Photolytic cleavage reactions (e.g.

Photolytic cleavage reactions (e.g., of o-nitrobenzyl, phenacyl, and nitrophenylsulfenyl
derivatives) take place in high yield on irradiation of the protected compound
for a few hours at 254–350 nm. For example, the o-nitrobenzyl group, used to
protect alcohols,13 amines,14 and carboxylic acids,15 has been removed by irradiation.
Protective groups that have been removed by photolysis are described at the appropriate
places in this book; in addition, the reader may wish to consult fi ve review
articles.16–20

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ปฏิกิริยาความแตกแยก photolytic (เช่นของ o-Nitrobenzyl, phenacyl และ nitrophenylsulfenyl
อนุพันธ์)
เกิดขึ้นในอัตราผลตอบแทนที่สูงในการฉายรังสีของสารประกอบที่มีการป้องกันไม่กี่ชั่วโมงที่254-350 นาโนเมตร ยกตัวอย่างเช่นกลุ่ม o-Nitrobenzyl
ที่ใช้ในการปกป้องแอลกอฮอล์, เอมีน 13, 14 และกรดคาร์บอกซิ 15 ได้ถูกลบออกโดยการฉายรังสี.
กลุ่มป้องกันที่ถูกลบออกโดย photolysis
จะมีคำอธิบายที่เหมาะสมสถานที่ในหนังสือเล่มนี้ นอกจากนี้ผู้อ่านอาจต้องการที่จะให้คำปรึกษาได้ตรวจสอบไฟ
articles.16-20

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปฏิกิริยาการ photolytic ( เช่นของ o-nitrobenzyl ฟีนาซิล , และ nitrophenylsulfenyl
อนุพันธ์ ) เกิดขึ้นในอัตราผลตอบแทนสูงในการฉายรังสีป้องกันสาร
ไม่กี่ชั่วโมงที่ 254 – 350 nm . ตัวอย่างเช่น กลุ่ม o-nitrobenzyl เคย
ป้องกันแอลกอฮอล์ 13 เอมีน และกรดอินทรีย์ 15 ได้ถูกลบออกโดยการฉายรังสี .
กลุ่มป้องกันที่ได้รับการลบออกโดยโฟโตไลซิสได้อธิบายไว้ในสถานที่ที่เหมาะสม
ในหนังสือเล่มนี้ นอกจากผู้อ่านอาจต้องการปรึกษา Fi ได้ทบทวน
16 – 20 บทความ