We can choose to perform selective

We can choose to perform selective implantation, in which regions are selectively implanted with accelerated ions by using a patterned layer of material such as silicon dioxide or photoresist, as shown in Fig. 2.17.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เราสามารถเลือกที่จะดำเนินการเลือกปลูกซึ่งในภูมิภาคท​​ี่มีการปลูกคัดเลือกด้วยไอออนเร่งโดยใช้ชั้นลวดลายของวัสดุเช่นซิลิกอนไดออกไซด์หรือสารไวแสงดังแสดงในรูปที่ 2.17

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เราสามารถเลือกที่จะทำงานประดิษฐ์ ที่ภูมิภาคจะเลือก implanted กับเร่งประจุโดยชั้นของวัสดุเช่นซิลิกอนไดออกไซด์หรือ photoresist ลวดลายตามที่แสดงใน Fig. 2.17

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เราสามารถเลือกที่จะทำการปลูกเพิ่มในที่พื้นที่ที่ได้ปลูกถ่ายด้วยไอออนเร่งตัวขึ้นโดยใช้ชั้นแบบมีลวดลายของวัสดุต่างๆเช่น photoresist หรือซิลิคอนตามที่แสดงในรูปที่เลือก ร้อยละ 2.17 .