In this technology both layers are

In this technology both layers are deposited with Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
(PECVD)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในเทคโนโลยีนี้ชั้นทั้งสองจะถูกฝากไว้กับพลาสม่าเพิ่มไอสารเคมีสะสม
(PECVD)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เทคโนโลยีนี้ ฝากทั้งกับพลาสม่าเพิ่มเคมีไอ Deposition
(PECVD)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในด้านเทคโนโลยีชั้นทั้งสองนี้จะเพิ่มขึ้นพร้อมด้วยจอพลาสม่าสารเคมีไอ
ซึ่งจะช่วยวาง( pecvd )