A 50–70 nm thickness TiO2 compact b

A 50–70 nm thickness TiO2 compact blocking layer was deposited
on the cleaned FTO substrates by treating in a 50 mM TiCl4 aqueous
solution at 70 °C for 30 min in order to improve the mechanical and
adhesion strength. The substrates were then rinsed with deionized
water and ethanol, at last heated at 500 °C for 30 min

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

50-70 นาโนเมตรหนา TiO2 ฝากชั้นบล็อกขนาดกะทัดรัดบนพื้นผิว FTO ทำความสะอาดโดยการรักษาใน 50 มม. TiCl4 อควี70 ° C นาน 30 นาทีเพื่อปรับปรุงการเครื่องกล และแรงยึดติด พื้นผิวถูกแล้วล้างด้วยจุน้ำและเอทานอล ในที่สุด ความร้อนที่ 500 ° C เป็นเวลา 30 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

50-70 นาโนเมตรความหนาของชั้น TiO2 ขนาดกะทัดรัดปิดกั้นถูกวาง
ในการทำความสะอาดพื้นผิว FTO โดยการรักษาในน้ำขนาด 50 มม TiCl4
วิธีการแก้ปัญหาที่ 70 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 30 นาทีในการสั่งซื้อเพื่อปรับปรุงเครื่องจักรกลและ
ความแข็งแรงของการยึดเกาะ พื้นผิวที่ได้รับการล้างแล้วด้วยปราศจากไอออน
น้ำและเอทานอลที่ได้รับความร้อนที่ผ่านมาที่ 500 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 30 นาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

50 – 70 nm หนา ) ขนาดกะทัดรัดขวางชั้นฝากในการทำความสะอาดพื้นผิวโดยการรักษา FTO ใน ticl4 น้ำ 50 มิลลิเมตรโซลูชันที่ 70 องศา C เป็นเวลา 30 นาที เพื่อที่จะปรับปรุงและเครื่องจักรกลตัวแรง สารอาหาร ) จากนั้นล้างด้วยคล้ายเนื้อเยื่อประสานน้ำและเอทานอล ล่าสุดอุณหภูมิ 500 องศา C 30 นาที