This step is most important from th

This step is most important from the viewpoint of transistor characteristics.
A gate oxide film greatly influences the performance and reliability of a transistor, and should therefore be a high-density thin film uniformly distributed over the wafer surface.
Since the size of the gate formed may also greatly influence the performance of the transistor, strict dimensional control is necessary in both photo resist patterning and gate etching.
Gate electrodes are formed of polysilicon (polycrystalline silicon) by CVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ขั้นตอนนี้เป็นสำคัญโดยคำนึงถึงลักษณะของทรานซิสเตอร์ ประตูฟิล์มออกไซด์มากมีอิทธิพลต่อประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของตัวทรานซิสเตอร์ และควรจึงเป็นฟิล์มบางมีความหนาแน่นสูงกระจายบนพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ เนื่องจากขนาดของประตูที่เกิดขึ้นอาจยังมีอิทธิพลต่อประสิทธิภาพการทำงานของทรานซิสเตอร์ ควบคุมมิติที่เข้มงวดเป็นสิ่งจำเป็นในภาพทั้งสอง ต่อต้านแบบและแกะสลักประตู ประตูอิเล็กโทรดเกิดขึ้นของ polysilicon (polycrystalline silicon) โดย CVD

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ขั้นตอนนี้เป็นสิ่งสำคัญที่สุดจากมุมมองของลักษณะทรานซิสเตอร์.
ภาพยนตร์ประตูออกไซด์มากมีผลต่อประสิทธิภาพการทำงานและความน่าเชื่อถือของทรานซิสเตอร์และดังนั้นจึงควรจะมีความหนาแน่นสูงฟิล์มบาง ๆ กระจายทั่วพื้นผิวเวเฟอร์.
เนื่องจากขนาดของประตูที่เกิดขึ้น นอกจากนี้ยังอาจมีอิทธิพลอย่างมากประสิทธิภาพการทำงานของทรานซิสเตอร์การควบคุมที่เข้มงวดมิติเป็นสิ่งที่จำเป็นในภาพทั้งต่อต้านการเลียนแบบและการแกะสลักประตู.
ขั้วไฟฟ้าประตูที่เกิดขึ้นของโพลีซิลิคอน (Silicon polycrystalline) โดย บริษัท ซีวีดี

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนนี้เป็นสิ่งสำคัญที่สุดจากมุมมองของลักษณะของทรานซิสเตอร์ประตูออกไซด์ฟิล์มอย่างมากมีผลต่อประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของ ทรานซิสเตอร์ และดังนั้นจึงควรมีความหนาแน่นสูงชนิดฟิล์มบางจุดกระจายไปทั่วพื้นผิวเวเฟอร์เนื่องจากขนาดของประตูที่เกิดขึ้นอาจมีผลอย่างมากกับประสิทธิภาพของทรานซิสเตอร์ควบคุมมิติจำเป็นต้องเข้มงวดทั้งในรูปและการต่อต้านภาษาประตู .รูปแบบของประตูไฟฟ้า ( Polycrystalline Silicon Polysilicon ) โดยซีวีดี