Fig. 2.20. (a) Projected range and

Fig. 2.20. (a) Projected range and (b) normal and transverse straggle for the ion implantation of boron, phosphorus, arsenic, and antimony impurities for a given acceleration energy.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มะเดื่อ 2.20 () ช่วงที่คาดการณ์ไว้และ (b) เรี่ยราดปกติและตามขวางเพื่อไอออนของโบรอนฟอสฟอรัสสารหนูและสิ่งสกปรกพลวงพลังงานเร่งให้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Fig. 2.20 (ก) คาดการณ์ช่วง และ (ข) ปกติ และขวางที่ straggle สำหรับฤทธิ์ไอออนของโบรอน ฟอสฟอรัส สารหนู พลวง และสิ่งสกปรกสำหรับพลังงานเร่งกำหนด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูป. 2.20 . (ก)โดยคาดว่าจะและ(ข)(ผม)กระจุยกระจายตามปกติและตั้งอยู่คนละข้างสำหรับปลูกไอออนที่ของโบรอนฟอสฟอรัสสารหนูพลวงและสิ่งสกปรกเพื่อการประหยัดพลังงานการเร่งความเร็วได้.