And then as-prepared thin films wer

And then as-prepared thin films were in situ annealed for 60 min at 450◦C in O2 atmosphere with the flow of 4.4 sccm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แล้ว จัดทำเป็นฟิล์มบางในแหล่งกำเนิดอบ 60 นาทีที่ 450◦C ใน O2 บรรยากาศกับการไหลของ 4.4 sccm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

แล้วเตรียมเป็นฟิล์มบางที่อยู่ในแหล่งกำเนิดอบ 60 นาทีที่450◦Cในชั้นบรรยากาศ O2 กับการไหลของ 4.4 SCCM

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แล้วเตรียมฟิล์มบางใน situ อบ 60 นาที 450 ◦ O2 C ในบรรยากาศที่มีการไหลของงาน sccm .