With M the metallic ion. We suggest

With M the metallic ion. We suggest that two mechanisms are responsible
for this depolymerization. During ionic exchange in this
thermal condition, an oxygen flux is possible at the surface and an excess
of metal is also detected by the infrared measurement at the extreme
glass surface, the probe depth is of micrometer order for silica.
This effect is confirmed by the negative slop of the Eq. (2). We assume
that an additional mechanism occurs at the glass surface:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เมตรไอออนโลหะ เราขอแนะนำว่า สองกลไกรับผิดชอบสำหรับนี้ depolymerization ระหว่าง ionic แบบนี้สภาพความร้อน การไหลออกซิเจนได้ที่พื้นผิวมากเกินโลหะยังตรวจจับวัดอินฟาเรดที่สุดพื้นผิวแก้ว ลึกโพรบเป็นของสั่งซิลิก้าไมโครมิเตอร์ลักษณะพิเศษนี้เป็นยืนยันจาก slop ลบของ Eq. (2) เราคิดว่าที่มีกลไกเพิ่มเติมเกิดขึ้นที่ผิวแก้ว:

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ด้วย M ไอออนโลหะ เราขอแนะนำให้สองกลไกที่มีความรับผิดชอบ
สำหรับ depolymerization นี้ ในระหว่างการแลกเปลี่ยนอิออนในครั้งนี้
สภาพความร้อน, การไหลของออกซิเจนเป็นไปได้ที่พื้นผิวและส่วนเกิน
ของโลหะมีการตรวจพบโดยการวัดอินฟราเรดที่รุนแรง
ผิวกระจกลึกสอบสวนเป็นของคำสั่งไมโครเมตรสำหรับซิลิกา.
ผลกระทบนี้จะได้รับการยืนยันโดย เลอะเชิงลบของสมการ (2) เราคิด
ว่ากลไกเพิ่มเติมที่เกิดขึ้นในพื้นผิวของกระจก:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

กับไอออนโลหะ เราแนะนำให้สองกลไกรับผิดชอบ
สำหรับการแตกตัวนี้ ในแลกเปลี่ยนไอออนในภาวะนี้
ความร้อน ออกซิเจนมีกระแสความเป็นไปได้ที่พื้นผิวและส่วนเกิน
โลหะจะตรวจโดยการวัดแสงอินฟราเรดที่ผิวกระจกมาก
, โพรบความลึกของไมโครมิเตอร์เพื่อซิลิกา ผลนี้ได้รับการยืนยันจากกากส่าลบของอีคิว( 2 ) เราถือว่า
ที่กลไกเพิ่มเติมเกิดขึ้นที่ผิวแก้ว