One can see that the amount of mate

One can see that the amount of material deposited
by PECVD is higher than that observed by CVD. This
difference amounts to the contribution that the plasmainitiated
reaction contributes to the overall deposition
process. The ratio of the area under the profiles for
PECVD versus CVD equals 1.5 when carbon dioxide is the
reactive gas and 1.1 when oxygen is the reactive gas. The
ratio of the maximum film thickness to the average film
thickness is 2.2 for ZnO deposited by PECVD with CO2.
Previous research on the atmospheric pressure plasma
source has shown that the plasma is homogeneous within
the gas volume between the electrodes [12], so it is likely
that the non-uniform mixing of the precursor in the
showerhead is responsible for the wide variation in film
thickness across the wafer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หนึ่งสามารถมองเห็นยอดวัสดุฝาก
โดย PECVD จะสูงกว่าที่พบตามผิว CVD ได้ นี้
จำนวนเงินสมทบความแตกต่างที่การ plasmainitiated
ปฏิกิริยารวมสะสมโดยรวม
กระบวนการ อัตราส่วนของพื้นที่ภายใต้โพรไฟล์สำหรับ
PECVD กับผิว CVD เท่ากับ 1.5 เมื่อก๊าซคาร์บอนไดออกไซด์
1.1 เมื่อ ปฏิกิริยาก๊าซออกซิเจนและก๊าซปฏิกิริยา ใน
อัตราส่วนของความหนาของฟิล์มสูงฟิล์มเฉลี่ย
หนาเป็น 2.2 ใน ZnO ฝาก ด้วย PECVD กับ CO2
วิจัยก่อนหน้าพลาสมาความดันบรรยากาศ
ต้นแสดงว่าพลาสม่าเป็นเนื้อเดียวกันภายใน
ปริมาตรก๊าซระหว่างหุงต [12], ดังนั้นจึงมีแนวโน้ม
ที่ผสมไม่สม่ำเสมอของสารตั้งต้นในการ
ฝักบัวแบบใช้รับผิดชอบสำหรับการเปลี่ยนแปลงมากมายในภาพยนตร์
ความหนาระหว่างแผ่นเวเฟอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หนึ่งจะเห็นว่าปริมาณของวัสดุฝาก
โดย PECVD สูงกว่าที่พบโดยซีวีดี นี้
แตกต่างที่จำนวนเงินที่จะมีส่วนร่วมที่ plasmainitiated
ปฏิกิริยาก่อให้เกิดการสะสมโดยรวมของ
กระบวนการ อัตราส่วนของพื้นที่ภายใต้โปรไฟล์สำหรับ
PECVD เมื่อเทียบกับซีวีดีเท่ากับ 1.5 เมื่อก๊าซคาร์บอนไดออกไซด์เป็น
ก๊าซที่เกิดปฏิกิริยาและ 1.1 เมื่อก๊าซออกซิเจนเป็นปฏิกิริยา
อัตราส่วนของความหนาของฟิล์มสูงสุดฟิล์มเฉลี่ย
ความหนาเป็น 2.2 ZnO ฝากโดย PECVD ด้วย CO2
วิจัยก่อนหน้านี้เกี่ยวกับพลาสม่าความดันบรรยากาศ
แหล่งที่มาได้แสดงให้เห็นว่าพลาสม่าเป็นเหมือนกันใน
ปริมาณก๊าซระหว่างขั้วไฟฟ้า [12] ดังนั้นจึง อาจเป็นไปได้
ว่าการผสมไม่สม่ำเสมอของสารตั้งต้นใน
ฝักบัวเป็นผู้รับผิดชอบต่อความหลากหลายในภาพยนตร์
หนาทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หนึ่งสามารถดูว่าปริมาณของวัสดุที่ฝาก
โดย pecvd สูงกว่าที่พบด้วยวิธี CVD ความแตกต่างนี้
ยอดเงินบริจาคที่ plasmainitiated
ปฏิกิริยาก่อให้เกิดกระบวนการสะสม
โดยรวม อัตราส่วนของพื้นที่ภายใต้โปรไฟล์ของ
pecvd ซีวีดี เท่ากับ 1.5 เมื่อเทียบกับคาร์บอนไดออกไซด์เป็นก๊าซและ 1.1
ปฏิกิริยาเมื่อออกซิเจนเป็นก๊าซปฏิกิริยา
อัตราส่วนของฟิล์มความหนาสูงสุดให้ความหนาของฟิล์ม ZnO
เฉลี่ย 2.2 ฝากโดย pecvd กับ CO2
การวิจัยก่อนหน้านี้เกี่ยวกับความกดอากาศพลาสมา
ที่มาพบว่าพลาสมาเป็นเนื้อเดียวกันภายใน
ปริมาณก๊าซระหว่างขั้วไฟฟ้า [ 12 ] ดังนั้นจึงอาจไม่สม่ำเสมอ
ที่ผสมสารตั้งต้นใน
showerhead เป็นผู้รับผิดชอบความหลากหลายในภาพยนตร์
ความหนาในเวเฟอร์