A nanoimprint system with 1-lm alig

A nanoimprint system with 1-lm alignment accuracy (NM-
0606SQ: Meisyo Kiko Co., Japan) was used. The UV-curable resin
was irradiated with UV light and the mold was separated from
the UV-curable resin/Si wafer. To make the second UV nanoimprint,
the UV-curable resin pattern should have sufficient stiffness
and robustness because the first imprinted pattern must persist
after the demolding process.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระบบ nanoimprint ที่ มีความถูกต้องของ 1 lm ตำแหน่ง (NM-0606SQ: Meisyo Kiko Co. ญี่ปุ่น) ใช้ ยางรักษา UVถูก irradiated แสง UV และแม่พิมพ์ถูกแยกออกจากแผ่นเวเฟอร์เรซิน/ซี UV รักษา ต้องการ nanoimprint UV สองลายยาง UV สมัครควรมีความแข็งเพียงพอและเสถียรภาพเนื่องจากรูปแบบ imprinted แรกต้องคงอยู่หลังจากกระบวนการ demolding

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ระบบ nanoimprint ด้วยความถูกต้องจัดตำแหน่ง 1 ลูเมน (NM-
0606SQ: Meisyo Kiko Co. , ญี่ปุ่น) ถูกนำมาใช้ เรซิน UV-curable
ได้รับการฉายรังสีด้วยแสงยูวีและราถูกแยกออกจาก
เรซิน UV-curable / เวเฟอร์ศรี เพื่อให้ nanoimprint รังสียูวีที่สอง
รูปแบบเรซิน UV-curable ควรจะมีความมั่นคงเพียงพอ
และความทนทานเพราะรูปแบบตราตรึงใจครั้งแรกจะต้องยังคงมีอยู่
หลังจากกระบวนการการถอดพิมพ์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ระบบ nanoimprint กับ 1-lm ความถูกต้องแนวร่วม ( nm -
0606sq : meisyo Kiko Co . , Japan ) คือใช้ UV curable ยาง
คือการฉายรังสีแสงยูวี และเชื้อราที่แยกจาก UV curable
เรซิน / ศรีเวเฟอร์ เพื่อให้ nanoimprint ยูวี UV curable 2

เรซิ่นรูปแบบควรมีความแข็งเพียงพอและทนทาน เพราะครั้งแรกที่ตราตรึงใจแบบต้องคงอยู่
หลังจาก demolding กระบวนการ