rubber matrix. When MoS2loading is

rubber matrix. When MoS2loading is increased to 3 phr, the sil-ica dispersion is further improved (Fig. 1c). The higher resolutionimage (Fig. 1e) shows that the diameter of the dispersed silica par-ticles is about 30 nm, which is consistent with the value for theprimary silica particles, indicating that the silica is finely dispersedas individual particles with the inclusion of MoS2. Besides, MoS2sheets are homogeneously dispersed as nanoplatelets. If the con-tent of MoS2is further increased (5 phr), some MoS2plates start toaggregate into thicker nanoplatelets in the composite (Fig. 1d andf).Dynamic-mechanical measurements were conducted on theuncured compounds to examine the filler networking. Fig. 2 showsthe dependence of the elastic modulus (G) of uncured NR/silicacompounds with various MoS2contents on the strain. It can be seenthat the initial Gvalues of the compounds increase with increas-ing MoS2content, especially when the MoS2content is higher than1 phr, which is due to the formation of a more developed filler net-work in the presence of MoS2. The Gvalues for all the compoundssharply decrease with increasing strain, which is known as Payneeffect and is mainly related to collapse of the filler network andrelease of the trapped rubber in the filler network on applicationof an oscillatory shear [29]. In addition, compared with the controlsample, the Gvalues for the compounds with MoS2are more sen-sitive to strain, indicating that the three-dimensional filler networkis more developed in compounds with MoS2.To shed light onto the mechanism for the improved dispersion ofsilica, we prepared the aqueous solutions of the model silica/MoS2compounds with various ratios. The particle size of silica in thesolution is investigated by light scattering method. As shown inFig. 3, the silica has a particle size of 430 nm in the absence ofMoS2. This value is significantly higher than that for the individual silica particle, as silica is arranged in chains or three-dimensionalnetworks in aqueous solution, leading severe aggregation of sil-ica [30]. The silica particle size sharply decreases to about 260 nmwhen the weight ratio of silica/MoS2is 30/1. The silica particle sizecontinuously decreases with increasing MoS2content. The signifi-cantly increased suspension stability of silica by MoS2can also beverified visually, as shown in the inset in Fig. 3. With the same sil-ica concentration, silica particles are precipitated in a few hoursand that with MoS2is still stable in the same standing time. This ispresumably caused by the improvement of electrostatic repulsiveforces in the system by adding negatively charged MoS2plates.As is well documented, silica is negatively charged in water dueto the deprotonation of silanol groups [30–32]. Meanwhile, duringthe exfoliation of LiMoS2in water, the initially neutral MoS2layersare converted to a complex solution containing negatively charged(MoS2)x−layers, hydroxide anions, and lithium cations, and thusthe chemically exfoliated MoS2layers are negatively charged [33].But on account of both with different charge, the charge transferwill happen between silica and MoS2, which gives rise to chargerepulsion between silica. Therefore, we propose that MoS2canimprove silica particle dispersion as a result of charge transferinteraction between them [34].Fig. 4 shows the UV–vis spectra of the aqueous solutions of themodel silica/MoS2compounds with various the weight ratios. Foreach sample, the background of silica (with the same concentra-tion of silica) is subtracted. The spectrum of the aqueous solutionsFig. 4. UV–vis spectra of MoS2dispersed in water at various silica contents, afterthe subtraction of the corresponding silica background (in the same silica concen-tration).Fig. 5. Raman spectra of freeze-dried MoS2solution at various silica contents (fixedMoS2mass).of the model silica/MoS2compounds has clear characteristic peaksat 256 and 305 nm, which belong to characteristic peaks of MoS2.The intensities of characteristic peaks along the increase in silicaare compared in Fig. 4. As shown, with the increasing of silica, theintensities of the characteristic peaks at 255 and 307 nm of MoS2are substantially decreased. It is well-known that the charge trans-fer interaction of single-walled carbon nanotube (SWCNT) withelectron acceptors or donors will reduce the characteristic peak ofSWCNT [35,36]. Matsuda et al. [37] studied the charge interactionbetween SWCNT and nanosilicas by the optical absorption spec-tra. The presence of nanosilica decreases significantly the intensityof the characteristic peak of SWCNT, which can be ascribed to thecharge transfer interaction between SWCNT and nanosilica. In thepresent study, the decreases in the intensities of the characteris-tic peaks of MoS2are reasonably attributed to the charge transferinteraction between silica and MoS2.Fig. 5 shows Raman spectra of freeze-dried the aqueous solu-tions of the model silica/MoS2compounds with various the weightra

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ยางเมทริกซ์ เมื่อ MoS2loading เพิ่มขึ้นเป็น 3 phr การกระจายตัวของ sil ica จะเพิ่มเติมปรับปรุง (รูปที่ 1 c) Resolutionimage สูง (รูปที่ 1e) แสดงว่าเส้นผ่าศูนย์กลางของซิลิกาที่กระจายหุ้น-ticles ประมาณ 30 nm ซึ่งสอดคล้องกับค่าของอนุภาคซิลิกาหลัก แสดงว่า ซิลิกาที่อยู่ dispersedas แต่ละอนุภาค มี MoS2 ประณีต นอกเหนือจาก MoS2sheets จะกระจาย homogeneously เป็น nanoplatelets ถ้าเต็นท์ con ของ MoS2is เพิ่มขึ้น (5 phr), บาง MoS2plates เริ่ม toaggregate ไปหนา nanoplatelets ในคอมโพสิต (รูปที่ 1 d andf) การวัดแบบกลถูกดำเนินการบนสาร theuncured การตรวจสอบเครือข่ายฟิลเลอร์ รูป 2 showsthe พึ่งของมอดุลัสความยืดหยุ่น (G) ของถนอมคุณภาพ ยางพารา/silicacompounds กับ MoS2contents ต่าง ๆ สายพันธุ์ Seenthat G ค่าเริ่มต้นของสารเพิ่ม increas ing MoS2content โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อการ MoS2content phr than1 สูง ซึ่งเป็นการก่อตัวของการพัฒนามากขึ้นฟิลเลอร์สุทธิทำงานในที่ที่มี MoS2 ได้ ค่า G สำหรับ compoundssharply ทั้งหมดลดลง ด้วยการเพิ่มสายพันธุ์ ซึ่งเรียกว่า Payneeffect และส่วนใหญ่เกี่ยวข้องกับยุบของ andrelease เครือข่ายการฟิลเลอร์ยางติดอยู่ในเครือข่ายฟิลเลอร์บน applicationof แรงเฉือน oscillatory [29] นอกจากนี้ เราเปรียบเทียบกับ controlsample ค่า G ของสารประกอบที่มี MoS2are มากเซน-sitive โหม แสดงที่ networkis บรรจุสามมิติที่พัฒนาขึ้นในสารประกอบที่มีโรง MoS2.To แสงบนกลไกสำหรับ ofsilica กระจายตัวดีขึ้น เตรียมละลายของซิลิ กา/MoS2compounds รุ่นด้วยอัตราส่วนต่าง ๆ ขนาดอนุภาคของซิลิกาใน thesolution เป็นการตรวจสอบ โดยวิธีการกระเจิงแสง เป็น inFig แสดง 3 ซิลิกามีขนาดอนุภาค 430 nm ใน ofMoS2 การขาดงาน ค่านี้จะสูงกว่าอนุภาคซิลิกาละ เป็นซิลิกาถูกจัดเรียงในโซ่หรือสาม dimensionalnetworks ในละลาย นำรวมรุนแรงของ sil-ica [30] ขนาดอนุภาคซิลิกาคมชัดลดลงไปประมาณ 260 nmwhen อัตราส่วนน้ำหนักของซิลิ กา/MoS2is 30/1 Sizecontinuously อนุภาคซิลิกาลดลงกับเพิ่ม MoS2content ความหรือขึ้นระงับความมั่นคงของซิลิกาโดย MoS2can ยัง beverified ตา ดังที่แสดงในแทรกใน เข้มข้น sil ica เดียว อนุภาคซิลิกาจะตกตะกอนใน hoursand กี่ MoS2is ที่ยังคงมั่นคงในการยืน Ispresumably นี้เกิดจากการพัฒนาของ repulsiveforces สถิตในระบบ โดยการเพิ่มประจุลบ MoS2plates.As เป็นเอกสารที่ดี ซิลิกาเป็นประจุลบในน้ำเนื่องจาก deprotonation ของกลุ่ม silanol [30 – 32] ในขณะเดียวกัน duringthe ขัดผิวน้ำ LiMoS2in, MoS2layersare เริ่มกลางแปลงซับซ้อนโซลูชันที่ประกอบด้วยประจุลบ (MoS2) x−layers ไฮดรอกไซด์ และแคทไอออนลิเธียม จุ และ thusthe MoS2layers ผงกเคมีมีประจุ [33] แต่บัญชีทั้งที่มีค่าแตกต่างกัน transferwill ค่าใช้จ่ายที่เกิดขึ้นระหว่างซิลิกาและ MoS2 ซึ่งช่วยให้เพิ่มขึ้นเป็น chargerepulsion ระหว่างซิลิกา ดังนั้น เรานำเสนอนั้นกระจายตัวของอนุภาคซิลิกา MoS2canimprove ผล transferinteraction ค่าธรรมเนียมระหว่างกัน [34] .Fig 4 แสดงให้เห็นว่าสเปกตรัม UV – vis สารละลายของซิลิกา themodel/MoS2compounds มีอัตราส่วนน้ำหนักต่าง ๆ ลบอย่าง Foreach พื้นหลังของซิลิกา (มีเดียว concentra-ทางการค้าของซิลิกา) สเปกตรัมของ solutionsFig ละลาย 4. UV – vis สเปกตรัมของ MoS2dispersed ในน้ำที่ต่าง ๆ เนื้อหาซิลิก้า หลังจากลบของสอดซิลิกา (ใน concen ซิเดียว-tration) .Fig 5 รามันสเปกตรัมของ MoS2solution แห้งที่.of เนื้อหา (fixedMoS2mass) ซิลิกาต่าง ๆ แบบซิลิ กา/MoS2compounds มีลักษณะใส peaksat 256 และ 305 nm ซึ่งเป็นยอดเขาลักษณะของความเข้ม MoS2.The ของยอดลักษณะตามเพิ่มขึ้นเมื่อเปรียบเทียบในรูปที่ 4 silicaare ดังที่ ด้วยการเพิ่มขึ้นของซิลิกา theintensities ของยอดลักษณะที่ 255 และ 307 นิวตันเมตร MoS2are ลดลงอย่างมาก เป็นที่รู้จักว่า การโต้ตอบทรานส์ fer ค่าเดียวคาร์บอนทิวบ์ (SWCNT) withelectron acceptors หรือผู้บริจาคจะลด ofSWCNT ลักษณะพีค [35,36] มัทสึดะ et al. [37] ศึกษาค่า interactionbetween SWCNT และ nanosilicas โดยการดูดซึมแสงสเปคตรา การปรากฏตัวของ nanosilica ลดลงมาก intensityof ในลักษณะ peak ของ SWCNT ซึ่งสามารถได้รับการกำหนดเพื่อโต้ตอบการโอน thecharge ระหว่าง SWCNT และ nanosilica ขึ้น ในการศึกษา thepresent ลดลงในความเข้มของยอดเขา characteris tic ของ MoS2are พอสมควรประกอบกับ transferinteraction ค่าธรรมเนียมระหว่างซิลิกาและ MoS2.Fig 5 แสดงรามันสเปกตรัมของชนิดแห้งละลายไหลทุกระดับของซิลิ กา/MoS2compounds รุ่นกับ weightra ต่าง ๆ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เมทริกซ์ยาง เมื่อ MoS2loading จะเพิ่มขึ้นถึง 3 PHR, การกระจาย SIL-ICA มีการปรับปรุงต่อไป (รูปที่ 1C.) resolutionimage ที่สูงขึ้น (รูป. 1E) แสดงให้เห็นว่ามีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลางของแยกย้ายกันซิลิกาตราไว้หุ้นละ ticles คือประมาณ 30 นาโนเมตรซึ่งสอดคล้องกับค่าสำหรับอนุภาคซิลิกาประถมแสดงให้เห็นว่าซิลิกาเป็นอนุภาคแต่ละอย่างประณีต dispersedas ด้วยการรวมของ MoS2 นอกจากนี้ MoS2sheets จะแยกย้ายกันไปเป็นเนื้อเดียวกันเป็น nanoplatelets ถ้า Con-เต็นท์ MoS2is เพิ่มขึ้นอีก (5 PHR) MoS2plates บางส่วนเริ่มเข้า toaggregate nanoplatelets หนาในคอมโพสิตวัด (รูป. andf 1D) .Dynamic กลได้ดำเนินการเกี่ยวกับสารประกอบ theuncured การตรวจสอบเครือข่ายฟิลเลอร์ มะเดื่อ. การพึ่งพาอาศัยกัน 2 showsthe ของโมดูลัสยืดหยุ่น (G?) ของแห้ง NR / silicacompounds กับ MoS2contents ต่างๆในสายพันธุ์ มันอาจจะเป็น seenthat จีเริ่มต้น? คุณค่าของสารเพิ่มขึ้นด้วย increas ไอเอ็นจี MoS2content โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อ MoS2content จะสูง than1 PHR ซึ่งเกิดจากการก่อตัวของฟิลเลอร์การพัฒนามากขึ้นสุทธิการทำงานในการปรากฏตัวของ MoS2 จี? ค่าสำหรับทุกการลดลง compoundssharply กับความเครียดที่เพิ่มขึ้นซึ่งเป็นที่รู้จักกัน Payneeffect และเกี่ยวข้องส่วนใหญ่จะล่มสลายของเครือข่าย andrelease ฟิลเลอร์ของยางติดอยู่ในเครือข่ายของฟิลเลอร์เกี่ยวกับการบังคับใช้เฉือนแกว่ง [29] นอกจากนี้เมื่อเทียบกับ controlsample ที่ G? ค่าสำหรับสารประกอบที่มีมากขึ้น MoS2are Sen-sitive ความเครียดแสดงให้เห็นว่า networkis ฟิลเลอร์สามมิติการพัฒนามากขึ้นในสารประกอบที่มี MoS2.To หลั่งน้ำตาแสงลงบนกลไกสำหรับการกระจายตัวที่ดีขึ้น ofsilica เราเตรียมสารละลายของรูปแบบซิลิกา / MoS2compounds มีอัตราส่วนต่างๆ ขนาดอนุภาคของซิลิกาใน thesolution จะถูกตรวจสอบโดยวิธีการกระเจิงแสง ดังแสดง inFig 3 ซิลิกามีอนุภาคขนาด 430 นาโนเมตรในกรณีที่ไม่มี ofMoS2 ค่านี้สูงกว่าที่อนุภาคซิลิกาแต่ละอย่างมีนัยสำคัญเช่นซิลิกาถูกจัดเรียงในโซ่หรือสาม dimensionalnetworks ในสารละลายที่นำการรวมตัวที่รุนแรงของ SIL-ICA [30] ขนาดอนุภาคซิลิกาลดลงอย่างรวดเร็วประมาณ 260 nmwhen อัตราส่วนน้ำหนักของซิลิกา / MoS2is 30/1 อนุภาคซิลิกา sizecontinuously ลดลงด้วยการเพิ่ม MoS2content คัญ-อย่างมีเสถียรภาพมากขึ้นการหยุดชะงักของซิลิกาโดย MoS2can ยัง beverified สายตาที่แสดงในสิ่งที่ใส่เข้าไปในมะเดื่อ 3. มีความเข้มข้น SIL-ICA เดียวกันอนุภาคซิลิกามีการตกตะกอนใน hoursand ไม่กี่ที่มี MoS2is ยังคงมีเสถียรภาพในเวลาเดียวกันยืน นี้ ispresumably เกิดจากการปรับปรุง repulsiveforces ไฟฟ้าสถิตในระบบโดยการเพิ่ม MoS2plates.As ประจุลบเป็นเอกสารที่ดีซิลิกาเป็นประจุลบในน้ำ dueto deprotonation กลุ่ม silanol ม [30-32] ในขณะเดียวกันในระหว่างการขัดน้ำ LiMoS2in เป็นกลางแรก MoS2layersare แปลงเป็นวิธีการแก้ปัญหาที่ซับซ้อนที่มีประจุลบ (MoS2) X-ชั้นแอนไอออนไฮดรอกไซและไพเพอรีลิเธียมและ thusthe MoS2layers exfoliated เคมีจะมีประจุลบ [33] .But ในบัญชีของ ทั้งที่มีค่าใช้จ่ายที่แตกต่างกันค่าใช้จ่ายที่เกิดขึ้นระหว่าง transferwill ซิลิกาและ MoS2 ซึ่งก่อให้เกิด chargerepulsion ระหว่างซิลิกา ดังนั้นเราจึงเสนอว่า MoS2canimprove ซิลิกากระจายตัวของอนุภาคเป็นผลมาจากค่าใช้จ่าย transferinteraction ระหว่างพวกเขา [34] .Fig 4 แสดงสเปกตรัม UV-Vis ของสารละลายของซิลิกา themodel / MoS2compounds ต่าง ๆ อัตราส่วนน้ำหนัก ตัวอย่าง foreach, พื้นหลังของซิลิกา (แบบเดียวกับที่ Concentra-การซิลิกา) จะถูกหักออก สเปกตรัมของ solutionsFig น้ำ 4. UV-Vis สเปกตรัมของ MoS2dispersed ในน้ำที่เนื้อหาซิลิกาต่างๆ afterthe ลบของพื้นหลังซิลิกาที่สอดคล้องกัน (ในซิลิกาเดียวกัน concen-เคี้ยว) .Fig 5. สเปกตรัมรามันของ MoS2solution แห้งที่เนื้อหาซิลิกาต่างๆ (fixedMoS2mass) .of รุ่นซิลิกา / MoS2compounds มีลักษณะชัดเจน peaksat 256 และ 305 นาโนเมตรซึ่งเป็นยอดเขาที่ลักษณะของความเข้มของยอดเขา MoS2.The ลักษณะตามการเพิ่มขึ้นของ silicaare เมื่อเทียบกับในรูป 4. ตามที่ปรากฏตามการเพิ่มขึ้นของซิลิกา theintensities ของยอดเขามีลักษณะที่ 255 และ 307 นาโนเมตรของ บริษัท ลดลงอย่าง MoS2are มันเป็นที่รู้จักกันดีว่าการปฏิสัมพันธ์ค่าใช้จ่าย Trans-Fer ของท่อนาโนคาร์บอนเดียวผนัง (SWCNT) withelectron ผู้รับบริการหรือผู้บริจาคจะลดยอดลักษณะ ofSWCNT [35,36] Matsuda, et al [37] การศึกษาค่าใช้จ่าย interactionbetween SWCNT และ nanosilicas โดยการดูดซึมแสงข้อมูลจำเพาะ-Tra การปรากฏตัวของ nanosilica ลดลงอย่างมีนัยสำคัญ intensityof ยอดเขาที่ลักษณะของ SWCNT ซึ่งสามารถกำหนดให้มีปฏิสัมพันธ์ระหว่างการถ่ายโอน thecharge SWCNT และ nanosilica ในการศึกษา thepresent, การลดลงของความเข้มของยอดเขาลักษณะทาง-Tic ของ MoS2are ที่พอสมควรประกอบกับค่าใช้จ่าย transferinteraction ระหว่างซิลิกาและ MoS2.Fig 5 แสดงสเปกตรัมรามันของการแช่แข็งแห้งน้ำ Solu-tions ของรูปแบบซิลิกา / MoS2compounds ต่าง ๆ weightra