3.2. Interfacial contact resistance

3.2. Interfacial contact resistance
Fig. 4 plots the contact resistance of the aluminum sample as
a function of the compacting pressure. The contact resistance
decreased with increasing pressure due to the increasing actual
contact area between the surface of the sample and GDL layer. The
contact resistance of Samples 1, 2 and 3 at 200 N cm2 was 96, 71
and 21 mU cm2
, respectively. Samples 2 and 3 had, respectively,

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

3.2. interfacial ติดต่อความต้านทานFig. 4 ลงจุดต้านทานติดต่อของอย่างอะลูมิเนียมเป็นฟังก์ชันของความดันที่กระชับ ต้านทานติดต่อลดลง ด้วยการเพิ่มความดันเนื่องจากการเพิ่มขึ้นจริงติดต่อพื้นที่ระหว่างพื้นผิวของตัวอย่างและชั้น GDL ที่ติดต่อความต้านทานของตัวอย่าง 1, 2 และ 3 ที่ 200 N ซม 2 96, 71และหมู่ 21 cm2ตามลำดับ มีตัวอย่างที่ 2 และ 3 ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3.2 ความต้านทานติดต่อ interfacial
รูป 4 แปลงต้านทานติดต่อของกลุ่มตัวอย่างอลูมิเนียมเป็น
ฟังก์ชั่นของความดันกระชับ ความต้านทานติดต่อ
ที่มีความดันลดลงเพิ่มขึ้นเนื่องจากการเพิ่มขึ้นที่เกิดขึ้นจริง
ในพื้นที่ติดต่อระหว่างพื้นผิวของตัวอย่างและชั้น GDL
ความต้านทานติดต่อของตัวอย่างที่ 1, 2 และ 3 ที่ 200 N ซม. 2 เป็น 96, 71
และ 21 mU cm2
ตามลำดับ ตัวอย่างที่ 2 และ 3 ได้ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3.2 . ต้านทาน
ติดต่อระหว่างรูปที่ 4 แปลงติดต่อต้านทานอลูมิเนียมของตัวอย่าง
ฟังก์ชันของอัดความดัน ความต้านทานการติดต่อ
ลดลงเมื่อเพิ่มความดันสูงขึ้นจริง
ติดต่อพื้นที่ระหว่างพื้นผิวของตัวอย่างและชั้น GDL .
ติดต่อต้านทานของตัวอย่างที่ 1 , 2 และ 3 ที่ 200 N ซม.  2 96 71

มู cm2 และ 21 ตามลำดับตัวอย่างที่ 2 และ 3 ตามลำดับ