After the pre-sputtering, N2 gas wa

After the pre-sputtering, N2 gas was introduced into the chamber with a
flow rate of 10 sccm and the Ar flow rate was reduced to 10 sccm, in
order to maintain the total flow rate of 20 sccm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากที่ก่อนพ่น ก๊าซ N2 ถูกนำเข้าสู่หอการค้ากับการอัตราการไหลของ 10 sccm และ Ar ที่อัตราการไหลลดลงเป็น 10 sccm ในสั่งการรักษาอัตราการไหลรวมของ 20 sccm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากที่ก่อนสปัตเตอร์ก๊าซ N2
ถูกนำเข้าไปในห้องที่มีอัตราการไหล10 SCCM และอัตราการไหลของเท่นก็ลดลงถึง 10 SCCM
ในเพื่อที่จะรักษาอัตราการไหลรวมเป็น20 SCCM