It is likely that a smaller amounto

It is likely that a smaller amount
ofH2O2 is sufficient to modify the surface of CeO2 abrasive at higher
pH value. More Ce3+ on the surface of abrasive in slurry could be
beneficial for the CMP process due to the ease of forming a Ce(OH)3
hydration layer which would accelerate the process of CMP based
on Cook’s theory [13]. Therefore, the increase in pH value leads to
the increase of the ratio of Ce4+ ions to Ce3+ ions for the oxidization
effect of hydrogen peroxide despite the lower concentration, which
contributes to the decrease in MRR in Fig. 3(b).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มีแนวโน้มที่จำนวนเงินขนาดเล็กofH2O2 เพียงพอที่จะปรับเปลี่ยนพื้นผิวของ CeO2 ขัดที่สูงกว่าค่า pH เพิ่มเติม Ce3 + บนผิวขัดในสารละลายอาจเป็นประโยชน์สำหรับกระบวนการ CMP เนื่องจากสะดวกในการขึ้นรูป Ce (OH) 3ชั้นความชุ่มชื้นซึ่งจะเร่งรัดกระบวนการของ CMP คะแนนในคุกทฤษฎี [13] ดังนั้น การเพิ่มขึ้นของค่า pH ที่นำไปสู่การเพิ่มขึ้นของอัตราส่วนของอิออ Ce4 + Ce3 + ไอออนสำหรับการ oxidizationผลของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แม้มีความเข้มข้นต่ำ ซึ่งก่อให้เกิดการลด MRR ในรูป 3(b)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มันมีแนวโน้มว่าจำนวนเงินที่มีขนาดเล็ก
ofH2O2 จะเพียงพอที่จะปรับเปลี่ยนพื้นผิวของ CEO2 ขัดที่สูงกว่า
ค่าพีเอช เพิ่มเติม Ce3 + บนพื้นผิวของสารกัดกร่อนในสารละลายที่อาจจะ
เป็นประโยชน์สำหรับกระบวนการ CMP เนื่องจากความสะดวกในการขึ้นรูป Ce (OH) 3
ชั้นความชุ่มชื้นซึ่งจะเร่งกระบวนการของซีเอ็มพีตาม
ทฤษฎีของแม่ครัว [13] ดังนั้นการเพิ่มขึ้นของค่าพีเอชจะนำไปสู่
การเพิ่มขึ้นของอัตราส่วนของ CE4 + ไอออน Ce3 + ไอออนสำหรับออกซิเดชันที่
ผลของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แม้จะมีความเข้มข้นลดลงซึ่ง
ก่อให้เกิดการลดลงของอัตราดอกเบี้ย MRR ในมะเดื่อ 3 (ข)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มีแนวโน้มว่าจำนวนเงินขนาดเล็กofh2o2 เพียงพอที่จะปรับเปลี่ยนพื้นผิวของ CeO2 abrasive ที่สูงกว่าอ ค่า เพิ่มเติม ce3 + บนพื้นผิวของน้ำอาจจะขัดในประโยชน์ต่อประสิทธิภาพกระบวนการเนื่องจากความง่ายของการสร้าง CE ( OH ) 3ไฮเดรชั่น เลเยอร์ ซึ่งจะเร่งกระบวนการของซีเอ็มพีจากในคุกของทฤษฎี [ 13 ] ดังนั้น การเพิ่มขึ้นของค่า pH ที่นำไปสู่การเพิ่มขึ้นของอัตราส่วนของ ce4 ไอออนเพื่อ ce3 ไอออนสำหรับออกซิเดชันผลของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ แม้จะมีความเข้มข้นต่ำ ซึ่งมีส่วนช่วยลดสูงสุดในรูปที่ 3 ( B )