pair solution 5 was less corrosive

pair solution 5 was less corrosive to zamak than 3. The corrosion on
zamak that did not have contact with other metal also happened in
such solutions (such data are shown as footnote in Table 3) [20], but
the corrosion rate was lower than the obtained in this work.
Moreover, the materials that were the cathodes of the process, as
previously stated, were not affected by galvanic corrosion, but their
corrosion happened when they were immersed alone in the same 5
alcoholic solutions [20]. Therefore, the results showed that both
galvanic contact and chemical composition of alcoholic solutions
affected significantly the corrosion of zamak.
In Figs. 2–4, which show the zamak specimens after 3 weeks of
immersion in solutions 1–5, it can be observed that, in fact, the
increase of water and impurities in ethanolic solutions enhance their
corrosive action to zamak. The same was observed in our previous
work, when zamak was immersed in the same 5 alcoholic solutions,
but without contact with other materials [20]. All the results are in
agreement to previous ones that showed that the amount of water
and pH of many organic liquids are related to the corrosion of zinc. In
fact, this metal is attacked rapidly when a high content of water is
present because of the lack of access to oxygen [21]. Besides the
increase of water content and temperature, the corrosion rate of zinc
also increases due to the stabilization of corrosion products by water
molecules [22,23]. Figs. 2–4 also show that in AEAC and AEHC, which
have a low conductivity, the corrosive process of zamak occurs mainly
in the interface contact area and in the other solutions the corrosion
happens in the entire length of the specimens. The occurrence of
corrosion in the interface area is characteristic of a galvanic process.
The results obtained in this work are very encouraging since AEHC
and AEAC had a low action on the galvanic corrosion of zamak, which
can be better observed by optic microscopy. In fact, only alcoholic
solutions 3–5, which simulate practices of adulteration or inadequate
handle and storage of alcohol fuel, caused a substantial weight loss of
the material (Table 3). The corrosion rates of zamak in such solutions
were 7–200 times greater than that obtained in AEHC. Therefore, the
results indicated that the amount of water and some impurities
(sulfate, chloride, acetate, etc.) influences significantly the corrosive
effect of alcoholic solutions. As stated before, water and such impurities
can derive from the alcohol production process, inadequate
handle and storage, and illegal practice of adulteration. Such fact
points out to the importance of both assuring the quality of alcohol
fuel and investigating the effect of water and impurities on materials
corrosion.
Regarding the galvanic contact of zamak with some materials, the
worst obtained case was the coupling of zamak and 1010 steel,
although the other pairs also had a significant effect on the integrity of
zamak. In general, the corrosion of zamak happens on intergranular
levels and the amount of Al and traces of lead or tin are critical factors
to its corrosion resistance. Thus, the decrease of Al amount and the
increase of Pb content enhance zamak corrosion [19,23].
The results obtained in the present work indicated that the galvanic
contact between zamak and some materials must be avoided in the
presence of non-conform alcohol fuel (failing Brazilian specification),
i.e., that contain high amounts of water and other ionic impurities.
The scanning electron microscopy and energy dispersive
spectroscopy (SEM–EDS) analyses of the zamak specimens showed
that products from the corrosive process were mainly composed by
Zn, Al, Cu, O, Cl, and S. This indicates the formation of oxides (or
hydroxides) of the main components of zamak (Zn, Al, and Cu) and
also the importance of chloride and sulfur on the galvanic corrosion
of zamak.
As stated before, specific mass, ethanolic content, pH and conductivity
of solutions 1–5 were analyzed before and after the assays
(Table 2). The results of such analyses indicated mainly the increase of
pH and conductivity. Specially, the enhancing of these parameters was
observed in the solutions that were in contact with zamak–1010 steel,
which showed high corrosive process of zamak. The increase of pH
can be explained by the redissolution of corrosive products that were
formed. However, such hypothesis needs further investigations.
Therefore, the results indicated that the galvanic corrosion of
zamak can occur in alcoholic solutions that contain high amounts of
water and some impurities, mainly if zamak was kept together to

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โซลูชั่นคู่ 5 ถูกกัดกร่อนน้อยไป zamak กว่า 3 ทนต่อการกัดกร่อนในzamak ที่ไม่ได้ติดต่อกับโลหะอื่น ๆ นอกจากนี้ยังเกิดขึ้นในโซลูชั่นดังกล่าว (ข้อมูลดังกล่าวจะแสดงเป็นเชิงอรรถในตารางที่ 3) [20], แต่อัตราการกัดกร่อนต่ำกว่าได้รับในงานนี้ได้นอกจากนี้ วัสดุที่ถูก cathodes การ เป็นระบุก่อนหน้านี้ ไม่ได้รับผลกระทบ โดยการกัดกร่อน galvanic แต่พวกเขากัดกร่อนเกิดขึ้นเมื่อพวกเขาได้ไปคนเดียวใน 5 เหมือนกันแอลกอฮอล์การแก้ไขปัญหา [20] ดังนั้น ผลชี้ให้เห็นว่าทั้งสองติดต่อ galvanic และองค์ประกอบทางเคมีของโซลูชั่นที่มีแอลกอฮอล์ผลกัดกร่อนของ zamak อย่างมีนัยสำคัญใน Figs. 2-4 ที่แสดงไว้เป็นตัวอย่างที่ zamak หลังจากสัปดาห์ที่ 3 ของแช่ในโซลูชั่น 1-5 มันจะสังเกตได้จากที่ ในความเป็นจริง การเพิ่มขึ้นของน้ำและสิ่งสกปรกในโซลูชั่น ethanolic ของพวกเขาการกัดกร่อนการ zamak เหมือนที่พบในของเราก่อนหน้านี้ทำงาน เมื่อ zamak ถูกแช่อยู่ในเดียวกัน 5 แอลกอฮอล์โซลูชั่นแต่ไม่ มีการติดต่อกับวัสดุอื่น ๆ [20] ผลลัพธ์ทั้งหมดที่อยู่ในตกลงที่ก่อนหน้านี้พบว่าปริมาณของน้ำและค่า pH ของของเหลวอินทรีย์หลายเกี่ยวข้องกับการกัดกร่อนของสังกะสี ในความจริง โลหะนี้โจมตีอย่างรวดเร็วเมื่อเนื้อหาที่สูงของน้ำปัจจุบันเนื่องจากไม่สามารถเข้ากับออกซิเจน [21] สำรองห้องพักเพิ่มปริมาณน้ำ และอุณหภูมิ อัตราการกัดกร่อนของสังกะสีนอกจากนี้ยัง เพิ่มขึ้นเนื่องจากเสถียรภาพของผลิตภัณฑ์การกัดกร่อนโดยน้ำโมเลกุล [22,23] Figs. 2-4 แสดงที่ AEAC และ AEHC ซึ่งได้นำต่ำ การกัดกร่อนของ zamak เกิดขึ้นส่วนใหญ่ในพื้นที่ติดต่ออินเทอร์เฟซ และโซลูชั่นอื่น ๆ การกัดกร่อนเกิดขึ้นทั้งความยาวของตัวไว้เป็นตัวอย่าง การเกิดขึ้นของกัดกร่อนในอินเทอร์เฟซเป็นลักษณะของกระบวนการบิผลได้รับในงานนี้มีกำลังใจมากตั้งแต่ AEHCและ AEAC มีการดำเนินการต่ำทนต่อการกัดกร่อนแบบ galvanic ของ zamak ซึ่งจะดีขึ้นสังเกตได้จาก โดย microscopy ใยแก้วนำแสง ในความเป็นจริง แอลกอฮอล์เท่านั้นโซลูชั่น 3-5 ซึ่งจำลองปฏิบัติ adulteration หรือไม่เพียงพอจัดการและการจัดเก็บเชื้อเพลิงแอลกอฮอล์ ทำให้เกิดการสูญเสียน้ำหนักที่พบวัสดุ (ตาราง 3) อัตราการกัดกร่อนของ zamak ในการแก้ไขปัญหาดังกล่าวได้ 7 – 200 ครั้งมากกว่าที่ได้ใน AEHC ดังนั้น การแสดงผลที่จำนวนน้ำและสิ่งสกปรกบางอย่าง(ซัลเฟต คลอไรด์ acetate ฯลฯ) มีผลต่อการกัดกร่อนมากผลของแอลกอฮอล์โซลูชั่น ตามที่ระบุไว้ก่อน น้ำและสิ่งสกปรกดังกล่าวสามารถสืบทอดมาจากแอลกอฮอล์กระบวนการผลิต ไม่เพียงพอจัดการ และจัดเก็บข้อมูล และ adulteration ปฏิบัติไม่ถูกต้อง ข้อเท็จจริงดังกล่าวคะแนนออกให้ความสำคัญของคุณภาพของแอลกอฮอล์ทั้งสองมั่นใจเชื้อเพลิงและการตรวจสอบผลของน้ำและสิ่งสกปรกบนวัสดุกัดกร่อนเกี่ยวกับผู้ติดต่อของ zamak ด้วยวัสดุบางอย่าง บิการเลวร้ายที่สุดได้รับกรณีถูกคลัป zamak และเหล็ก 1010ถึงแม้ว่าคู่อื่น ๆ ยังมีผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญในความสมบูรณ์ของzamak ทั่วไป การกัดกร่อนของ zamak เกิดขึ้นใน intergranularระดับและจำนวนของอัลและร่องรอยของลูกค้าเป้าหมายหรือดีบุกเป็นปัจจัยสำคัญการต้านทานการกัดกร่อน ดังนั้น ลดจำนวนอัลและเพิ่มเนื้อหา Pb เพิ่ม zamak กัดกร่อน [19,23]ระบุผลได้รับในการทำงานอยู่ที่การบิติดต่อระหว่าง zamak และวัสดุบางอย่างควรหลีกเลี่ยงในการก็ไม่ใช่สอดคล้องกับแอลกอฮอล์ (ไม่สามารถระบุที่บราซิล),เช่น ที่ประกอบด้วยยอดสูงของน้ำและสิ่งสกปรกอื่น ๆ ionicอิเล็กตรอน microscopy และพลังงาน dispersive แกนก (SEM – EDS) วิเคราะห์ของ zamak ไว้เป็นตัวอย่างแสดงให้เห็นว่าว่า ผลิตภัณฑ์จากกระบวนการกัดกร่อนส่วนใหญ่ประกอบด้วยZn, Al, Cu, O, Cl และ s ได้ บ่งชี้การก่อตัวของออกไซด์ (หรือhydroxides) ส่วนประกอบหลักของ zamak (Zn, Al และ Cu) และนอกจากนี้ความสำคัญของคลอไรด์และซัลเฟอร์ในการกัดกร่อนแบบ galvanicของ zamakมวลระบุไว้ก่อน เฉพาะ เนื้อหา ethanolic, pH และนำโซลูชั่น 1-5 มีวิเคราะห์ก่อน และ หลังการ assays(ตารางที่ 2) ผลการวิเคราะห์ดังกล่าวระบุส่วนใหญ่เป็นการเพิ่มขึ้นของpH และนำ เป็นพิเศษ เพิ่มพารามิเตอร์เหล่านี้ได้ในการแก้ไขปัญหาที่อยู่กับเหล็ก zamak-1010ซึ่งแสดงให้เห็นว่ากระบวนการกัดกร่อนสูง zamak การเพิ่มขึ้นของ pHสามารถอธิบาย โดย redissolution ของผลิตภัณฑ์การกัดกร่อนที่เกิดขึ้น อย่างไรก็ตาม สมมติฐานดังกล่าวต้องเพิ่มเติมการตรวจสอบดังนั้น ระบุผลลัพธ์ที่ทนต่อการกัดกร่อนแบบ galvanic ของzamak สามารถเกิดขึ้นได้ในการแก้ไขปัญหาแอลกอฮอล์ที่ประกอบด้วยจำนวนสูงน้ำและสิ่งสกปรกบางอย่าง ส่วนใหญ่ถ้า zamak ถูกเก็บไว้ด้วยกันเพื่อ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

วิธีการแก้ปัญหา 5 คู่เป็นกัดกร่อนน้อยที่จะ Zamak กว่า 3. การกัดกร่อนใน
Zamak ที่ไม่ได้มีการติดต่อกับโลหะอื่น ๆ นอกจากนี้ยังเกิดขึ้นใน
การแก้ปัญหาดังกล่าว (ข้อมูลดังกล่าวจะปรากฏเป็นเชิงอรรถในตารางที่ 3) [20] แต่
อัตราการกัดกร่อนต่ำกว่า ที่ได้รับในงานนี้.
นอกจากนี้วัสดุที่เป็น cathodes ของกระบวนการตามที่
ระบุไว้ก่อนหน้ายังไม่ได้รับผลกระทบจากการกัดกร่อนไฟฟ้า แต่พวกเขา
ต่อการกัดกร่อนที่เกิดขึ้นเมื่อพวกเขาถูกแช่อยู่คนเดียวในเดียวกัน 5
การแก้ปัญหาที่มีแอลกอฮอล์ [20] ดังนั้นผลการศึกษาพบว่าทั้งสอง
ติดต่อไฟฟ้าและองค์ประกอบทางเคมีของการแก้ปัญหาที่มีแอลกอฮอล์
ได้รับผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญต่อการกัดกร่อนของ Zamak.
ในมะเดื่อ 2-4 ซึ่งแสดงตัวอย่าง Zamak หลังจาก 3 สัปดาห์ของการ
แช่ 1-5 ในการแก้ปัญหาก็สามารถที่จะตั้งข้อสังเกตว่าในความเป็นจริง
การเพิ่มขึ้นของน้ำและสิ่งสกปรกในการแก้ปัญหาเอทานอลของพวกเขาเพิ่มการ
ดำเนินการกัดกร่อน Zamak เช่นเดียวกับที่พบว่าในก่อนหน้านี้
ทำงานเมื่อ Zamak ถูกแช่ในเดียวกัน 5 การแก้ปัญหาแอลกอฮอล์
แต่โดยไม่ต้องติดต่อกับวัสดุอื่น ๆ [20] ผลทั้งหมดที่อยู่ใน
ข้อตกลงกับคนที่ก่อนหน้านี้ที่แสดงให้เห็นว่าปริมาณของน้ำ
และค่า pH ของของเหลวอินทรีย์หลายชนิดที่เกี่ยวข้องกับการกัดกร่อนของสังกะสี ใน
ความเป็นจริงโลหะนี้ถูกโจมตีอย่างรวดเร็วเมื่อมีเนื้อหาสูงของน้ำ
ในปัจจุบันเนื่องจากการขาดการเข้าถึงออกซิเจน [21] นอกจากนี้
การเพิ่มขึ้นของปริมาณน้ำและอุณหภูมิอัตราการกัดกร่อนของสังกะสี
ยังเพิ่มขึ้นเนื่องจากการรักษาเสถียรภาพของผลิตภัณฑ์การกัดกร่อนด้วยน้ำ
โมเลกุล [22,23] มะเดื่อ 2-4 นอกจากนี้ยังแสดงให้เห็นว่าใน AEAC และ AEHC ซึ่ง
มีการนำต่ำกระบวนการกัดกร่อนของ Zamak ส่วนใหญ่เกิดขึ้น
ในพื้นที่ติดต่ออินเตอร์เฟซและการกัดกร่อนแก้ปัญหาอื่น ๆ
ที่เกิดขึ้นในความยาวทั้งหมดของตัวอย่าง การเกิดขึ้นของ
การกัดกร่อนในพื้นที่อินเตอร์เฟซที่เป็นลักษณะของกระบวนการไฟฟ้า.
ผลที่ได้รับในงานนี้จะมีการส่งเสริมให้มากตั้งแต่ AEHC
AEAC และมีการดำเนินการที่ต่ำในการกัดกร่อนของ Zamak ไฟฟ้าซึ่ง
สามารถมองเห็นได้ดีขึ้นโดยใช้กล้องจุลทรรศน์แก้วนำแสง ในความเป็นจริงเท่านั้นที่มีแอลกอฮอล์
โซลูชั่น 3-5 ซึ่งจำลองการปฏิบัติของการปลอมปนหรือไม่เพียงพอ
การจัดการและการเก็บรักษาน้ำมันเชื้อเพลิงเครื่องดื่มแอลกอฮอล์ทำให้เกิดการสูญเสียน้ำหนักที่สำคัญของ
วัสดุ (ตารางที่ 3) อัตราการกัดกร่อนของ Zamak ในการแก้ปัญหาดังกล่าว
ได้ 7-200 ครั้งยิ่งใหญ่กว่าที่ได้รับใน AEHC ดังนั้น
ผลการวิจัยพบว่าปริมาณของน้ำและสิ่งสกปรกบาง
(ซัลเฟตคลอไรด์, อะซิเตทและอื่น ๆ ) อย่างมีนัยสำคัญที่มีอิทธิพลต่อการกัดกร่อน
ผลของการแก้ปัญหาที่มีแอลกอฮอล์ ตามที่ระบุไว้ก่อนที่น้ำและสิ่งสกปรกดังกล่าว
ได้มาจากกระบวนการผลิตเครื่องดื่มแอลกอฮอล์ไม่เพียงพอ
การจัดการและการเก็บรักษาและการปฏิบัติที่ผิดกฎหมายของการปลอมปน ความเป็นจริงดังกล่าว
ชี้ให้เห็นถึงความสำคัญของทั้งการประกันคุณภาพของเครื่องดื่มแอลกอฮอล์
น้ำมันเชื้อเพลิงและการตรวจสอบผลกระทบของน้ำและสิ่งสกปรกบนวัสดุ
กัดกร่อน.
เกี่ยวกับรายชื่อผู้ติดต่อของ Zamak ไฟฟ้าด้วยวัสดุบาง
กรณีได้รับเลวร้ายที่สุดคือการมีเพศสัมพันธ์ของ Zamak 1010 และเหล็ก
แม้ว่าคู่อื่น ๆ นอกจากนี้ยังมีผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญกับความสมบูรณ์ของ
Zamak โดยทั่วไปการกัดกร่อนของ Zamak ที่เกิดขึ้นในขอบเกรน
ระดับและปริมาณของอัลและร่องรอยของตะกั่วหรือดีบุกเป็นปัจจัยสำคัญ
ที่จะทนต่อการกัดกร่อนของ ดังนั้นการลดลงของจำนวนเงินอัลและ
การเพิ่มขึ้นของเนื้อหาตะกั่วเพิ่มประสิทธิภาพการกัดกร่อน Zamak [19,23].
ผลที่ได้รับในการทำงานในปัจจุบันแสดงให้เห็นว่าไฟฟ้า
ติดต่อระหว่าง Zamak และวัสดุบางอย่างจะต้องหลีกเลี่ยงใน
การปรากฏตัวของเครื่องดื่มแอลกอฮอล์ที่ไม่สอดคล้อง น้ำมันเชื้อเพลิง (ความล้มเหลวในข้อกำหนดบราซิล)
คือว่ามีปริมาณสูงของน้ำและสิ่งสกปรกอื่น ๆ ไอออนิก.
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดและพลังงานกระจาย
สเปกโทรสโก (SEM-EDS) การวิเคราะห์ตัวอย่างที่แสดงให้เห็น Zamak
ว่าผลิตภัณฑ์จากกระบวนการกัดกร่อนประกอบด้วยส่วนใหญ่โดย
สังกะสี อัล Cu, O, Cl, และเอสนี้แสดงให้เห็นการก่อตัวของออกไซด์ (หรือ
ไฮดรอกไซ) ในองค์ประกอบหลักของ Zamak (Zn อัลและทองแดง) และ
นอกจากนี้ยังมีความสำคัญของคลอไรด์และกำมะถันในการกัดกร่อนไฟฟ้า
ของ Zamak .
ตามที่ระบุไว้ก่อนที่มวลเฉพาะเนื้อหาเอทานอล, พีเอชและการนำ
1-5 ของโซลูชั่นการวิเคราะห์ก่อนและหลังการตรวจ
(ตารางที่ 2) ผลการวิเคราะห์ดังกล่าวชี้ให้เห็นส่วนใหญ่เพิ่มขึ้นจาก
ค่า pH และการนำ พิเศษเสริมสร้างพารามิเตอร์เหล่านี้ได้รับการ
ตั้งข้อสังเกตในการแก้ปัญหาที่อยู่ในการติดต่อกับ Zamak-1010 เหล็ก
ซึ่งแสดงให้เห็นกระบวนการที่มีฤทธิ์กัดกร่อนสูงของ Zamak การเพิ่มขึ้นของค่า pH
สามารถอธิบายได้ด้วย redissolution ของผลิตภัณฑ์ที่มีฤทธิ์กัดกร่อนที่ถูก
สร้างขึ้น อย่างไรก็ตามสมมติฐานดังกล่าวต้องการสืบสวนต่อไป.
ดังนั้นผลที่ได้ชี้ให้เห็นว่าการกัดกร่อนไฟฟ้าของ
Zamak สามารถเกิดขึ้นได้ในการแก้ปัญหาที่มีแอลกอฮอล์ที่มีปริมาณสูงของ
น้ำและสิ่งสกปรกบางส่วนใหญ่ถ้า Zamak ถูกเก็บไว้ด้วยกันเพื่อ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โซลูชั่น 5 คู่น้อย สารกัดกร่อน Zamak กว่า 3 การกัดกร่อนใน
ซามัคที่ไม่ได้สัมผัสกับโลหะอื่น ๆเกิดขึ้นใน
เช่น โซลูชั่น ( ข้อมูลดังกล่าวจะปรากฏเป็นเชิงอรรถในตาราง 3 ) [ 20 ] , แต่อัตราการกัดกร่อนน้อยกว่า

ได้ในงานนี้ นอกจากนี้ วัสดุที่เป็นคาโทดของกระบวนการ เช่น
ระบุ ก่อนหน้านี้ ไม่ได้รับผลกระทบจากการกัดกร่อนไฟฟ้า ,แต่การกัดกร่อนของพวกเขา
ที่เกิดขึ้นเมื่อพวกเขาถูกแช่ไว้ในเดียวกัน 5
เหล้าโซลูชั่น [ 20 ] ดังนั้น ผลการศึกษาพบว่าทั้ง
เกี่ยวกับไฟฟ้าติดต่อและองค์ประกอบทางเคมีของโซลูชั่นที่มีแอลกอฮอล์
มีผลต่อค่าการกัดกร่อนของซามัค .
ในมะเดื่อ . 2 – 4 ซึ่งแสดง Zamak ตัวอย่างหลังจาก 3 สัปดาห์
แช่ในโซลูชั่น 1 – 5 ก็สามารถสังเกตได้ว่าในความเป็นจริง
เพิ่มน้ำและสิ่งสกปรกในโซลูชั่นการกัดกร่อนของพวกเขา
( เพิ่มให้ซามัค . เดียวกันพบว่าในการทำงานของเราก่อนหน้านี้
เมื่อ Zamak ถูกแช่ในแอลกอฮอล์เหมือนกัน 5 โซลูชั่น
แต่ไม่มีการติดต่อกับวัสดุอื่น ๆ [ 20 ] ผลการค้นหาทั้งหมดอยู่ใน
ข้อตกลงก่อนหน้านี้ที่พบว่า ปริมาณน้ำ
และ pH ของของเหลวอินทรีย์หลายเกี่ยวข้องกับการกัดกร่อนของสังกะสี ใน
ความเป็นจริง โลหะนี้ถูกโจมตีอย่างรวดเร็วเมื่อเนื้อหาสูงของน้ำ
ปัจจุบัน เพราะขาดการเข้าถึงออกซิเจน [ 21 ] นอกจาก
เพิ่มเนื้อหาน้ำและอุณหภูมิ , อัตราการกัดกร่อนของสังกะสี
ยังเพิ่มขึ้น เนื่องจากการรักษาเสถียรภาพของผลิตภัณฑ์การกัดกร่อนจากน้ำโมเลกุล 22,23
[ ] มะเดื่อ .2 – 4 ก็แสดงให้เห็นว่า ใน aeac และ aehc ซึ่ง
มีการนำความร้อนต่ำ กระบวนการกัดกร่อนของซามัคส่วนใหญ่เกิดขึ้นในพื้นที่ และประสานติดต่อ

ในโซลูชั่นอื่น ๆการกัดกร่อนที่เกิดขึ้นในความยาวทั้งหมดของชิ้นงาน การเกิดการกัดกร่อนของ
ในพื้นที่อินเตอร์เฟซเป็นลักษณะของกระบวนการไฟฟ้า
ผลลัพธ์ที่ได้ในงานนี้จะส่งเสริมให้มาก เพราะ aehc
และ aeac มี Action ต่ำบนไฟฟ้าการกัดกร่อนของซามัค ซึ่งสามารถสังเกตได้จาก
จักษุจุลทรรศน์ . ในความเป็นจริง , เพียง แอลกอฮอล์
โซลูชั่น 3 – 5 ซึ่งจำลองการปฏิบัติการหรือจัดการไม่เพียงพอ
และการเก็บเชื้อเพลิงแอลกอฮอล์ ทำให้เกิดการสูญเสียน้ำหนักมากของ
วัสดุ ( ตารางที่ 3 ) อัตราการกัดกร่อนของซามัคเช่นโซลูชั่น
7 – 200 ครั้งมากขึ้นกว่าที่ได้รับใน aehc . ดังนั้น ,
ผลการศึกษาพบว่า ปริมาณน้ำ และสิ่งเจือปน
( ซัลเฟต , คลอไรด์ , acetate , ฯลฯ ) มีอิทธิพลอย่างมากต่อการกัดกร่อน
ของโซลูชั่นที่มีแอลกอฮอล์ ตามที่ระบุไว้ก่อน , น้ำและสิ่งสกปรก
สามารถเกิดขึ้นจากกระบวนการผลิตแอลกอฮอล์ ด้ามไม่เพียงพอ
และการเก็บรักษาและการปฏิบัติที่ผิดกฎหมายของการปลอมปน .เช่นความเป็นจริง
จุดออกมาให้ความสําคัญของการประกันคุณภาพของแอลกอฮอล์
และตรวจสอบผลกระทบของน้ำและสิ่งสกปรกบนวัสดุ

เกี่ยวกับติดต่อไฟฟ้าการกัดกร่อน ของซามัคด้วยวัสดุบาง กรณีเลวร้ายที่สุดได้
เป็น coupling กว่า Zamak เหล็ก
ถึงแม้ว่าคู่อื่น ๆมี ผล ที่สำคัญในความสมบูรณ์ของ
Zamak . โดยทั่วไปการกัดกร่อนตามขอบเกรนของซามัคเกิดขึ้นในระดับ
และปริมาณของ อัล และร่องรอยของตะกั่วหรือดีบุกเป็นปัจจัยสําคัญ
ความต้านทานการกัดกร่อน . ดังนั้น การลดลงของปริมาณอัลและ
เพิ่มตะกั่วเนื้อหาเพิ่ม Zamak กัดกร่อน [ 19,23 ] .
ผลลัพธ์ที่ได้ในงานปัจจุบัน พบว่า ติดต่อไฟฟ้าและวัสดุบางอย่างระหว่าง Zamak

ต้องหลีกเลี่ยงในไม่สอดคล้องกับสถานะของเชื้อเพลิงแอลกอฮอล์ ( สอบตกสเปคบราซิล ) ,
คือว่ามีปริมาณสูงของน้ำและสิ่งสกปรกไอออนอื่น ๆ .
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ( SEM ) และวิเคราะห์สเปกตรัมพลังงานกระจายตัว
( EDS ) การวิเคราะห์ของตัวอย่างที่พบ
Zamak ผลิตภัณฑ์ที่ได้จากกระบวนการกัดกร่อนส่วนใหญ่ถูกแต่งโดย
Zn , อัล , จุฬาฯ , O , CL , และ นี้แสดงให้เห็นว่าการเกิดออกไซด์ ( หรือ
ไฮดรอกไซด์ ) ของส่วนประกอบหลักของซามัค ( Zn , อัล , และ Cu ) และ
นอกจากนี้ความสำคัญของคลอไรด์และกำมะถันในการกัดกร่อนไฟฟ้าของซามัค
.
ตามที่ระบุไว้ก่อน , มวล , ( เนื้อหาที่เฉพาะเจาะจง , pH และความนำไฟฟ้า
ของโซลูชั่นที่ 1 – 5 วิเคราะห์ก่อนและหลัง )
( ตารางที่ 2 ) ผลของการวิเคราะห์ดังกล่าว พบส่วนใหญ่เพิ่มขึ้นของ
pH conductivity เป็นพิเศษการเพิ่มพารามิเตอร์เหล่านี้คือ
สังเกตปัญหาที่ติดต่อกับ Zamak เหล็ก– 1010 , ซึ่งแสดงให้เห็นกระบวนการกัดกร่อนสูง
Zamak . การเพิ่มขึ้นของค่า pH
สามารถอธิบายได้โดยการ redissolution ของผลิตภัณฑ์ที่ถูก
รูปแบบ อย่างไรก็ตาม สมมติฐานดังกล่าว ต้องสืบสวนต่อไป .
จึงพบว่าไฟฟ้าการกัดกร่อนของ
ซามัคสามารถเกิดขึ้นได้ในโซลูชั่นที่มีแอลกอฮอล์ที่มีส่วนผสมของน้ำและสิ่งสกปรก
ในปริมาณสูง ส่วนใหญ่ถ้าซามัคที่ถูกเก็บไว้ด้วยกัน