Substrate and Monolayer Preparation

Substrate and Monolayer Preparation. Silicon substrates were
cleaned by immersion in piranha solution (conc. H2SO4 and 33%
H2O2 in a 3:1 volume ratio; Warning! Piranha should be handled
with caution; it can detonate unexpectedly!) for 15 min to form a
SiO2 layer on the surface. The substrates were then sonicated in
Milli-Q water and ethanol for 1 min, and dried with a stream of N2.
Amino-terminated SAMs (NH2-SAMs) were obtained by gas-phase
evaporation of APTES in a desiccator under vacuum for several
hours, and then carefully rinsed with ethanol and Milli-Q water.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวและการเตรียม Monolayer พื้นผิวซิลิกอนที่ถูก
ทำความสะอาด โดยแช่ในโซลูชันปลาปิรันยา (conc. กำมะถันและ 33%
H2O2 ในอัตราส่วน 3:1 ปริมาตร คำเตือน ควรจัดการปลาปิรันยา
ด้วยความระมัดระวัง มันสามารถระเบิดโดยไม่คาดคิด) สำหรับ 15 นาทีไปยังแบบฟอร์ม
ชั้น SiO2 บนพื้นผิว พื้นผิวถูก sonicated ในแล้ว
Q น้ำและเอทานอลในนาทีที่ 1 และอบแห้ง ด้วยกระแสของ N2
SAMs เลิกอะมิโน (NH2-SAMs) ได้รับมา โดยเฟสก๊าซ
ระเหยของ APTES ใน desiccator ภายใต้สุญญากาศสำหรับหลาย
ชั่วโมง แล้ว อย่างรอบคอบ rinsed ด้วยเอทานอลและน้ำ Q

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พื้นผิวและการเตรียม monolayer พื้นผิวซิลิกอนได้รับการ
ทำความสะอาดโดยการแช่ในสารละลายปิรันย่า (H2SO4 conc. และ 33%
H2O2 ในอัตราส่วนปริมาณ 3:01; ปิรันย่าคำเตือนควรจะจัดการ!
ด้วยความระมัดระวังที่จะสามารถทำให้เกิดการระเบิดอย่างไม่คาดคิด!) เป็นเวลา 15 นาทีในรูปแบบ
ชั้น SiO2 บน พื้นผิว พื้นผิวที่ถูก sonicated แล้วใน
น้ำพัน-Q และเอทานอลเป็นเวลา 1 นาทีและแห้งด้วยกระแสของ N2
Amino-ยกเลิก SAMs (NH2-SAMs) ที่ได้รับจากการใช้ก๊าซธรรมชาติในช่วง
การระเหยของ APTES ในเดซิภายใต้สูญญากาศเป็นเวลาหลาย
ชั่วโมง แล้วล้างอย่างระมัดระวังด้วยเอทานอลและน้ำพัน-Q

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พื้นผิวและเตรียมตัวอย่าง . ซิลิคอน สารอาหารถูกทำความสะอาดโดยการแช่ในสารละลาย
ปิรันย่า ( เข้มข้น . และกรดซัลฟิวริก H2O2 33 %
ใน 3 : 1 อัตราส่วนปริมาตร ; เตือนภัย ปิรันย่าควรจัดการ
ด้วยความระมัดระวัง มัน จะระเบิดอย่างไม่คาดคิด ! 15 นาทีในรูปแบบ
ชั้นพ่นบนพื้นผิว เมื่อเป็นแล้ว sonicated
น้ำและเอทานอลใน milli-q นาน 1 นาที และอบแห้งด้วยกระแส N2
.อะมิโนยกเลิกแซม ( nh2 แซม ) ที่ได้รับจากการระเหยแก๊ส
ของ aptes ในเดซิกเคเตอร์ภายใต้สูญญากาศหลาย
ชั่วโมงแล้วล้างอย่างระมัดระวังด้วยเอทานอลและน้ำ milli-q .