Silicon wafer are cleaned by a solv

Silicon wafer are cleaned by a solvent clean, Followed by a dionized water (DI) rinse,
followed by an RCA clean and DI rinse, followed by an HF dip and DI rinse and blow
dry. This is a level-1 process and requires basic INRF safety certification. The use of
dangerous chemicals requires that the user may not perform the process alone

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนทำความสะอาด ด้วยตัวทำละลายดี ตาม ด้วยการล้างน้ำ (DI) dionizedตาม RCA ความสะอาด และล้าง DI ตาม ด้วยการจุ่ม HF และ DI ล้าง และเป่าแห้ง นี้เป็นกระบวนการที่ระดับ-1 และต้องการการรับรองความปลอดภัย INRF พื้นฐาน การใช้สารเคมีอันตรายต้องการที่ผู้ใช้อาจดำเนินการคนเดียว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิลิคอนเวเฟอร์มีการทำความสะอาดด้วยตัวทำละลายทำความสะอาดตามด้วยน้ำ dionized (DI) ล้าง
ตามด้วยอาร์ซีเอที่สะอาดและ DI ล้างตามด้วยจุ่ม HF และ DI ล้างและเป่า
แห้ง นี้เป็นกระบวนการที่ระดับ 1 และต้องมีการรับรองความปลอดภัย INRF พื้นฐาน การใช้
สารเคมีอันตรายต้องว่าผู้ใช้อาจไม่ได้ดำเนินการขั้นตอนเดียว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เวเฟอร์ซิลิคอนจะทำความสะอาดโดยล้างตัวทำละลายตาม dionized น้ำ ( DI ) ล้าง
ตามด้วยสะอาด อาร์ซีเอ และ ดิ ล้างออก ตามด้วยการจุ่มกรด ดี ล้างและเป่า
แห้ง นี่คือกระบวนการที่ 1 และต้องมีการรับรองความปลอดภัย inrf ขั้นพื้นฐาน การใช้สารเคมีอันตรายต้อง
ที่ผู้ใช้อาจไม่แสดงกระบวนการคนเดียว