Exposure to ClO2 gas resulted in 0.

Exposure to ClO2 gas resulted in 0.20, 0.33, 0.66, and 1.54 log reductions in SG at 10, 20, 40, and 80 ppm, respectively, for 5 min under the dry condition without organic matter (Fig. 7). The reductions in SG were 0.70, 1.02, 1.18, and 1.97 log under the wet condition without organic matter. Significant differences were found between the dry condition and wet condition at 10 ppm (p

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สัมผัสกับแก๊ส ClO2 ผล 0.20, 0.33, 0.66 และลดจำนวน 1.54 ล็อกที่ 10, 20, 40 และ 80 ppm ตามลำดับ 5 นาทีภายใต้สภาวะแห้งโดยอินทรีย์ (7 รูป) ลดในจำนวน 0.70, 1.02, 1.18 และ 1.97 ล็อกภายใต้สภาวะเปียกโดยอินทรีย์ได้ พบความแตกต่างที่สำคัญระหว่าง 10 ppm สภาพเปียกและแห้ง (p < 0.05), 20 ppm (p < 0.001), 40 ppm (p < 0.01), และ 80 ppm (p < 0.05)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การสัมผัสกับก๊าซ ClO2 ผลใน 0.20, 0.33, 0.66, 1.54 และลดลงเข้าสู่ระบบ SG ที่ 10, 20, 40, และ 80 ppm ตามลำดับเวลา 5 นาทีภายใต้สภาพแห้งโดยไม่ต้องสารอินทรีย์ (รูปที่. 7) การลดลงใน SG เป็น 0.70, 1.02, 1.18 และ 1.97 เข้าสู่ระบบภายใต้สภาพเปียกโดยไม่ต้องสารอินทรีย์ ความแตกต่างอย่างมีนัยสำคัญระหว่างสภาพแห้งและสภาพเปียกที่ 10 ppm (p <0.05) 20 ppm (p <0.001) 40 ppm (p <0.01) และ 80 ppm (p <0.05)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การ clo2 แก๊ส ( 0.20 , 0.33 , 0.66 และ 1.54 เข้าสู่ระบบ ( SG ที่ 10 , 20 , 40 และ 80 ppm ตามลำดับ สำหรับ 5 นาทีในสภาพที่แห้ง ไม่มีอินทรีย์วัตถุ ( รูปที่ 7 ) ลดลงใน SG ) 0.70 , 1.02 , 1.18 และ 1.97 เข้าสู่ระบบภายใต้เงื่อนไขเปียกปราศจากสารอินทรีย์ พบว่ามีความแตกต่างระหว่างสภาพแห้งและสภาพเปียกที่ 10 ppm ( P < 0.05 ) และ 20 ppm ( p < 0.001 ) , 40 ppm ( P < 0.01 ) และ 80 มิลลิกรัม ( p < 0.05 )