The electron mobility and Seebeck coefficient increase significantly, leading to a remarkable improvement in the power factor from 3.3 w/K cm for the as-deposited sample to 24.1 HwIK2 cm for the 200 ac annealed sample.
The electron mobility and Seebeck coefficient increase significantly, leading to a remarkable improvement in the power factor from 3.3 w/K cm for the as-deposited sample to 24.1 HwIK2 cm for the 200 ac annealed sample.
การเคลื่อนไหวของอิเล็กตรอนและการเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญค่าสัมประสิทธิ์ Seebeck ที่นำไปสู่การพัฒนาที่โดดเด่นในปัจจัยอำนาจจาก 3.3 w / K ซม. สำหรับตัวอย่างตามที่ฝาก 24.1 ซม HwIK2 สำหรับตัวอย่างอบ 200 ac
อิเล็กตรอนเคลื่อนที่ วัดค่าและเพิ่มสถิติที่นำไปสู่การปรับปรุงที่โดดเด่นในด้านพลังงานจาก 3.3 W / K ซม. สำหรับเป็นฝากตัวอย่าง hwik2 24.1 เซนติเมตร 200 AC อบตัวอย่าง