the telecommunication C band at aro

the telecommunication C band at around
1550 nm have multi-scale structures that are typically micron-scale waveguides and deep
sub-micron-scale air hole arrays. Several steps of nanolithography and photolithography are
usually used for the fabrication of multi-scale photonic crystals. In this work, we report a
one-step lithography process to pattern both micron and deep sub-micron features
simultaneously for the 2D slab photonic crystal using combined-nanoimprint-andphotolithography.
As a demonstrator, a 2D silicon photonic crystal transverse magnetic
(TM) polarizer was fabricated, and the operation was successfully demonstrated.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วงการโทรคมนาคม C ที่รอบ
1550 nm มีโครงสร้างหลายระดับที่เป็นปกติ waveguides ไมครอนขนาดและลึก
หลุมอากาศย่อยไมครอนขนาดอาร์เรย์ ขั้นตอนต่าง ๆ ของ nanolithography และ photolithography
มักใช้ผลิตของผลึก photonic หลายอัตรา ในงานนี้ เรารายงานตัว
กระบวนการขั้นตอนที่ 1 ภาพพิมพ์หินรูปแบบไมครอนและคุณลักษณะย่อยไมครอนลึก
พร้อมสำหรับใช้คริสตัล photonic พื้น 2D รวม-nanoimprint-andphotolithography.
เป็น demonstrator การเป็นซิลิคอน 2D คริสตัล photonic transverse magnetic
(TM) ส่วนหลังถูกสร้าง และสำเร็จได้สาธิตการดำเนินการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

วงโทรคมนาคม C ที่รอบ
1,550 นาโนเมตรมีโครงสร้างหลายระดับที่เป็นปกติท่อนำคลื่นไมครอนใหญ่และลึก
ย่อยไมครอนขนาดอาร์เรย์รูอากาศ หลายขั้นตอนของนาโนและ photolithography จะ
มักจะใช้สำหรับการผลิตของหลายขนาดโทนิคคริสตัล ในงานนี้เรารายงาน
กระบวนการพิมพ์หินขั้นตอนเดียวกับรูปแบบทั้งไมครอนและลึกย่อยไมครอนมี
พร้อมสำหรับ 2D แผ่นคริสตัลโทนิคใช้ร่วมชุด nanoimprint-andphotolithography
เป็นสาธิต, ซิลิกอนผลึกโทนิค 2D แม่เหล็กตามขวาง
(TM) โพลาไรเซอร์ได้รับการประดิษฐ์และการดำเนินงานที่ประสบความสำเร็จได้รับการแสดงให้เห็นถึง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โทรคมนาคม c วงรอบ
1550 nm มีโครงสร้างหลายมาตราส่วนที่มักจะไมครอนขนาด waveguides และลึก
ซับไมครอน ขนาดรูอากาศอย่างต่อเนื่อง และมีหลายขั้นตอนของนาโนลิโทกราฟี 43
มักจะใช้สำหรับการผลิตของผลึกโฟโตนิกส์หลายมาตราส่วน . ในงานนี้เรารายงาน
ขั้นตอนเดียวกระบวนการ lithography ลายทั้งลึกและซับไมครอนคุณสมบัติ
ไมครอนพร้อมกันสำหรับ 2D พื้นโฟโตนิกส์คริสตัลใช้ andphotolithography nanoimprint รวมกัน
เป็นผู้สาธิต , 2D ซิลิคอนผลึกโฟโตนิกส์ตามขวางแม่เหล็ก
( TM ) polarizer ถูกประดิษฐ์และการดำเนินงานได้สำเร็จอีกด้วย