An overview of the ultraviolet-ozon

An overview of the ultraviolet-ozone (UV-O3) method for removal of surface contaminants is provided. UV-O3 is an effective method for removing a variety of contaminants from various surfaces. It is a simple-to-use dry process which is inexpensive to set up and operate. It can produce near-atomically clean surfaces, in air or in a vacuum system, at ambient temperatures. Recent applications of UV-O3 cleaning for removal of surface contaminants are discussed.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพรวมของวิธีอัลตราไวโอเลตโอโซน (UV-O3) สำหรับกำจัดสารปนเปื้อนที่พื้นผิวที่มีให้ UV-O3 เป็นวิธีมีประสิทธิภาพสำหรับเอาสารปนเปื้อนต่าง ๆ ออกจากพื้นผิวต่าง ๆ มันเป็นกระบวนการแห้งง่ายเพื่อใช้ที่ราคาไม่แพงเพื่อตั้งค่า และมี มันสามารถสร้างพื้นผิวสะอาดใกล้-atomically ในอากาศ หรือ ใน ระบบสูญญากาศ ที่อุณหภูมิแวดล้อม ใช้งานล่าสุดของ UV O3 ทำความสะอาดกำจัดสารปนเปื้อนผิวจะกล่าวถึง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพรวมของโอโซนรังสีอัลตราไวโอเลต (UV-O3) วิธีการในการกำจัดสารปนเปื้อนพื้นผิวที่มีให้ UV-O3 เป็นวิธีที่มีประสิทธิภาพในการลบความหลากหลายของสารปนเปื้อนจากพื้นผิวต่างๆ มันคือการที่ง่ายต่อการใช้กระบวนการแห้งซึ่งมีราคาไม่แพงการติดตั้งและใช้งาน สามารถผลิตใกล้อะตอมพื้นผิวที่สะอาดในอากาศหรือในระบบสูญญากาศที่อุณหภูมิโดยรอบ การใช้งานที่ผ่านมาของ UV-O3 ทำความสะอาดสำหรับการกำจัดของสารปนเปื้อนพื้นผิวที่จะกล่าวถึง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภาพรวมของยูวีโอโซน ( uv-o3 ) วิธีการในการกำจัดสารปนเปื้อนบนพื้นผิวให้ uv-o3 เป็นวิธีที่มีประสิทธิภาพสำหรับการลบความหลากหลายของสิ่งปนเปื้อนจากพื้นผิวต่างๆ มันเป็นเรื่องง่ายที่จะใช้บริการ กระบวนการซึ่งจะไม่แพงในการตั้งค่าและใช้งาน มันสามารถสร้างพื้นผิวที่ใกล้ atomically สะอาด ในอากาศหรือในระบบสุญญากาศ ที่อุณหภูมิแวดล้อมใช้งานล่าสุดของ uv-o3 ทำความสะอาดเพื่อกำจัดสารปนเปื้อนบนพื้นผิวได้ถูก