These include ex-situ argon plasma

These include ex-situ argon plasma etching of the
ZnO surface after deposition [5,10] and in-situ methods among
them the LPCVD ZnO surface is covered by (a) a capping layer
grown with high DEZ precursor flows and (b) capping layers
grown with adding ethanol into the gas mixture [11–14].

flows

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เหล่านี้รวมถึงอาร์กอนอดีตแหล่งกำเนิดแกะสลักพลาสม่าของพื้นผิว ZnO หลังจากการสะสม [5,10] และในแหล่งกำเนิดวิธีการในหมู่พวกเขาพื้นผิวLPCVD ซิงค์ออกไซด์ถูกปกคลุมด้วย (ก) ชั้นสูงสุดที่กำหนดปลูกด้วยสารตั้งต้นDEZ ชั้นสูงกระแสและ (ข) สูงสุดที่กำหนด ชั้นปลูกด้วยเอทานอลเพิ่มลงในส่วนผสมของก๊าซ[11-14]. ไหล

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เหล่านี้รวมถึง ex situ อาร์กอนพลาสมาแกะสลักของผิวหลังจากการซิงค์ออกไซด์ 5 10
[ ]
และวิธีการของพวกเขาควบคู่ lpcvd ZnO พื้นผิวปกคลุมด้วย ( ) •ชั้น
โต OWS flเดซสารตั้งต้นสูงและ ( ข ) •ชั้น
โตเพิ่มเอทานอลเป็นส่วนผสมแก๊ส [ 11 – 14 ]

ไหล