Reactive ion etching (RIE) uses bot

Reactive ion etching (RIE) uses both physical and chemical mechanisms to achieve high levels
of resolution. The process is one of the most diverse and most widely used processes in industry
and research. Since the process combines both physical and chemical interactions, the process is
much faster. The high energy collision from the ionization helps to dissociate the etchant
molecules into more reactive species.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แกะสลักไอออนปฏิกิริยา (RIE) ใช้กลไกทั้งทางกายภาพ และทางเคมีเพื่อให้บรรลุระดับสูงความละเอียด กระบวนการเป็นกระบวนการหลากหลายที่สุด และใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมอย่างใดอย่างหนึ่งและการวิจัย เนื่องจากกระบวนการรวมการปฏิสัมพันธ์ทั้งทางกายภาพ และเคมี กระบวนการคือเร็วมาก พลังงานสูงชนจากการไอออไนซ์ช่วยให้ etchant แยกตัวออกโมเลกุลเป็นพันธุ์ปฏิกิริยาไวขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ไอออนแกะสลักปฏิกิริยา (ริเอะ) ใช้กลไกทั้งทางกายภาพและเคมีเพื่อให้บรรลุระดับสูง
ของการแก้ปัญหา กระบวนการนี้เป็นกระบวนการหนึ่งในกระบวนการที่มีความหลากหลายมากที่สุดและใช้กันอย่างแพร่หลายมากที่สุดในอุตสาหกรรม
และการวิจัย ตั้งแต่กระบวนการรวมทั้งการมีปฏิสัมพันธ์ทางกายภาพและเคมีกระบวนการนี้
ได้เร็วขึ้นมาก การปะทะกันพลังงานสูงจากไอออนไนซ์จะช่วยให้การแยกตัวออก etchant
โมเลกุลเข้าไปในสายพันธุ์ปฏิกิริยา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปฏิกิริยาไอออนแกะสลัก ( ริเอะ ) ใช้กลไกทั้งทางกายภาพและทางเคมี เพื่อให้บรรลุในระดับสูงความละเอียด ขั้นตอนหนึ่งของกระบวนการที่หลากหลายที่สุดและใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมและการวิจัย เนื่องจากกระบวนการผสมผสานปฏิสัมพันธ์ทั้งทางกายภาพและทางเคมี กระบวนการคือได้เร็วขึ้นมาก สูงพลังงานการชนจากไอช่วยแยกการ etchantโมเลกุลเป็นปฏิกิริยาชนิด