In this research a relatively large

In this research a relatively large area of nano-hole arrays is
reconstructed in 3D and the surface properties computed from
the DEM are analysed as shown in Table 1. The results show that
two kinds of imperfections make the surface different from the
ideal shape. First, the surface has a wavy shape with peaks and valleys
which cannot be detected using a single SEM image. Valleys
are due to the embedment of nanospheres to the photoresist by
dozens of nanometres. This is obtained from the comparison of nanosphere’s diameter and the height difference between top surface
of nanospheres and the bottom surface, which is presented in
Fig. 5. In addition to the waviness of the surface, some areas are up
and down which could be a result of uneven UV exposure in the
fabrication process. These ups and downs are illustrated in Fig. 6.
These two kinds of imperfections are likely to have influence to
subsequent nano-manufacturing processes, especially to nanoimprinting.
In nano-imprinting, an uneven surface will cause uneven pressure and result in uneven patterns. The irregularities
of the master will also be copied to the subsequent products. These
problems will effectively compromise the quality of subsequent
fabrication.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในงานวิจัยนี้ เป็นพื้นที่ค่อนข้างใหญ่ของอาร์เรย์นาโนหลุมเชิดใน 3D และคำนวณจากคุณสมบัติพื้นผิวDEM มี analysed ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลลัพธ์แสดงว่าสองชนิดของข้อบกพร่องทำให้ผิวแตกต่างจากการรูปเหมาะ ก่อน พื้นผิวมีรูปร่างหยัก ด้วยยอดเขาและหุบเขาซึ่งไม่สามารถตรวจพบการใช้ SEM ภาพเดียว หุบเขาครบ embedment ของ nanospheres เพื่อ photoresist โดยหลายสิบ nanometres นี้ได้รับมาจากการเปรียบเทียบของ nanosphere เส้นผ่าศูนย์กลางและความแตกต่างของความสูงระหว่างพื้นผิวด้านบนของ nanospheres และพื้นผิวล่าง ซึ่งนำเสนอในFig. 5 นอกจาก waviness ของพื้นผิว บางพื้นที่มีค่าและ ลงซึ่งอาจเป็นผลของรังสีที่ไม่สม่ำเสมอในการกระบวนการผลิต ดอน ๆ เหล่านี้ดังรายละเอียดใน Fig. 6ข้อบกพร่องต่าง ๆ เหล่านี้ทั้งสองมีแนวโน้มที่มีอิทธิพลต่อการต่อมานาโนกระบวนการผลิต โดยเฉพาะอย่างยิ่งกับ nanoimprintingในนาโน-imprinting พื้นผิวไม่สม่ำเสมอจะทำให้เกิดความดันที่ไม่สม่ำเสมอ และทำให้ลายไม่สม่ำเสมอ ความผิดปกติที่หลักจะยังสามารถคัดลอกสินค้าภายหลัง เหล่านี้ปัญหาได้อย่างมีประสิทธิภาพจะประนีประนอมคุณภาพของต่อมาประดิษฐ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในงานวิจัยนี้มีพื้นที่ค่อนข้างใหญ่ของอาร์เรย์นาโนหลุมสร้างขึ้นใหม่ในแบบ 3 มิติและคุณสมบัติพื้นผิวที่คำนวณจาก DEM มีการวิเคราะห์ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลปรากฏว่าสองชนิดของความไม่สมบูรณ์ทำให้พื้นผิวที่แตกต่างจากรูปทรงที่เหมาะ ก่อนที่พื้นผิวมีรูปร่างหยักกับยอดเขาและหุบเขาซึ่งไม่สามารถตรวจพบโดยใช้ภาพ SEM เดียว หุบเขาเนื่องจากการฝังของ nanospheres เพื่อ photoresist โดยหลายสิบนาโนเมตร นี้จะได้รับจากการเปรียบเทียบของเส้นผ่านศูนย์กลาง Nanosphere และแตกต่างความสูงระหว่างพื้นผิวด้านบนของnanospheres และพื้นผิวด้านล่างซึ่งจะนำเสนอในรูป 5. นอกจาก waviness ของพื้นผิวที่บางพื้นที่มีขึ้นและลงซึ่งอาจจะเป็นผลมาจากการสัมผัสรังสียูวีที่ไม่สม่ำเสมอในกระบวนการผลิต อัพและดาวน์เหล่านี้จะแสดงให้เห็นในรูป 6. ทั้งสองชนิดไม่สมบูรณ์มีแนวโน้มที่จะมีผลต่อกระบวนการผลิตนาโนที่ตามมาโดยเฉพาะอย่างยิ่ง nanoimprinting. ในนาโนประทับ, ผิวไม่สม่ำเสมอจะทำให้เกิดความดันไม่สม่ำเสมอและผลในรูปแบบที่ไม่สม่ำเสมอ ความผิดปกติของนายก็จะถูกคัดลอกไปยังผลิตภัณฑ์ที่ตามมา เหล่านี้ปัญหาที่เกิดขึ้นได้อย่างมีประสิทธิภาพจะมีผลต่อคุณภาพของที่ตามมาผลิต

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการวิจัยนี้มีพื้นที่ที่ค่อนข้างใหญ่ของรูเรย์นาโน
สร้างใน 3 มิติและคุณสมบัติของพื้นผิวจากการคำนวณ
DEM มีการวิเคราะห์ดังแสดงในตารางที่ 1 ผลที่ได้แสดงให้เห็นว่า
สองชนิดที่ไม่สมบูรณ์ทำให้พื้นผิวแตกต่างจาก
รูปร่างในอุดมคติ ครั้งแรก พื้นผิวมีรูปร่างหยักด้วยยอดเขาและหุบเขา
ซึ่งไม่สามารถตรวจพบการใช้ภาพแบบเดียว หุบเขา
การฝังตัวของ nanospheres กับระบบโดย
สิบนาโนเมตร . นี้จะได้รับจากการ nanosphere เส้นผ่าศูนย์กลางและความสูงระหว่างพื้นผิวด้านบน
ของ nanospheres และพื้นผิวด้านล่าง ซึ่งจะนำเสนอใน
รูปที่ 5 นอกจากจะเป็นคลื่นของพื้นผิว บางพื้นที่มีขึ้น
ลงซึ่งอาจเป็นผลจากแสง UV ไม่สม่ำเสมอใน
กระบวนการผลิต ups และดาวน์ในนี้เป็นภาพประกอบ ภาพที่ 6 .
เหล่านี้สองชนิดของความไม่สมบูรณ์มีแนวโน้มที่จะมีอิทธิพลต่อ
กระบวนการผลิตนาโนที่ตามมา โดยเฉพาะ nanoimprinting .
ในนาโน Imprinting , ผิวไม่เรียบ จะทำให้ความดันไม่สม่ำเสมอและผลในรูปแบบไม่สม่ำเสมอ ส่วนความผิดปกติ
ของอาจารย์จะถูกคัดลอกไปยังผลิตภัณฑ์ที่ตามมา เหล่านี้
ปัญหามีประสิทธิภาพจะประนีประนอมคุณภาพของตามมา
ผลิต