placement for more cathodic values

placement for more cathodic values increased the cobalt reaction
contribution via a mechanism of direct reduction (Eq. (1)).
Results obtained for potentiostatic electrodepositions suggest
that, at pH5.40, cobalt reduction occurs by a direct reductionmech-
anism. For cobalt electrodeposition at pH 2.70 and in the presence
of the hydrogen detachment reaction, a simultaneous mechanism
of direct reduction and cobalt reduction occurs.
4. Conclusions
Using an EQCM, verified the mechanism for cobalt electrode-
position and correlated it with solution pH and electrochemical
conditions. The electrodeposition mechanism occurs via the direct
reduction of cobalt (Eq. (1)) for a pH of 5.40 and under potentiody-
namic or potentiostatic conditions. The relation valueM/z for cobalt
electrodeposition at pH 5.40 under potentiodynamic and potentio-
static conditionswas equal to 32.00 and 33.00 gmol
−1, respectively.
Potentiodynamic electrodeposition of cobalt at pH 2.70 occurs
via the mechanism of adsorbed hydrogen, and M/z values tend
towards 13.00 gmol
−1. The experimental M/z relation was lower
than that predicted by theory due to the hydrogen reduction
reaction, which decreases the cobalt electrodeposition efficiency.
Cobalt potentiostatic electrodeposition at pH2.70 occurs via simul-
taneous mechanisms of direct reduction and cobalt reduction in
the presence of adsorbed hydrogen. The M/z value was larger
for depositions accomplished at a more negative potential. This
demonstrates that a more cathodic potential increases the direct
cobalt reaction (Eq. (1)) contribution to the simultaneous mecha-
nism of direct reduction.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตำแหน่งสำหรับค่า cathodic เพิ่มปฏิกิริยาโคบอลต์
ส่วนผ่านทางกลไกโดยตรงลด (Eq. (1)) .
ได้รับผลลัพธ์สำหรับแนะนำ potentiostatic electrodepositions
ว่า ที่ pH5.40 โคบอลต์ลดเกิดการตรง reductionmech-
anism สำหรับเคลือบโคบอลต์ ที่ค่า pH 2.70 และ ในสถานะ
ของปฏิกิริยาไฮโดรเจนปลด กลไกพร้อม
ลดโดยตรงและลดโคบอลต์เกิด.
4 บทสรุป
ใช้เป็น EQCM, verified กลไกสำหรับอิเล็กโทรดโคบอลต์-
ตำแหน่ง และ correlated กับค่า pH โซลูชัน และไฟฟ้า
เงื่อนไข กลไกการเคลือบเกิดขึ้นทางตรง
ลดของโคบอลต์ (Eq. (1)) สำหรับ pH 5.40 และภาย ใต้ potentiody-
namic หรือเงื่อนไข potentiostatic ValueM/z ความสัมพันธ์สำหรับโคบอลต์
เคลือบที่ pH 5.40 ภายใต้ potentiodynamic และ potentio-
conditionswas คงเท่ากับ gmol 32.00 และ 33.00
−1 ตามลำดับ.
Potentiodynamic เคลือบของโคบอลต์ที่ค่า pH 2.70 เกิด
ผ่านกลไกของไฮโดรเจน adsorbed และ M/z ค่ามัก
ต่อ 13.00 gmol
−1 ความสัมพันธ์ M/z ทดลองถูกล่าง
กว่าที่ทำนาย โดยทฤษฎีเนื่องจากการลดไฮโดรเจน
ปฏิกิริยา ซึ่งลดที่โคบอลต์เคลือบ efficiency.
โคบอลต์เคลือบ potentiostatic ที่ pH2.70 เกิดผ่าน simul-
taneous กลไกลดโดยตรงและลดโคบอลต์
ของไฮโดรเจน adsorbed การ ค่า M/z ถูกใหญ่
สำหรับ depositions สำเร็จที่ศักยภาพมากลบ นี้
แสดงให้เห็นว่า มีศักยภาพมากขึ้น cathodic เพิ่มตรง
ปฏิกิริยาโคบอลต์ (Eq. (1)) เงินสมทบพร้อมกลไก-
nism ลดโดยตรง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตำแหน่งสำหรับค่า cathodic มากขึ้นเพิ่มขึ้นปฏิกิริยาโคบอลต์
มีส่วนร่วมผ่านทางกลไกของการลดลงโดยตรง (สมการที่ (1).)
ผลที่ได้รับสำหรับ electrodepositions potentiostatic ขอแนะนำ
ว่าใน pH5.40 ลดโคบอลต์เกิดขึ้นโดย reductionmech- โดยตรง
anism สำหรับอิเล็กโทรโคบอลต์ที่ pH 2.70 และในการปรากฏตัว
ของปฏิกิริยาไฮโดรเจนออกเป็นกลไกพร้อมกัน
ของการลดตรงและการลดโคบอลต์เกิดขึ้น
4 สรุปผลการวิจัย
การใช้ EQCM, Veri ไฟ ed กลไกสำหรับโคบอลต์ electrode-
ตำแหน่งและมีความสัมพันธ์กับความเป็นกรดด่างและการแก้ปัญหาไฟฟ้า
เงื่อนไข กลไกระบบไฟฟ้าที่เกิดขึ้นผ่านทางโดยตรง
ลดลงของโคบอลต์ (สมการที่ (1).) สำหรับค่า pH 5.40 และอยู่ภายใต้ potentiody-
เงื่อนไขมิคหรือ potentiostatic ความสัมพันธ์ valueM / ซีสำหรับโคบอลต์
ด้วยระบบไฟฟ้าที่ pH 5.40 ภายใต้ potentiodynamic และ potentio-
conditionswas คงที่เท่ากับ 32.00 และ 33.00 gMol
-1 ตามลำดับ
อิเล็กโทร Potentiodynamic ของโคบอลต์ที่ pH 2.70 ที่เกิดขึ้น
ผ่านทางกลไกของการดูดซับไฮโดรเจนและค่า M / Z มีแนวโน้ม
ต่อ 13.00 gMol
-1 ทดลอง M / Z ความสัมพันธ์ลดลง
กว่าที่คาดการณ์โดยทฤษฎีอันเนื่องมาจากการลดลงของไฮโดรเจน
ปฏิกิริยาซึ่งลดลงโคบอลต์อิเล็กโทร EF ไฟขาดธาตุ
โคบอลต์อิเล็กโทร potentiostatic ที่ pH2.70 เกิดขึ้นผ่านทาง simul-
กลไก taneous ของการลดตรงและการลดโคบอลต์ใน
การปรากฏตัวของ ดูดซับไฮโดรเจน M มูลค่า / ซีมีขนาดใหญ่
สำหรับ depositions ประสบความสำเร็จที่มีศักยภาพเชิงลบมากขึ้น นี้
แสดงให้เห็นว่ามีศักยภาพมากขึ้น cathodic เพิ่มโดยตรง
ปฏิกิริยาโคบอลต์ (สมการที่ (1).) สนับสนุนให้กลไกพร้อมกัน
Nism ของการลดโดยตรง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

วัดค่าเหล็ก เพิ่มเติมเพิ่มปฏิกิริยาโคบอลต์
บริจาคผ่านกลไกของการลดลงโดยตรง ( อีคิว ( 1 ) )

electrodepositions ผลลัพธ์ที่ได้สำหรับ potentiostatic แนะนำที่ ph5.40 ลดโคบอลต์เกิดขึ้นได้โดยตรง reductionmech -
anism . สำหรับโคบอลต์อิเล็กโทรที่ pH 2.70 และในการแสดงตนของไฮโดรเจนออก

พร้อมกันเป็นกลไกปฏิกิริยาลดโดยตรงและลดโคบอลต์เกิดขึ้น .
4 สรุป
ใช้ eqcm , ข้อมูลจึงเอ็ดกลไกโคบอลต์ขั้ว -
ตำแหน่งและความสัมพันธ์กับสารละลาย pH และไฟฟ้าเคมี
เงื่อนไข กลไกการเกาะเกิดขึ้นผ่านการลดตรง
โคบอลต์ ( อีคิว ( 1 ) สำหรับ pH 5.40 และภายใต้ potentiody -
namic หรือเงื่อนไข potentiostatic . ความสัมพันธ์ valuem โคบอลต์
/ Z สำหรับในขณะที่ pH 5.40 และภายใต้ potentiodynamic potentio -
คง conditionswas เท่ากับ 32.00 33.00 gmol และ

− 1 ตามลำดับ ในขณะที่ potentiodynamic ของโคบอลต์ที่ pH สูงกว่าเกิดขึ้น
ผ่านกลไกของดูดซับไฮโดรเจนและ M / Z ค่าแนวโน้ม
ต่อ 13.00 gmol
− 1 การทดลอง M / Z ความสัมพันธ์ที่ลดลงมากกว่าที่คาดการณ์ไว้ โดยทฤษฎี

เนื่องจากไฮโดรเจนลดปฏิกิริยาซึ่งลดโคบอลต์อิเล็กโทร EF จึงประสิทธิภาพ .
โคบอลต์ potentiostatic อิเล็กโทรที่ ph2.70 เกิดขึ้นผ่านพร้อ -
กลไก taneous ลดโดยตรงและลดโคบอลต์ใน
การดูดซับไฮโดรเจน M / Z ค่ามีขนาดใหญ่
สำหรับ Depositions ที่เชิงลบที่อาจเกิดขึ้นได้อีก นี้แสดงให้เห็นว่าศักยภาพกันไป

โคบอลต์โดยตรงมากขึ้นเพิ่มขึ้นปฏิกิริยา ( อีคิว( 1 ) เงินสมทบพร้อมกันกลไก -
nism ทางตรงลดลง