Quartz glass slides were used as su

Quartz glass slides were used as substrates.
Before the deposition, substrates were ultrasonically
cleaned in dilute HNO3, acetone and absolute
ethanol for 30 min, respectively. Finally, they were
thoroughly rinsed with water. TiO2 thin films were
deposited on substrates by a dip-coating process at
room temperature. Substrates were immersed into
the TiO2 sol for 10min. Upon withdrawing from
the sol, the substrates were dried in electric furnace
in air at 60 1C for 20 min. Afterward, the
substrates were ultrasonically rinsed with water
for 10 min and then dried at 60 1C for 60 min.
Films so obtained were well adhered. TiO2 layers
on substrates could be thickened by means of
consecutive dip-coating processes. In such cases,
substrates were only ultrasonically rinsed with
water and dried at 60 1C for 60 min at the end of
the whole deposition process.
PrOH and n-butyl alcohol were removed from the
solution in a rotatory evaporator under vacuum.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพนิ่งแก้วควอตซ์ถูกใช้เป็นพื้นผิวก่อนสะสม พื้นผิว ultrasonicallyใน dilute HNO3 อะซิโตน และสัมบูรณ์เอทานอลสำหรับ 30 นาที ตามลำดับ ในที่สุด พวกเขาอย่าง rinsed ด้วยน้ำ มีฟิล์มบาง TiO2ฝากบนพื้นผิว โดยการจุ่มเคลือบที่ที่อุณหภูมิห้อง พื้นผิวถูกแช่อยู่ในโซล TiO2 สำหรับ 10 นาที เมื่อถอนเงินจากโซล พื้นผิวถูกอบแห้งในเตาไฟฟ้าในอากาศที่ 1C 60 สำหรับ 20 นาทีหลังจากนั้น การพื้นผิวถูก rinsed ultrasonically น้ำใน 10 นาที และอบแห้งที่ 60 1C สำหรับ 60 นาทีภาพยนตร์ที่ได้รับดังนั้น ดีปฏิบัติตาม ชั้น TiO2บนพื้นผิวอาจจะ thickened โดยวิธีของกระบวนการชุบเคลือบติดกัน ในกรณีดังกล่าวพื้นผิวมีเพียง ultrasonically rinsed ด้วยน้ำ และอบแห้งที่ 60 1C สำหรับ 60 นาทีจบการสะสมทั้งนั้นPrOH และแอลกอฮอล์ด...ออกจากโซลูชันใน evaporator rotatory ภายใต้สุญญากาศ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สไลด์แก้วควอตซ์ถูกนำมาใช้เป็นสารตั้งต้น.
ก่อนที่จะสะสมพื้นผิวถูก ultrasonically
ทำความสะอาดใน HNO3
เจือจางอะซีโตนและแน่นอนเอทานอลเป็นเวลา30 นาทีตามลำดับ
ในที่สุดพวกเขาได้รับการล้างให้สะอาดด้วยน้ำ TiO2 ฟิล์มบางถูกวางลงบนพื้นผิวโดยกระบวนการจุ่มเคลือบที่อุณหภูมิห้อง พื้นผิวที่ถูกแช่ลงในโซล TiO2 สำหรับ 10 นาที เมื่อถอนตัวจากโซลที่พื้นผิวแห้งในเตาไฟฟ้าในอากาศที่60 1C สำหรับ 20 นาที หลังจากนั้นพื้นผิวที่ได้รับการล้างด้วยน้ำ ultrasonically เป็นเวลา 10 นาทีและอบแห้งแล้วที่ 60 1C 60 นาที. ภาพยนตร์ที่ได้รับเพื่อให้ได้รับการปฏิบัติตามอย่างดี ชั้น TiO2 กับพื้นผิวอาจจะหนาโดยวิธีการของกระบวนการเคลือบจุ่มติดต่อกัน ในกรณีเช่นนี้พื้นผิวที่เป็นเพียงการล้าง ultrasonically กับน้ำและแห้งที่60 1C 60 นาทีในตอนท้ายของกระบวนการให้การของพยานทั้ง. PrOH และเครื่องดื่มแอลกอฮอล์ n บิวทิลถูกถอดออกจากการแก้ปัญหาในการสับเปลี่ยนระเหยภายใต้สุญญากาศ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สไลด์แก้วควอทซ์ พบว่า พื้นผิวก่อนการเคลือบพื้นผิว .
,
) ultrasonically ทำความสะอาดในเจือจางกรดดินประสิว อะซิโตน และแน่นอน
เอทานอลสำหรับ 30 นาที ตามลำดับ ในที่สุด , พวกเขา
สะอาดล้างด้วยน้ำ ฟิล์มบางเป็น TiO2
ฝากบนพื้นผิวโดยการจุ่มเคลือบในกระบวนการ
อุณหภูมิห้อง พื้นผิวที่ถูกแช่ลงในโซล TiO2 สำหรับวัน

เมื่อถอนจากโซล , พื้นผิวที่แห้งในเตาเผาไฟฟ้า
ในอากาศที่ 60 ใน 20 นาทีต่อมา สารอาหารถูกล้างด้วยน้ำ ultrasonically

เป็นเวลา 10 นาที และอบแห้งที่อุณหภูมิ 60 1C 60 นาที
ภาพยนตร์ดังนั้นค่าดีปฏิบัติ TiO2 บนพื้นผิวอาจจะหนาชั้น

) โดยวิธีจุ่มเคลือบ ) ในบางกรณี พื้นผิวเป็นเพียง ultrasonically ล้างด้วย

น้ำและแห้งที่ 60 ใน 60 นาทีในตอนท้ายของกระบวนการสะสม

proh นอร์แมลบิวทิลแอลกอฮอล์ทั้งหมด และถูกลบออกจาก
โซลูชั่นในซึ่งทำให้หมุนรอบระเหยภายใต้สุญญากาศ