The complete experimental system is

The complete experimental system is shown in Figs. 1 and 2. The plasma torch consists of a 2% thoriated tungsten cathode and a stack of four copper ring segments separated by insulating rings and a copper anode, all of which are intensely water-cooled (Fig. 3). The rings and the Teflon gaskets/insulators were configured geometrically to avoid Teflon being directly exposed to the plasma radiation. The anode is connected to a 15-mm diameter,25-mm long injection section through a 12-mm thick flange, followed by a 50-mm long converging nozzle (of inlet diameter 10 mm and outlet diameter 5 mm). The nozzle exhausts into a low-pressure collection chamber with a movable substrate for sampling the particles. The system is powered through a full wave DC Thyristorised power supply (150 V/400 A) with an HF igniter. The chamber was evacuated with 580 and 1500 lpm rotary pumps and pressure was measured with a mercury manometer. A closed loop water circulating system with a water storage tank (1500 l), centrifugal pump, water headers and 15 numbers of parallel lines each comprising of valves, rotameters, and AD590 temperature sensors were used to measure heat flux to various components of the torch reactor and the chamber. A PID-controlled tubular furnace was used to evaporate the metal chlorides.An ADVANTECH, 330 kHz card was used to acquire data and feed to the computer. The average plasma temperature at the injection section and just outside the nozzle was estimated through calorimetric measurement of heat loss from the plasma upstream of these axial locations [1]. The power in the plasma gas at those sections was measured and the standard enthalpy–temperature look-up tables provided the average plasma temperature. The electron density and temperature in the expanded plume were determined through a modified Langmuir probe (0.25 mm diameter and protruding 2.5 mm from alumina jacket). The probe was placed momentarily in the sampling zone and biased with a ramping voltage in typically millisecond time period [12,13].The system was first pumped down to 102 mbar base pressure, plasma was stabilized and vapor phase reactants were injected into the plasma for materials synthesis.Samples were collected at a distance of 12 cm from the nozzle exit and sent for characterization.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ทดลองระบบสมบูรณ์จะแสดงในมะเดื่อ. 1 และ 2 พลาสม่าไฟฉายประกอบด้วยแคโทด 2% อิเล็กโทรดทังสเตนและกองซ้อนสี่วงแหวนทองแดงส่วนคั่น ด้วยฉนวนขั้วบวกเป็นทองแดง และแหวนทั้งหมดเข้มข้นระบาย (3 รูป) มีการกำหนดค่าแหวนและเทฟล่อนปะเก็น/ฉนวนเชื่อมเพื่อหลีกเลี่ยงการเทฟลอนโดยตรงสัมผัสกับรังสีพลาสมา เชื่อมต่อขั้วบวกกับขนาด 15-มม. ส่วนฉีดยาว 25 มม.ถึง 12 มม.หนาหน้าแปลน ตาม ด้วยหัวฉีด converging ยาว 50 มม. (ของเข้าเส้นผ่าศูนย์กลาง 10 มม.และเต้าเสียบเส้นผ่าศูนย์กลาง 5 มม.) หมดแรงหัวฉีดเข้าไปในห้องเก็บแรงดันต่ำกับพื้นผิวที่เคลื่อนย้ายได้สำหรับสุ่มตัวอย่างอนุภาค ระบบขับเคลื่อนผ่านคลื่นเต็ม DC Thyristorised เพาเวอร์ซัพพลาย (150 V/400 A) กับทาโกะยากิมี HF หอการค้าถูกอพยพปั๊มโรตารี่ 580 และ 1500 ลิตรต่อนาที และความดันถูกวัด ด้วยแน่นอน manometer มีปรอท การปิดน้ำที่หมุนเวียนระบบถังเก็บน้ำ (1500 l), ปั๊มหอยโข่ง หัวน้ำ และหมายเลข 15 ของเส้นขนานแต่ละประกอบด้วยวาล์ว rotameters และเซนเซอร์อุณหภูมิ AD590 ใช้วัดฟลักซ์ความร้อนไปยังส่วนต่าง ๆ ของเครื่องปฏิกรณ์ไฟฉายและหอการค้า ควบคุม PID เตาท่อนี้ใช้ในการระเหยคลอไรด์โลหะ ADVANTECH การ 330 kHz บัตรถูกใช้เพื่อรับข้อมูล และดึงข้อมูลไปยังคอมพิวเตอร์ อุณหภูมิเฉลี่ยพลาสมาที่ฉีด และหัวฉีดอยู่ได้ประมาณผ่านวัด calorimetric ของสูญเสียความร้อนจากพลาสม่าต้นน้ำของสถานตามแนวแกน [1] มีวัดพลังงานในก๊าซพลาสม่าส่วนเหล่านั้น และตารางค้นหาเอนทาลปีมาตรฐาน – อุณหภูมิให้พลาสม่าเฉลี่ย อิเล็กตรอนความหนาแน่นและอุณหภูมิในเบิ้ลพลูมขยายถูกกำหนดผ่านโพรบ Langmuir แก้ไข (0.25 มม.และ 2.5 มม.ยื่นออกมาจากเสื้ออลูมินา) โพรบถูกอยู่โซนสุ่ม momentarily และลำเอียงกับแรงดันไฟฟ้า ramping ในมิลลิวินาทีโดยทั่วไประยะเวลา [12,13] ระบบแรกถูกสูบลงไปดันฐาน mbar 102 พลาสม่าได้เสถียร และไอเฟส reactants ถูกฉีดเข้าไปในพลาสม่าสำหรับวัสดุสังเคราะห์ ตัวอย่างรวบรวมในระยะ 12 ซม.จากหัวฉีดออก และส่งการจำแนกลักษณะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทดลองระบบที่สมบูรณ์จะแสดงในมะเดื่อ 1 และ 2 พลาสม่าไฟฉายประกอบด้วยแคโทดทังสเตน thoriated 2% และสแต็คของสี่ส่วนแหวนทองแดงแยกจากกันโดยฉนวนแหวนและขั้วบวกทองแดงเป็นทั้งหมดที่มีความเข้มข้นน้ำเย็น (รูปที่. 3) แหวนและปะเก็นเทฟลอน / ฉนวนถูกกำหนดค่าเรขาคณิตเพื่อหลีกเลี่ยงการถูกเทฟลอนสัมผัสโดยตรงกับรังสีพลาสม่า ขั้วบวกเชื่อมต่อกับขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 15 มิลลิเมตร 25 มิลลิเมตรส่วนการฉีดยาวผ่านหน้าแปลนหนา 12 มมตามด้วย 50 มมหัวฉีดบรรจบยาว (เส้นผ่าศูนย์กลาง 10 มมทางเข้าและทางออกเส้นผ่าศูนย์กลาง 5 มิลลิเมตร) หลักสี่หัวฉีดเข้าไปในห้องคอลเลกชันความดันต่ำที่มีพื้นผิวที่สามารถเคลื่อนย้ายสำหรับการสุ่มตัวอย่างอนุภาค ระบบจะขับเคลื่อนผ่านคลื่นเต็มซี Thyristorised Power Supply (150 V / 400 A) กับลุกไหม้ HF ห้องถูกโยกย้ายปั๊ม 580 1500 LPM หมุนและความดันวัดกับมิเตอรปรอท น้ำวงปิดระบบการไหลเวียนของที่มีถังเก็บน้ำ (1,500 ลิตร) ปั๊มแรงเหวี่ยงหัวน้ำและ 15 ตัวเลขของเส้นคู่ขนานแต่ละประกอบด้วยวาล์ว, rotameters และเซ็นเซอร์วัดอุณหภูมิ AD590 ถูกนำมาใช้ในการวัดการไหลของความร้อนกับชิ้นส่วนต่างๆของไฟฉาย เครื่องปฏิกรณ์และห้อง เตาท่อ PID ควบคุมถูกใช้ในการระเหยโลหะ chlorides.An Advantech 330 เฮิร์ทซ์บัตรถูกใช้ในการรับข้อมูลและอาหารไปยังเครื่องคอมพิวเตอร์ อุณหภูมิเฉลี่ยอยู่ที่พลาสม่าส่วนการฉีดและนอกหัวฉีดได้ประมาณผ่านวัดแคลอรีของการสูญเสียความร้อนจากต้นน้ำพลาสม่าในสถานที่เหล่าแกน [1] อำนาจในก๊าซพลาสม่าในส่วนเหล่านั้นได้รับการวัดและเอนทัลปีอุณหภูมิตารางมองขึ้นมาตรฐานให้อุณหภูมิเฉลี่ยพลาสม่า ความหนาแน่นของอิเล็กตรอนและอุณหภูมิในขนนกขยายตัวได้รับการพิจารณาผ่าน Langmuir สอบสวนการแก้ไข (เส้นผ่าศูนย์กลาง 0.25 มิลลิเมตรและยื่นออกมาขนาด 2.5 มมจากอลูมิแจ็คเก็ต) ความคิดเห็นที่ถูกวางไว้ชั่วขณะในเขตการสุ่มตัวอย่างและลำเอียงกับแรงดันไฟฟ้ากระโจนในช่วงเวลาที่มักจะมิลลิวินาที [12,13] ระบบได้โดยเริ่มต้นเป็นครั้งแรกที่สูบลงไป 102 เอ็มบาร์ดันฐานพลาสม่ามีเสถียรภาพและสารตั้งต้นเฟสไอถูกฉีดเข้าไปในพลาสม่า สำหรับวัสดุ synthesis.Samples ถูกเก็บในระยะทาง 12 ซม. จากทางออกหัวฉีดและส่งสำหรับตัวละคร