In a magnetron sputtering system, f

In a magnetron sputtering system, for any given set of deposition conditions, the ion current delivered to the growing film depends on the strength and design of the magnetic array in the magnetron. Clearly, in most cases this is fixed. However, new magnetrons have now been developed in which the magnetic array can be varied in situwithout the use of electromagnets [12]. 

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในระบบแมกสปัตเตอร์, สำหรับการตั้งค่าที่กำหนดเงื่อนไขใด ๆ สะสมปัจจุบันไอออนส่งมอบให้กับภาพยนตร์ที่กำลังเติบโตขึ้นอยู่กับความแข็งแรงและการออกแบบของอาเรย์แม่เหล็กในแมก อย่างเห็นได้ชัดในกรณีส่วนใหญ่นี้ได้รับการแก้ไข แต่ magnetrons ใหม่ตอนนี้ได้รับการพัฒนาที่อาร์เรย์แม่เหล็กสามารถแตกต่างกันใน situwithout ใช้แม่เหล็กไฟฟ้า [12]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ใน magnetron พ่นระบบ ชุดใด ๆ กำหนดเงื่อนไขสะสม ไอออนที่ปัจจุบันส่งฟิล์มเติบโตขึ้นอยู่กับความแข็งแรงและการออกแบบของอาร์เรย์ใน magnetron แม่เหล็ก อย่างชัดเจน ในกรณีส่วนใหญ่ นี้เป็นถาวร อย่างไรก็ตาม magnetrons ใหม่ได้ตอนนี้ถูกพัฒนาขึ้นในซึ่งแถวแม่เหล็กอาจจะแตกต่างกันใน situwithout ใช้ electromagnets [12] 

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในระบบละล่ำละลัก magnetron สำหรับตั้งค่าใดๆที่กำหนดไว้ในเงื่อนไขคำให้การในปัจจุบันไอออนที่ถูกส่งไปยัง ภาพยนตร์ ที่เติบโตขึ้นอยู่กับการออกแบบและความแรงของที่เป็นแม่เหล็กของความหลากหลายใน magnetron ได้ ได้อย่างชัดเจนในกรณีส่วนใหญ่เป็นแบบคงที่ แต่ถึงอย่างไรก็ตาม magnetrons ใหม่ได้รับการพัฒนาขึ้นมาในหลากหลายซึ่งเป็นแม่เหล็กที่สามารถที่หลากหลายใน situwithout ใช้ electromagnets [ 12 ]แล้ว