The cross-sectional microstructure

The cross-sectional microstructure of the samples was investigated on a Nova NanoSEM 450 field emission scanning electron microscope (FEI, Japan) equipped with an ETD detector, set to an accelerating voltage of 5 kV. Prior to analysis, the samples were freeze fractured using liquid nitrogen (N2) and placed onto an aluminum pin stub. A thin layer of gold (10 nm) was deposited on the surfaces of the samples by an SC7620 sputtering device (Quorum Technologies, UK) to avoid the surface charging effect.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตรวจสอบโครงสร้างจุลภาคภาคตัดขวางของตัวอย่างด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดแบบสแกนการปล่อยคลื่นสนาม Nova NanoSEM 450 (FEI, ญี่ปุ่น) ที่ติดตั้งเครื่องตรวจจับ ETD ซึ่งตั้งค่าเป็นแรงดันไฟฟ้าเร่งที่ 5 kV ก่อนการวิเคราะห์ ตัวอย่างจะถูกแช่แข็งให้แตกโดยใช้ไนโตรเจนเหลว (N2) และวางลงบนต้นขั้วของหมุดอะลูมิเนียม ชั้นทองคำบาง ๆ (10 นาโนเมตร) ถูกสะสมบนพื้นผิวของตัวอย่างโดยอุปกรณ์สปัตเตอร์ SC7620 (Quorum Technologies, UK) เพื่อหลีกเลี่ยงผลกระทบการชาร์จที่พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ศึกษาโครงสร้างจุลภาคหน้าตัดขวางของตัวอย่างบนกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน Nova NanoSEM 450 Field Emission Scanning (FEI, Japan) ที่ติดตั้งเครื่องตรวจจับ ETD ตั้งค่าแรงดันเร่งที่ 5kV
ก่อนการวิเคราะห์ตัวอย่างจะถูกแช่แข็งโดยใช้ไนโตรเจนเหลว (N2) และวางไว้บนเสาอลูมิเนียมพิน ฝากชั้นบาง ๆ ของทอง (10nm) บนพื้นผิวของตัวอย่างผ่านอุปกรณ์สปัตเตอร์ SC7620 (Quorum Technologies, UK) เพื่อหลีกเลี่ยงผลกระทบจากการชาร์จพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แอบหนีออกมาตอนกลางคืน