1. A substrate is coated with a pol

1. A substrate is coated with a polymer film called resist layer
2. A beam of UV light passes through the mask and react with the resist.
3. The exposed parts of the resist are dissolved during the developing stage
revealing the replica of the mask pattern.
4. The substrate is then placed in an acidic solution which etches silica but not resist or silicon. Once the silica has been removed,
the resist is dissolve in a different solution.
5. Further etches remove silicon from the exposed areas à creating nanostructures.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

1.พื้นผิวจะเคลือบ ด้วยพอลิเมอร์ชั้นฟิล์มต้านทานเรียกว่า2.แสงผ่านแสง UV ผ่านรูปแบบและตอบสนองกับการต่อต้าน3. ส่วนสัมผัสของการต่อต้านเป็นส่วนยุบในระหว่างขั้นตอนการพัฒนา เผยให้เห็นแบบจำลองของรูปแบบรูปแบบ4.พื้นผิวแล้วอยู่ในโซลูชันการเปรี้ยวที่ etches ซิแต่ไม่ต่อต้านหรือซิลิคอน เมื่อซิลิกาที่แล้วต้านทานการจางหายในโซลูชันต่าง ๆ ได้5. เพิ่มเติม etches เอาซิลิคอนจากการสัมผัสพื้นที่สร้าง nanostructures

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

1. พื้นผิวที่จะเคลือบด้วยฟิล์มพอลิเมอต่อต้านที่เรียกว่าชั้น
2 ลำแสงของแสงยูวีผ่านหน้ากากและทำปฏิกิริยากับต้านทาน.
3
ส่วนที่สัมผัสของต่อต้านละลายในระหว่างขั้นตอนการพัฒนาเผยให้เห็นรูปแบบจำลองของหน้ากาก.
4 พื้นผิวอยู่แล้วในการแก้ปัญหาที่เป็นกรดซึ่ง etches ซิลิกา แต่ไม่ต่อต้านหรือซิลิกอน
เมื่อซิลิกาได้ถูกลบออกต่อต้านจะละลายในการแก้ปัญหาที่แตกต่างกัน.
5 นอกจาก Etches เอาซิลิโคนออกจากพื้นที่สัมผัสàสร้างโครงสร้างนาโน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

1 . พื้นผิวที่เคลือบด้วยฟิล์มโพลิเมอร์ เรียกว่าต่อต้านชั้น2 . แสงยูวีผ่านรูปแบบ และตอบสนองกับต่อต้าน3 . สัมผัสส่วนของต่อต้านละลายในระหว่างขั้นตอนการพัฒนาเปิดเผยสำเนาของรูปแบบ4 . พื้นผิวถูกวางไว้แล้วในการเป็นโซลูชั่นที่เคทูดสามารถถูกกัดแต่ไม่ขัดขืนหรือซิลิกาซิลิคอน เมื่อซิลิกาจะถูกกำจัดออกไปการต่อต้านจะละลายในสารละลายต่าง ๆ5 . เพิ่มเติมเคทูดสามารถถูกกัดเอาซิลิกอนจากพื้นที่สัมผัสล่าสุดสร้างนาโน .