The technology of plasma nitriding

The technology of plasma nitriding could not really develop because of the numerous
problems encountered due to the direct plasma applied to the parts to be nitrided. These
were especially [1][2]:
 corner/edge effect
 arcing
 hollow cathode effect
 sputtering
 non temperature homogeneity of the work load

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เทคโนโลยีของพลาสม่า nitriding สามารถจริง ๆ พัฒนาเนื่องจากการจำนวนมากปัญหาที่พบเนื่องจากพลาสม่าโดยตรงกับส่วนที่จะขัดไนไตรด์ เหล่านี้ถูกโดยเฉพาะ [1] [2]:ลักษณะมุม/ขอบเวอเวอวตั้อผลกลวงแคโทดเวอเวอสปัตเตอร์เนื้อเดียวกันอุณหภูมิไม่เวอของภาระงาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เทคโนโลยีของไนไตรด์พลาสม่าไม่สามารถจริงๆพัฒนาเพราะหลาย
ปัญหาที่พบเกิดจากการพลาสม่าโดยตรงนำไปใช้กับชิ้นส่วนที่จะได้รับไนไตรด์ เหล่านี้
โดยเฉพาะอย่างยิ่ง [1] [2]:
ผลมุม / EDGE
 arcing
ผลแคโทดกลวง
สปัตเตอร์
เป็นเนื้อเดียวกันอุณหภูมิที่ไม่ใช่ของภาระงาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เทคโนโลยีพลาสมาไนไตรดิง จะไม่พัฒนา เพราะมากมายปัญหาที่พบเนื่องจากพลาสมาโดยตรงใช้กับส่วนที่เป็น nitrided . เหล่านี้โดยเฉพาะอย่างยิ่งใน [ 1 ] [ 2 ] :ขอบมุม / ผลกระทบ arcing Hollow Cathode ผลสปัตเตอริงไม่ใช่อุณหภูมิค่าภาระงาน