In continuing attempts to reduce th

In continuing attempts to reduce the size of nanosilica by researchers, a homogeneous, highly dispersed, and stable
silica nanoparticle of ∼7.1 nm in the primary size range was reported by Rahman et al. [23] at the optimum
conditions of sol-gel process, under the influence of low frequency ultrasound. The optimized technique developed is
simple and reproducible, affording a high yield of ∼75% of nanometer silica in a primary size range.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในความพยายามที่จะลดขนาดของ nanosilica โดยนักวิจัย เหมือน กระจายสูง อย่างต่อเนื่องและมีเสถียรภาพซิลิก้า nanoparticle สูงของ ∼7.1 nm ในช่วงหลักขนาดรายงานโดยเราะห์มาน et al. [23] ที่มีประสิทธิภาพสูงสุดเงื่อนไขของกระบวนการโซลเจล ภายใต้อิทธิพลของอัลตร้าซาวด์ความถี่ต่ำ เทคนิคเหมาะสมพัฒนาง่าย และ จำลอง ซึ่งผลผลิตสูง% ∼75 ของซิลิก้านาโนเมตรในช่วงขนาดหลัก

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อย่างต่อเนื่องในความพยายามที่จะลดขนาดของ nanosilica โดยนักวิจัยที่เป็นเนื้อเดียวกันแยกย้ายกันสูงและมีเสถียรภาพ
อนุภาคนาโนซิลิกา ~7.1 นาโนเมตรในช่วงขนาดหลักถูกรายงานโดยเราะห์มานอัลเอต [23] ที่เหมาะสม
เงื่อนไขของกระบวนการโซลเจลภายใต้อิทธิพลของอัลตราซาวนด์ความถี่ต่ำ เทคนิคการเพิ่มประสิทธิภาพการพัฒนาเป็น
ที่เรียบง่ายและทำซ้ำเจตนารมณ์ผลผลิตสูงของ ~75% ของนาโนซิลิกาในช่วงขนาดหลัก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการพยายามที่จะลดขนาดของนาโนซิลิกาโดยนักวิจัย เป็นเนื้อเดียวกันสูงกระจาย และมั่นคงอนุภาคนาโนซิลิกาจาก∼ 7.1 nm ในช่วงขนาดหลักถูกรายงานโดย Rahman et al . [ 23 ] ที่เหมาะสมเงื่อนไขของกระบวนการโซล - เจล ภายใต้อิทธิพลของอัลตราซาวนด์ความถี่ต่ำ การเพิ่มประสิทธิภาพเทคนิคพัฒนาคือง่ายและถอดแบบเพื่อผลผลิตสูง , ∼ 75% ของนาโนซิลิกาขนาดหลักในช่วง