Fig. 2.19. Gaussian distribution fo

Fig. 2.19. Gaussian distribution for the concentration profile of implanted ions. The distribution is determined by its projected range, denoted Rp, corresponding to the peak concentration, and its straggle denoted by ΔRp

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มะเดื่อ 2.19 การกระจายเกาส์สำหรับโปรไฟล์ความเข้มข้นของไอออนที่ฝัง การกระจายจะถูกกำหนดโดยช่วงของการคาดการณ์, สวมบทบาทดังกล่าวสอดคล้องกับความเข้มข้นสูงสุดและเรี่ยราดที่แสดงโดยΔrp

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Fig. 2.19 กระจาย gaussian สำหรับส่วนกำหนดค่าความเข้มข้นของประจุลิฟต์ การกระจายเป็นไปตามคาดการณ์ช่วง Rp denoted ที่สอดคล้องกับความเข้มข้นสูงสุด และ straggle ความสามารถบุ โดย ΔRp

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูป. คิดเป็นร้อยละ 2.19 . การกระจาย gaussian สำหรับโปรไฟล์ความเข้มข้นของไอออนปลูกถ่าย. การกระจายสินค้าที่มีการกำหนดโดยคาดว่าจะเป็นช่วงที่มีผู้อุทิศให้ RP ที่เกี่ยวข้องกับการรวมสูงสุดที่ล้าหลังและของที่มีผู้อุทิศให้โดย δrp