Characterization of HfOxNy Thin Fil

Characterization of HfOxNy Thin Film Formation by in-situ Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using NH3 and N2 Plasmas

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

คุณสมบัติของ HfOxNy บางฟิล์มก่อโดยวิเคราะห์ในพลาสมาเพิ่มอะตอมชั้นสะสมใช้ NH3 N2 Plasmas

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลักษณะของ HfOxNy สร้างฟิล์มบางโดยในแหล่งกำเนิดพลาสม่าที่เพิ่มขึ้นสะสมอะตอมชั้นใช้ NH3 และ N2 พลาสมา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การศึกษาคุณสมบัติของฟิล์มบางโดย hfoxny ควบคู่การพลาสมาเพิ่มสะสมชั้นอะตอมโดยใช้ nh3 และ N2 พลาสมา