interaction of TiO2 surface with ox

interaction of TiO2 surface with oxygen (O2) is necessary. The chemistry of oxygen is an important, but often overlooked, component of many chemical and photochemical processes that take place on TiO2-based materials. Oxygen is widely used in photochemical oxidation studies on TiO2 and is usually considered to act primarily as a scavenger of the photoexcited electrons, thus preventing negative charge accumulation on the surface of catalyst. In some solution-phase photochemical studies, the resulting superoxide radical anion (O2−) species are envisioned to participate in homogeneous-phase reactions with water molecules to form hydrogen peroxyl species that may play a role in organic oxidation, either in solution or on the surface. Only a few groups have proposed that surface-bound O2 or O2− species may be directly involved in photooxidation of coabsorbed species. The step of O2− formation upon chemisorption of oxygen requires the presence of surface vacancy sites. No oxygen absorption would occur on a stoichiometric surface. However, the exact nature of absorbed O2 on these TiO2 surfaces is not well understood. Some studies have been carried out for the reduction of TiO2 in oxygen vacancy sites obtained by high-temperature annealing in ultrahigh vacuum (UHV) [12]. TiO2 decomposes at high temperatures and low oxygen pressures or at elevated temperatures in the presence of reducing gases, thereby forming suboxides TiOx with x < 2. Molecular oxygen is typically used by UHV researchers to restore the stoichiometry of ion-sputtered or vacuum-reduced TiO2 surfaces.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

จำเป็นต้องโต้ตอบของ TiO2 ผิว ด้วยออกซิเจน (O2) เคมีของออกซิเจนเป็นสำคัญ แต่มักจะมอง ข้าม ส่วนประกอบในสารเคมี และ photochemical กระบวนที่เกิดขึ้นในวัสดุที่ใช้ TiO2 ออกซิเจนถูกใช้ในศึกษาออกซิเดชัน photochemical TiO2 และมักถือเป็นหลักเป็นแบบสัตว์กินของเน่าของอิเล็กตรอน photoexcited ป้องกันการสะสมประจุลบบนผิวของเศษ ในการศึกษาบาง photochemical เฟสโซลูชั่น ชนิด anion รุนแรง (O2−) ซูเปอร์ออกไซด์ได้มีจินตนาการเข้าร่วมในปฏิกิริยาขั้นตอนเหมือนกับโมเลกุลของน้ำสปีชีส์ peroxyl ไฮโดรเจนแบบฟอร์มที่อาจมีบทบาทในอินทรีย์ออกซิเดชัน ในโซลูชัน หรือ บนพื้นผิว เพียงไม่กี่กลุ่มได้เสนอว่า สปีชีส์ O2 หรือ O2− ผูกกับผิวอาจจะเกี่ยวข้องโดยตรงใน photooxidation พันธุ์ coabsorbed ขั้นตอนการก่อ O2− เมื่อ chemisorption ออกซิเจนต้องของอเมริกาตำแหน่งว่างพื้นผิว ไม่ดูดซึมออกซิเจนจะเกิดขึ้นบนพื้นผิว stoichiometric อย่างไรก็ตาม ธรรมชาติแท้จริงของ O2 ดูดซึมบนพื้นผิวเหล่านี้ TiO2 ไม่เป็นทั้งที่เข้าใจ บางการศึกษามีการดำเนินการสำหรับการลดของ TiO2 ในไซต์ตำแหน่งว่างออกซิเจนได้ โดยการอบเหนียวในสุญญากาศ ultrahigh (UHV) [12] อุณหภูมิสูง TiO2 decomposes ที่อุณหภูมิสูงและความดันออกซิเจนต่ำ หรืออุณหภูมิในต่อหน้าของลดก๊าซ จึงเป็น suboxides TiOx กับ x < 2 โดยทั่วไปโมเลกุลออกซิเจนถูกใช้ โดยนักวิจัย UHV คืน stoichiometry sputtered ไอออน หรือดูดลดพื้นผิว TiO2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การทำงานร่วมกันของพื้นผิว TiO2 กับออกซิเจน (O2) เป็นสิ่งที่จำเป็น คุณสมบัติทางเคมีของออกซิเจนเป็นสิ่งสำคัญ แต่มักจะมองข้ามองค์ประกอบของสารเคมีจำนวนมากและกระบวนการเคมีที่เกิดขึ้นกับวัสดุ TiO2-based ออกซิเจนจะถูกใช้กันอย่างแพร่หลายในการศึกษาการเกิดออกซิเดชันเคมีใน TiO2 และถือว่าเป็นมักจะทำหน้าที่หลักเป็นสมบัติของอิเล็กตรอน photoexcited จึงป้องกันการสะสมประจุลบบนพื้นผิวของตัวเร่งปฏิกิริยา วิธีการแก้ปัญหาในบางขั้นตอนการศึกษาแสง, ผล superoxide ไอออนรุนแรง (O2 อย่าง) ชนิดที่จินตนาการจะมีส่วนร่วมในการเกิดปฏิกิริยาที่เป็นเนื้อเดียวกันเฟสกับโมเลกุลของน้ำในรูปแบบสายพันธุ์ peroxyl ไฮโดรเจนที่อาจมีบทบาทในการออกซิเดชั่อินทรีย์ทั้งในการแก้ปัญหาหรือบน พื้นผิว เพียงไม่กี่กลุ่มได้เสนอว่าพื้นผิวที่ถูกผูกไว้ O2 หรือสายพันธุ์ O2 อย่างอาจจะมีส่วนเกี่ยวข้องโดยตรงใน photooxidation ของสายพันธุ์ coabsorbed ขั้นตอนของการก่อ O2 อย่างเมื่อทางเคมีของออกซิเจนในปัจจุบันมีเว็บไซต์ที่ว่างพื้นผิว การดูดซึมออกซิเจนไม่มีจะเกิดขึ้นบนพื้นผิว stoichiometric แต่ลักษณะที่แน่นอนของการดูดซึม O2 ในพื้นผิวเหล่านี้ TiO2 ไม่เข้าใจ บางการศึกษาได้รับการดำเนินการสำหรับการลดลงของ TiO2 ในเว็บไซต์ว่างออกซิเจนที่ได้รับจากการหลอมที่อุณหภูมิสูงในสุญญากาศยูเอชที (UHV) [12] TiO2 สลายตัวที่อุณหภูมิสูงและความดันออกซิเจนต่ำหรือที่อุณหภูมิสูงในการปรากฏตัวของการลดก๊าซจึงขึ้นรูป suboxides TiOx กับ x <2. ออกซิเจนโมเลกุลโดยปกติจะใช้โดยนักวิจัย UHV ที่จะเรียกคืนปริมาณสัมพันธ์ของไอออน sputtered หรือสูญญากาศลด TiO2 พื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ปฏิสัมพันธ์ของพื้นผิว ) กับออกซิเจน ( O2 ) ที่จำเป็น เคมีของออกซิเจนเป็นสิ่งที่สำคัญ แต่มักจะมองข้ามองค์ประกอบเคมีและเคมีหลายกระบวนการที่ใช้เวลาสถานที่ใน ) ตามวัสดุ ออกซิเจนถูกใช้กันอย่างแพร่หลายในเคมีออกซิเดชันการศึกษา TiO2 และมักจะถือว่าทำหน้าที่หลักเป็นบริการของ photoexcited อิเล็กตรอนจึงป้องกันการสะสมประจุลบบนพื้นผิวของตัวเร่งปฏิกิริยา ในบางวิธี ระยะที่ 2 ศึกษาผลซุปเปอร์หัวรุนแรงไอออนลบ ( O2 − ) ชนิดมีวิสัยทัศน์ที่จะมีส่วนร่วมในปฏิกิริยาขั้นตอนเป็นเนื้อเดียวกันกับโมเลกุลของน้ำในรูปแบบ peroxyl ไฮโดรเจนชนิดที่อาจมีบทบาทในอินทรีย์ออกซิเดชัน ในการแก้ปัญหา หรือบนพื้นผิวเพียงไม่กี่กลุ่มที่ได้เสนอไว้ที่ผิวหรือ O2 O2 −สายพันธุ์อาจจะเกี่ยวข้องโดยตรงใน coabsorbed ค่าของชนิด ขั้นตอนของการดูดซับทางเคมีของออกซิเจน O2 −เมื่อมีการแสดงตนของเว็บไซต์ที่ว่างบนพื้นผิว ไม่มีออกซิเจน การดูดซึมจะเกิดขึ้นบนพื้นผิว stoichiometric . อย่างไรก็ตาม แน่นอนธรรมชาติของออกซิเจนบนพื้นผิวดูดซึม TiO2 เหล่านี้ไม่เข้าใจ .การศึกษาได้ดำเนินการเพื่อลดการใช้ออกซิเจน ) ในเว็บไซต์ที่ได้จากการหลอมในตำแหน่งงานสูงคลื่นวิทยุสูญญากาศ ( uhv ) [ 12 ] TiO2 สลายตัวที่อุณหภูมิสูงและต่ำ ความดัน หรืออุณหภูมิสูง ออกซิเจนในสถานะของการลดก๊าซ จึงเป็น suboxides tiox กับ x < 2โมเลกุลออกซิเจนที่มักจะใช้โดยนักวิจัย uhv เพื่อเรียกคืนปริมาณสัมพันธ์ของไอออน sputtered เครื่องดูดฝุ่นลดพื้นผิว ) .