spectroscopy, SQUID VSM were carrie

spectroscopy, SQUID VSM were carried out to investigate phase formation, microstructural and influence
of Cu doping on magnetic properties of NiFe2O4 thin films. The gas response towards various gases viz.
ethanol, Liquid Petroleum Gas (LPG), methanol and hydrogen sulfide (H2S) is investigated. The results of
XRD revealed that all samples had shown the principal phase of nickel ferrite and the lattice parameter
was found to vary from 8.294 Å to 8.314 Å on an incorporation of Cu, and the crystalline sizes were about
40e45 nm. The effect of Cu concentration on saturation magnetization and coercive force were studied.
The maximum value of saturation magnetization calculated from hysteresis loop was 89.16 emu/g at
room temperature and 96.88 emu/g at 50 K. Cu content on the film surface was found to be maximum for
1 wt% Cu:NiFe2O4 thin film and this film showed an improved response towards all gases. Response of
ethanol for NiFe2O4 thin film was found to be higher as compared to all the other gases. The lowering of
the optimum operating temperature is observed in 1 wt% Cu:NiFe2O4 thin film with higher selectivity
towards ethanol than other gases. All results indicated that the Cu doping in nickel ferrite thin films has a
significant influence on the properties.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มิก หมึก VSM ดำเนินการเพื่อตรวจสอบระยะก่อ จุลภาค และมีอิทธิพลต่อการโดปปิงค์ Cu คุณสมบัติแม่เหล็กของฟิล์มบาง NiFe2O4 การตอบสนองก๊าซต่อต่าง ๆ แก๊สได้แก่เอทานอล ก๊าซปิโตรเลียมเหลว (LPG), เมทานอล และไฮโดรเจนซัลไฟด์ (H2S) จะตรวจสอบ ผลลัพธ์ของการXRD เปิดเผยว่า ตัวอย่างทั้งหมดได้แสดงขั้นตอนหลักของเฟอร์ไรต์นิกเกิลและพารามิเตอร์ตาข่ายพบว่าแตกต่างกันไปจาก 8.294 Å 8.314 Åในการรวมตัวกันของ Cu และขนาดผลึกเกี่ยวกับ40e45 nm ได้ศึกษาผลของความเข้มข้นของ Cu สะกดจิตอิ่มตัวและบังคับ coerciveค่าสูงสุดของการสะกดจิตอิ่มตัวคำนวณจากวงสัมผัสถูก 89.16 emu/g ที่อุณหภูมิห้องและ 96.88 emu/g ที่ 50 คุณ Cu เนื้อหาบนผิวฟิล์มพบว่ามีค่าสูงสุดสำหรับ1 wt % Cu:NiFe2O4 ฟิล์มบางและภาพยนตร์เรื่องนี้แสดงให้เห็นว่าการตอบสนองที่ดีขึ้นต่อก๊าซทั้งหมด การตอบสนองของเอทานอลสำหรับฟิล์มบาง NiFe2O4 พบจะสูงเมื่อเทียบกับก๊าซอื่น ๆ การลดอุณหภูมิการทำงานที่เหมาะสมเป็นที่สังเกตใน 1 wt % Cu:NiFe2O4 ฟิล์มบาง ด้วยวิธีสูงต่อเอทานอลมากกว่าก๊าซอื่น ๆ ผลลัพธ์ทั้งหมดระบุว่า เติม Cu ในนิกเกิลเฟอร์ไรต์ฟิล์มบางมีการอิทธิพลสำคัญในคุณสมบัติ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สเปกโทรสโกปลาหมึก VSM ได้ดำเนินการในการตรวจสอบการก่อตัวเฟสจุลภาคและอิทธิพล
ของ Cu ยาสลบเกี่ยวกับคุณสมบัติแม่เหล็กของฟิล์มบาง NiFe2O4 การตอบสนองต่อก๊าซก๊าซต่างๆ ได้แก่ .
เอทานอลก๊าซปิโตรเลียมเหลว (LPG), เมทานอลและไฮโดรเจนซัลไฟด์ (H2S) จะตรวจสอบ ผลของการ
ใช้เทคนิคการวิจัยพบว่ากลุ่มตัวอย่างทั้งหมดได้แสดงให้เห็นขั้นตอนหลักของเฟอร์ไรต์นิกเกิลและพารามิเตอร์ตาข่าย
พบว่าแตกต่างจาก A ถึง 8.294 8.314 ในการรวมตัวกันของ Cu และขนาดผลึกประมาณ
40e45 นาโนเมตร ผลของความเข้มข้นของทองแดงในการดึงดูดความอิ่มตัวและแรงบีบบังคับศึกษา.
ค่าสูงสุดของความอิ่มตัวดึงดูดคำนวณจากวง hysteresis เป็น 89.16 Emu / g ที่
อุณหภูมิห้องและนกอีมู 96.88 / g ที่ 50 เนื้อหาเค Cu บนพื้นผิวของฟิล์มก็จะพบว่า จะสูงสุด
1% โดยน้ำหนัก Cu: NiFe2O4 ฟิล์มบางและภาพยนตร์เรื่องนี้แสดงให้เห็นว่าการตอบสนองที่ดีขึ้นต่อก๊าซทั้งหมด การตอบสนองของ
เอทานอลฟิล์มบาง NiFe2O4 ถูกพบว่าเป็นที่สูงขึ้นเมื่อเทียบกับทุกก๊าซอื่น ๆ การลด
อุณหภูมิในการทำงานที่ดีที่สุดเป็นที่สังเกตใน 1% โดยน้ำหนัก Cu: NiFe2O4 ฟิล์มบางที่มีการคัดสรรที่สูงขึ้น
ต่อเอทานอลกว่าก๊าซอื่น ๆ ผลทั้งหมดชี้ให้เห็นว่ายาสลบลูกบาศ์กนิกเกิลฟิล์มบางเฟอร์ไรต์มี
อิทธิพลสำคัญในคุณสมบัติ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ี , vsm ปลาหมึก ศึกษาถึงการเกิดเฟส โครงสร้างจุลภาคและอิทธิพลของทองแดงต่อสมบัติของฟิล์มบางแม่เหล็กยาสลบ nife2o4 . การตอบสนองต่อก๊าซก๊าซต่าง ๆได้แก่เอธานอล ก๊าซปิโตรเลียมเหลว ( LPG ) , เมทานอลและ ไฮโดรเจน ซัลไฟด์ ( h2s ) การสอบสวน ผลลัพธ์ของXRD พบว่าตัวอย่างทั้งหมดได้แสดงขั้นตอนหลักของเฟอร์ไรท์และนิกเกิลตาข่ายพารามิเตอร์พบว่าแตกต่างไปจาก 8.294 กริพเพนกับ 8.314 กริพเพนในการลบและขนาดผลึกได้แก่40e45 nm . ผลของความเข้มข้นของทองแดงจะมีการให้แรงเพื่อค่าสูงสุดของการสะกดจิตที่คำนวณจากการวิเคราะห์ 89.16 emu / g ที่ห่วง คือห้องอุณหภูมิและ 96.88 emu / g ที่ 50 K . ลบเนื้อหาบนพื้นผิวฟิล์มได้สูงสุดสำหรับ1 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและฟิล์มบาง Cu : nife2o4 ฟิล์มนี้ พบการตอบสนองต่อก๊าซ การตอบสนองของเอทานอลสำหรับฟิล์มบาง nife2o4 พบเมื่อเปรียบเทียบกับทั้งหมดอื่น ๆก๊าซ การลดของอุณหภูมิสูงที่เหมาะสมคือการตรวจสอบใน 1 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก nife2o4 CU : ฟิล์มบางระดับหัวกะทิต่อเอทานอลกว่าก๊าซอื่น ๆ ทั้งหมด พบว่าฟิล์มบาง Cu ต้องห้ามในเฟอร์ไรท์มีนิกเกิลมีผลต่อคุณสมบัติ