After deposition, the CH4gas wastur

After deposition, the CH4gas was
turned off and the furnace was cooled to room temperature under
the same flow rates of Ar and H2 as the growth stage

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากการสะสม, CH4gas ถูก
ปิดและเตาเผาถูกระบายความร้อนที่อุณหภูมิห้องภายใต้
อัตราการไหลเดียวกัน Ar และ H2 เป็นระยะการเจริญเติบโต

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากการ , ch4gas คือ
ปิดและเตามันเย็นที่อุณหภูมิห้องภายใต้
เหมือนกัน อัตราการไหล ของ AR และ H2 เป็นขั้นตอนการเจริญเติบโต