนาถึง 167 นาโนเมตร สถานที่ให้บริการไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ได้รับอิทธิพลอย่างมีนัยสำคัญโดยความหนาของฟิล์มดีบุก เพิ่มประสิทธิภาพการแปลงพลังงานจาก 3.3% เป็น 6.8% โดยมีการเพิ่มความหนาของฟิล์มดีบุกจาก 66 นาโนเมตรถึง 86 นาโนเมตรที่เพิ่มขึ้นในปัจจัยที่เติม 0.33-0.64 เป็นหลักรับผิดชอบในการปรับปรุงประสิทธิภาพ ที่มีประสิทธิภาพสูงสุดของ 7.4% ได้ด้วยนาโนเมตรหนาฟิล์มดีบุก 136 และลดลง 5.8% อยู่ที่ 167 นาโนเมตรส่งผลให้อยู่ในลำดับที่หนึ่งของขนาดอัตราการแพร่ปัญญาอ่อนของ I3- การทดสอบความมั่นคงในระยะยาวได้ดำเนินการ 1000 ชั่วโมงและเมื่อเทียบกับมือถือที่มีโลหะ Ti บริสุทธิ์ เซลล์ดีบุกที่ใช้รักษาประสิทธิภาพของ 84% หลังจาก 1,000 ชั่วโมงในขณะที่ประสิทธิภาพของเซลล์ Ti-ตามที่มีการสลายตัวโดย 34% แสดงให้เห็นว่า TiN มีเสถียรภาพมากขึ้นกว่า Ti ในเซลล์ TCO น้อยสีไวแสงพลังงานแสงอาทิตย์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไททาเนียมไนไตรด์ ( ดีบุก ) ซึ่งต้นแบบเซลล์แสงอาทิตย์ถูกพัฒนาขึ้นที่บุกใช้เป็นค่าใช้จ่ายสะสมและ TCO น้อยแก้วเป็นสับสเตรท ฝากบนฟิล์ม TiO2 เป็น nanocrystalline TCO น้อยกว่าแผ่นแก้วโดยใช้ความถี่วิทยุ ( r.f. ) ตรอนสปัตเตอริงวิธีและปกคลุมด้วยฟิล์มดีบุกที่มีความหนา 66 167 nm ซึ่งถูกควบคุมโดยการรายงานเวลาโครงสร้างผลึกของชั้นดีบุกโดยใช้ XRD , พันธะธรรมชาติและองค์ประกอบทางเคมี ( tin0.95 ) ได้รับการยืนยันโดย XPS และ RBS ตามลำดับ กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนสแกนภาพตัดขวางแล้วมีโครงสร้างของฟิล์มดีบุก ความต้านทานจะชี้แจงแนวทางΩผุ 4.4 เป็นดีบุกฟิล์มความหนาเพิ่มขึ้นถึง 167 nm .คุณสมบัติเซลล์แสงอาทิตย์เป็นอิทธิพลอย่างมากโดยดีบุกฟิล์มหนา ประสิทธิภาพการใช้พลังงานเพิ่มขึ้นจากร้อยละ 3.3 ถึง 6.8 % ด้วยการเพิ่มความหนาของฟิล์มดีบุกจาก 66 nm 86 nm ที่เพิ่มเติมจาก 0.33 ปัจจัย 4 เป็นหลักรับผิดชอบในการปรับปรุงประสิทธิภาพ . ประสิทธิภาพสูงสุด 7.4 เปอร์เซ็นต์กับ 136 nm หนาดีบุกฟิล์มและลดลงถึง 58 % ที่ 167 nm ส่งผลให้หนึ่งอันดับของขนาด ( อัตราการแพร่ของ I3 − . การทดสอบเสถียรภาพระยะยาว แบ่งเป็น 1 , 000 ชั่วโมงและเมื่อเทียบกับเซลล์บริสุทธิ์ Ti โลหะ ดีบุกที่ใช้เซลล์รักษาประสิทธิภาพของ 84 % หลังจาก 1000 H ในขณะที่เซลล์ตามประสิทธิภาพของ Ti คือการสลายตัวโดย 34 % แสดงว่าดีบุกมั่นคงกว่า Ti ใน TCO ต้นแบบเซลล์แสงอาทิตย์
น้อย .