Treatment and Use of the Kiviter Pr

Treatment and Use of the Kiviter Process Phenolic Water
During the period of 1991–1998 intensive studies on chemical oxidation of
different phenolic effluents (containing phenol, cresols, resorcinols,
5-methylresorcinol, etc.) were carried out at the Chemical Engineering Department
of Tallinn Technical University [4–8]. Ozone, hydrogen peroxide,
UV-radiation as well as advanced oxidation processes such as O3/H2O2,
O3/UV, H2O2/UV, H2O2/Fe(II), O3/H2O2/UV were tested. It was shown that,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รักษาและการใช้น้ำฟีนอ Kiviter กระบวนการช่วง 1991 1998 การศึกษาเร่งรัดการเกิดออกซิเดชันทางเคมีของeffluents ฟีนอแตก (ประกอบด้วยวาง cresols, resorcinols5 methylresorcinol ฯลฯ .) ได้ดำเนินการในภาควิชาวิศวกรรมเคมีของมหาวิทยาลัยเทคนิคทาลลินน์ [4 8] โอโซน ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์รังสี UV เป็นออกซิเดชันขั้นสูงการประมวลผลเช่น O3/H2O2มีทดสอบ O3/UV, H2O2/UV, H2O2/Fe(II), O3 H2O2/UV จะถูกแสดงที่

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การรักษาและการใช้กระบวนการ Kiviter Phenolic
น้ำในช่วงปี1991 ?? 1998
การศึกษาอย่างเข้มข้นในการเกิดออกซิเดชันทางเคมีของน้ำทิ้งฟีนอลที่แตกต่างกัน(ที่มีฟีนอล cresols, resorcinols,
5 methylresorcinol ฯลฯ )
ได้ดำเนินการที่ภาควิชาวิศวกรรมเคมีของมหาวิทยาลัยทาลลินน์ทางเทคนิค [4 ?? 8] โอโซนไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์รังสียูวีเช่นเดียวกับกระบวนการออกซิเดชั่ขั้นสูงเช่น O3 / H2O2, O3 / ยูวี H2O2 / ยูวี H2O2 / เฟ (II), O3 / H2O2 / ยูวีได้รับการทดสอบ มันแสดงให้เห็นว่า

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การรักษาและการใช้กระบวนการ kiviter
น้ำดำ ระหว่างปี พ.ศ. 2534 - 2541 เร่งรัดการศึกษาออกซิเดชันทางเคมีของน้ำทิ้งฟีโนลิก ( ที่มีฟีนอลที่แตกต่างกัน

resorcinols บะ " , , , 5-methylresorcinol ฯลฯ ) ได้ดำเนินการศึกษาในภาควิชาวิศวกรรมเคมี มหาวิทยาลัยเทคนิค
ที่ 4 - [ 8 ] โอโซน , ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ,
รังสี UV รวมทั้งกระบวนการออกซิเดชันขั้นสูงเช่น H2O2 O3
/ , O3 / UV H2O2 / UV H2O2 / Fe ( II ) O3 / แบตเตอรี่ / UV ถูกทดสอบ พบว่า