In summary,ZnO hollow hierarchical

In summary,ZnO hollow hierarchical microspheres with
different morphologies were successfully fabricated via a
simple trisodium citrate-assisted hydrothermal method.
According to the observations, a possible growth mechanism
of ZnO hollow hierarchical microspheres could be attributed to
alkali etching process and oriented assembly followed by an
Ostwald ripening process.Themorphologies of ZnO hollow
hierarchical microspheres could be controlled by a djustingthe
concentration of trisodium citrate, which played a crucial role
as abridging and suppress agent in the formation of ZnO
hollow hierarchical microspheres. Photocatalytic activity studies showed that themorphologies of ZnO photocatalyst had
certain effecton the photocatalytic performance. ZnO hollow
hierarchical microspheres with thin mutual crisscross nano-
sheets after3 h annealing at 300 1C exhibited the highest

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในสรุป ZnO microspheres ลำดับกลวงด้วยเรียบร้อยถูกประดิษฐ์ต่าง ๆ morphologies ที่ผ่านการวิธีที่ง่าย trisodium ช่วยซิเตรต hydrothermal วิธีตามข้อสังเกต กลไกการเติบโตของ ZnO microspheres ลำดับที่กลวงสามารถนำมาประกอบกับด่างการแกะสลักการกระบวนการและเชิงประกอบตามด้วยการอ.สุกกระบวนการ Themorphologies ของ ZnO กลวงmicrospheres ลำดับชั้นอาจถูกควบคุม โดยการ djustingtheความเข้มข้นของ trisodium ซิเตรต ซึ่งมีบทบาทสำคัญเป็น abridging และระงับการก่อตัวของ ZnO แทนกลวง microspheres ลำดับชั้น กระศึกษากิจกรรมที่แสดงให้เห็นว่า มี themorphologies ของ ZnO photocatalystบาง effecton ประสิทธิภาพการทำงานของกระ ZnO กลวงลำดับ microspheres กับบางกันสวนกันนาโนh after3 แผ่นหลอมที่ 300 1C แสดงสูงสุด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในการสรุป ZnO microspheres ลำดับชั้นกลวงที่มี
รูปร่างลักษณะที่แตกต่างกันประดิษฐ์ประสบความสำเร็จผ่าน
ไตรโซเดียมวิธี hydrothermal ง่ายซิเตรตช่วย.
ตามข้อสังเกตที่เป็นกลไกการเจริญเติบโตที่เป็นไปได้
ของ ZnO microspheres ลำดับชั้นกลวงสามารถนำมาประกอบกับ
ขั้นตอนการแกะสลักด่างและมุ่งเน้นการชุมนุมตาม
Ostwald สุก process.Themorphologies ของ ZnO กลวง
microspheres ลำดับชั้นจะได้รับการควบคุมโดย djustingthe
ความเข้มข้นของไตรโซเดียมซิเตรตซึ่งมีบทบาทสำคัญ
ในฐานะตัดทอนและปราบปรามตัวแทนในการก่อตัวของซิงค์ออกไซด์
microspheres ลำดับชั้นกลวง การศึกษากิจกรรมโฟแสดงให้เห็นว่า themorphologies ของ ZnO photocatalyst มี
effecton บางประสิทธิภาพออกไซด์ ZnO กลวง
microspheres ลำดับชั้นกับบางกันและกัน crisscross นาโน
แผ่น after3 หลอม H ที่ 300 1C แสดงสูงสุด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการสรุป , ซิงค์ออกไซด์ที่มีลำดับชั้นและกลวงลักษณะโครงสร้างต่างกัน สร้างผ่านเรียบร้อยแล้วไตรโซเดียมซิเตรตช่วยวิธีง่ายๆด้วย .ตามที่สังเกต , กลไกการพัฒนาที่เป็นไปได้ของซิงค์ออกไซด์แบบกลวง และอาจจะเกิดจากด่างกระบวนการกัดและมุ่งเน้นตามประกอบOstwald สุก themorphologies ZnO กลวงของกระบวนการลำดับชั้นและอาจถูกควบคุมโดย djustingtheความเข้มข้นของไตรโซเดียมซิเตรท ซึ่งมีบทบาทสำคัญที่ตัดทอนและปราบปรามเจ้าหน้าที่ในการก่อตัวของซิงค์ออกไซด์กลวงแบบมีประสิทธิภาพ การศึกษาพบว่า themorphologies ความว่องไวของ ZnO photocatalyst มีบางอย่างสำหรับการแสดงรี . ซิงค์ออกไซด์แบบกลวงและลำดับชั้นกับบางร่วมกันกากบาทนาโนแผ่น after3 H annealing ที่ 300 1C แสดงมากที่สุด