The composition and structure of th

The composition and structure of the oxide films were
determined by XPS depth profiling using argon ions. Fig. 2
shows the depth distribution of all elements in the layer as
registered by the XPS analysis. Their concentration has been
calculated from the intensity of the Cr 2p, Fe 2p, Ni 2p, O
1s, C 1s and Si 2p lines. Using the procedure described in a
previous work [7] and the estimation made there concerning
the sputtering rate under analogous experimental conditions
(3 keV, 16mAcm-2, angle of incidence 45), one may estimate
roughly the thickness of the deposited chromium oxide
layer. From the sputtering time in Fig. 2 (ca. 200 min)
needed for reaching the oxide-substrate interface, it follows
that the layer thickness is of the order of 50 nm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

องค์ประกอบและโครงสร้างของฟิล์มออกไซด์ตามความลึก XPS สร้างโพรไฟล์โดยใช้ประจุอาร์กอน Fig. 2แสดงการกระจายความลึกขององค์ประกอบทั้งหมดในชั้นที่เป็นลงทะเบียน โดยการวิเคราะห์ XPS ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับคำนวณความเข้มของ Cr 2p, Fe 2p, Ni 2p, O1s, C 1s และซีพี 2 บรรทัด ใช้กระบวนงานที่อธิบายไว้ในการก่อนหน้างาน [7] และการประเมินทำให้มีเกี่ยวกับอัตรา sputtering ภายใต้เงื่อนไขการทดลองคู่(3 keV, 16mAcm-2 มุมของอุบัติการณ์ 45), หนึ่งอาจประเมินประมาณความหนาของออกไซด์โครเมียมนำฝากชั้น จากเวลา sputtering ใน Fig. 2 (ca. 200 นาที)จำเป็นสำหรับการเข้าถึงอินเทอร์เฟซสำหรับพื้นผิวออกไซด์ เป็นไปตามที่ความหนาของชั้นลำดับ 50 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

องค์ประกอบและโครงสร้างของฟิล์มออกไซด์ที่ถูกกำหนดโดย XPS โปรไฟล์ลึกโดยใช้ไอออนอาร์กอน
มะเดื่อ. 2
แสดงการกระจายความลึกขององค์ประกอบทั้งหมดในชั้นในขณะที่ลงทะเบียนโดยการวิเคราะห์ XPS
ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับการคำนวณจากความรุนแรงของ Cr 2p ที่เฟ 2p, Ni 2p โอ 1s, C 1s และศรี 2p สาย ใช้ขั้นตอนที่อธิบายในการทำงานก่อนหน้า [7] และการประมาณการดังกล่าวทำให้มีเกี่ยวกับอัตราสปัตเตอร์ภายใต้เงื่อนไขการทดลองคล้าย(3 เคฟ 16mAcm-2, มุมตกกระทบ 45?) หนึ่งอาจประเมินประมาณความหนาของโครเมียมออกไซด์ฝากชั้น. ตั้งแต่ครั้งสปัตเตอร์ในรูป 2 (แคลิฟอร์เนียได้ 200 นาที) ที่จำเป็นสำหรับการเข้าถึงอินเตอร์เฟซออกไซด์พื้นผิวได้เป็นไปตามที่ความหนาของชั้นเป็นคำสั่งของ 50 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

องค์ประกอบและโครงสร้างของฟิล์มออกไซด์
กำหนดความลึกโปรไฟล์ XPS การใช้อาร์กอนไอออน รูปที่ 2
แสดงความลึก การกระจายขององค์ประกอบทั้งหมดในเลเยอร์เป็น
จดทะเบียนโดย XPS การวิเคราะห์ ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับ
คำนวณจากความเข้มของ 2p Cr Fe 2p , Ni 2p O
1s 1s ศรี 2p , C และสาย โดยใช้ขั้นตอนที่อธิบายไว้ใน
ก่อนหน้างาน [ 7 ] และได้มีการประเมินเกี่ยวกับอัตราภายใต้เงื่อนไขการทดลองเดียวกัน

สปัตเตอริง ( 3 เคฟ 16macm-2 มุมตกกระทบ 45 ,  ) , หนึ่งอาจประมาณการ
ประมาณความหนาของฝากโครเมียมออกไซด์
ชั้น จากเวลาทำงานในรูปที่ 2 ( ประมาณ 200 นาที )
ที่จําเป็นสําหรับถึงออกไซด์ ( อินเตอร์เฟซ มันดังต่อไปนี้
ที่ชั้นความหนาของ 50 nm .