Dissolution regime changes after le

Dissolution regime changes after less than one day of interaction at high temperature because of abundant coating formation over the etch pits and edges.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การเปลี่ยนแปลงระบอบการปกครองยุบน้อยกว่าหนึ่งวันของการโต้ตอบที่อุณหภูมิสูงเนื่องจากผู้แต่งมากมายเคลือบ etch ห่วงและขอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การเปลี่ยนแปลงระบอบการปกครองการสลายตัวภายในเวลาไม่ถึงหนึ่งวันของการทำงานร่วมกันที่อุณหภูมิสูงเพราะการก่อตัวของสารเคลือบผิวที่อุดมสมบูรณ์มากกว่าหลุมจำหลักและขอบ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเปลี่ยนแปลงการปกครองหลังน้อยกว่าหนึ่งวันของปฏิกิริยาที่อุณหภูมิสูงเพราะดาษเคลือบก่อตัวเหนือแกะสลักหลุมและขอบ