Characterization of surface residue

Characterization of surface residues evolved during latex film formation

The solubility of the surface residue on latex films was established by probing its solubility by comparing AFM scans before and after rinsing with water. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) provided surface sensitive chemical information. Cast films were analyzed in order to determine the chemical composition of the residue and verify the nature of the film surface.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

สมบัติตกค้างผิวพัฒนาในระหว่างการก่อตัวของฟิล์มยางละลายของสารตกค้างผิวยางภาพยนตร์ก่อตั้งขึ้น โดยละเอียดการละลายโดยเปรียบเทียบ AFM สแกนก่อน และ หลังล้างด้วยน้ำ ด้วย X-ray photoelectron สเปกโทรสโก (XPS) ให้ข้อมูลพื้นผิวไวต่อสารเคมี ฟิล์มหล่อได้มาวิเคราะห์เพื่อกำหนดองค์ประกอบทางเคมีของสารตกค้าง และตรวจสอบลักษณะของพื้นผิวฟิล์ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ลักษณะของพื้นผิวที่ตกค้างพัฒนาในระหว่างการก่อฟิล์มน้ำยางละลายของสารตกค้างบนพื้นผิวฟิล์มน้ำยางก่อตั้งขึ้นโดยละเอียดสามารถในการละลายของมันโดยการเปรียบเทียบสแกน AFM ก่อนและหลังการล้างด้วยน้ำ เอ็กซ์เรย์โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโทรสโก (XPS) ที่มีพื้นผิวที่มีความละเอียดอ่อนข้อมูลสารเคมี ภาพยนตร์นำแสดงโดยถูกนำมาวิเคราะห์เพื่อตรวจสอบองค์ประกอบทางเคมีของสารตกค้างและตรวจสอบลักษณะของพื้นผิวฟิล์ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การศึกษาคุณสมบัติของฟิล์มยางที่ตกค้างในผิว พัฒนาการละลายของพื้นผิวกากฟิล์มยางก่อตั้งขึ้นโดยการเปรียบเทียบค่าก่อนและหลังใช้ AFM สแกนด้วยน้ำ เครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy ( XPS ) ให้ผิวละเอียดอ่อน เคมีข้อมูล เหวี่ยงฟิล์มได้ถูกวิเคราะห์เพื่อหาองค์ประกอบทางเคมีของสารตกค้างและตรวจสอบลักษณะพื้นผิวของฟิล์ม