as an implantation annealing barrie

as an implantation annealing barrier,
as III-V structure diffusion masks,
and as a photomask coating for scratch protection and sticking reduction.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป็นฤทธิ์เป็นการอบเหนียวอุปสรรค เป็นรูปแบบแพร่โครงสร้าง III V และ เป็น photomask เคลือบเพื่อป้องกันรอยขีดข่วน และผสานลด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในฐานะที่เป็นอุปสรรคการหลอมฝังโครงสร้าง III-V หน้ากากแพร่และเป็นโฟโต้เคลือบป้องกันรอยขีดข่วนสำหรับและการลดการเกาะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็นการ annealing กั้น
เป็น iii-v รูปแบบการแพร่กระจายและโครงสร้าง
เป็นโฟโต้มาสค์เคลือบเพื่อป้องกันรอยขีดข่วนและผสานการลด