In the recent years the increase in

In the recent years the increase in nano-scale applications has creat-
ed signi
fi
cant interest in self assembled pattern formation due to ion
beam irradiation. Nano-patterning and modi
fi
cations require nuclear
collision between ions and substrate atoms in less than 100 eV energy
range. Compared to monomer ion beams the cluster ion interactions
with the surface produces unique structural alterations because of
their capability to deliver a very low particle energy beam (a few eV's)
with high current density. Upon impact the cluster ions
[15]
simulta-
neously arrive at the same location and transfer their high total energy
to a small impact volume (of the order of a tens of angstroms). Due to
high energy density collisions, extreme pressure and temperature con-
ditions are generated. Consequently, dissociations close to the surface
create synergetic reactions that produces a high sputtering yield and
strong enhancement in chemical reactivity and diffusion.
Gas cluster ion beam forms nano-ripple structures on a thin metal
surface at oblique angle incidences
[16]
. When thousands of very low
energy atoms simultaneously bombard the surface of a target at an in-
clined angle to the normal, a nano-ripple pattern is formed because of
thelateralsputteringofthesurfaceatoms.Clusterformationisacompli-
cated process and the theoretical descriptions of this process are limit-
ed. First model explaining ripple formation and mechanism was
derivedbyBradleyandHarper
[17]
onsolidmaterials.Itpredictsthelin-
ear growth of ripples, but does not predict ripple saturation. The
Makeev, Cuerno and Barabási (MCB) model
[18]
modi
fi
ed the Bradley
and Harper model and included the non-linear terms that depend on
the random ion
fl
ux and the slope of the surface and considered

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในปีล่าสุด เพิ่มขึ้นในโปรแกรมประยุกต์นาโนสเกลมี creat-ed signiเน็ตลาดเทสนใจการก่อรูปแบบประกอบด้วยตนเองเนื่องจากไอออนลำแสงฉายรังสี แบบนาโนและ modiเน็ตแคทไอออนต้องมีนิวเคลียร์ชนกันระหว่างไอออนและอะตอมของสารตั้งต้นในน้อยกว่า 100 eV พลังงานช่วงนี้ เมื่อเทียบกับคานไอออนลกรุงเทพคลัสเตอร์ไอออนโต้เปลี่ยนแปลงโครงสร้างเฉพาะเนื่องจากการสร้างพื้นผิวสามารถของลำแสงพลังงานอนุภาคต่ำมาก (ไม่กี่ eV)มีความหนาแน่นของกระแสที่สูง เมื่อคลัสเตอร์ไอออนมีผลกระทบต่อ[15]simulta-neously ณตำแหน่งเดียวกัน และโอนย้ายพลังงานทั้งหมดของพวกเขาสูงไดรฟ์ข้อมูลขนาดเล็กกระทบ (เครื่องราชอิสริยาภรณ์หมื่น angstroms) เนื่องจากการความหนาแน่นของพลังงานสูงชน แรงกด และอุณหภูมิ con-ditions จะถูกสร้างขึ้น ดังนั้น dissociations ใกล้กับพื้นผิวสร้างเน้นปฏิกิริยาที่ก่อให้เกิดผลผลิตสปัตเตอร์สูง และเพิ่มประสิทธิภาพที่แข็งแกร่งในการเกิดปฏิกิริยาเคมีและการกระจายลำแสงไอออนของแก๊สคลัสเตอร์ฟอร์มโครงสร้างนาโนกระเพื่อมบนโลหะบางพื้นผิวที่อุบัติการณ์มุมเฉียง[16]. เมื่อพันต่ำมากพลังงานอะตอมแห่งพื้นผิวของเป้าหมายที่มีในเวลาเดียวกันมุมปกติ รูปแบบระลอกคลื่นนาโน clined จะเกิดขึ้นเนื่องจากการthelateralsputteringofthesurfaceatoms Clusterformationisacompli-กระบวนการผลิตและคำอธิบายทฤษฎีของกระบวนการนี้จะจำกัด-ed รูปแบบแรกที่อธิบายกำเนิดระลอกและกลไกderivedbyBradleyandHarper[17]onsolidmaterials Itpredictsthelin-หูของระลอก แต่ทำนายระลอกความอิ่มตัว การรุ่น Makeev, Cuerno และ Barabási (MCB)[18]modiเน็ตed แบรดลีย์และฮาร์เปอร์แบบ และอยู่ใน เงื่อนไขที่ไม่ใช่เชิงเส้นที่ขึ้นอยู่กับไอออนแบบสุ่มflux และความลาดเอียงของพื้นผิว และพิจารณา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในปีที่ผ่านมาเพิ่มขึ้นในระดับนาโนได้ creat - การใช้งานเอ็ด signiกง .ไม่ได้สนใจตนเองประกอบรูปแบบการพัฒนาเนื่องจากไอออนการฉายรังสีคาน นาโน การบรรเลงและสมัครงานกง .ทำให้ต้องใช้นิวเคลียร์การปะทะกันระหว่างไอออน และสารอะตอมน้อยกว่า 100 EV พลังงานช่วง เมื่อเทียบกับคานไอออนคลัสเตอร์ไอออนของมอนอเมอร์กับผิว ก่อให้เกิดการเปลี่ยนแปลงเชิงโครงสร้างที่เป็นเอกลักษณ์ เพราะความสามารถของตนเพื่อให้ลำแสงอนุภาคพลังงานต่ำมาก ( ไม่กี่ EV )ที่มีความหนาแน่นสูง เมื่อผลกระทบคลัสเตอร์ไอออน[ 15 ]simulta -neously มาถึงที่สถานที่เดียวกันและการถ่ายโอนพลังงานทั้งหมดของพวกเขาสูงผลกระทบของปริมาณเล็ก ( ของการสั่งซื้อของ 10 อังสตรอม ) เนื่องจากการชนความหนาแน่นพลังงานสูง , ความดันที่รุนแรงและอุณหภูมิ - คอนditions ถูกสร้างขึ้น จากนั้น dissociations ใกล้พื้นผิวซึ่งทำงานร่วมกันสร้างปฏิกิริยาที่ก่อให้เกิดผลผลิตสูงและสปัตเตอริงการเพิ่มปฏิกิริยาทางเคมีและแข็งแกร่งในแพร่กลุ่มก๊าซลำแสงไอออนรูปแบบนาโน ตัวโครงสร้างโลหะบาง ๆพื้นผิวที่อุบัติการณ์มุมเฉียง[ 16 ]. เมื่อพันต่ำมากอะตอมพลังงานพร้อมระดมพื้นผิวของชิ้นงานที่ในclined มุมปกติ , นาโนตัวลายจะเกิดขึ้นเพราะthelateralsputteringofthesurfaceatoms.clusterformationisacompli -กระบวนการและคำอธิบายเชิงทฤษฎีตั้งอยู่ในกระบวนการนี้มีข้อจํากัดเอ็ด รุ่นแรก อธิบายการกระเพื่อมและกลไก คือderivedbybradleyandharper[ 17 ]onsolidmaterials.itpredictsthelin -หูการกระเพื่อม แต่ไม่ได้ทำนายระลอกคลื่นที่อิ่มตัว ที่makeev cuerno , และจังหวัด ( MCB ) รุ่น barab . kgm[ 18 ]สมัครงานกง .เอ็ดวีและ Harper แบบไม่เป็นเชิงเส้นขึ้นอยู่กับเงื่อนไขที่ประกอบด้วยไอออนแบบสุ่มฟลอริด้าux และความลาดชันของผิวและถือว่า