it is among the most important oxid

it is among the most important oxide thin film materials used for interference
multilayer coatings down to 250 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

มันเป็นวัสดุสำคัญที่สุดของฟิล์มบางออกไซด์ใช้สำหรับสัญญาณรบกวนเคลือบหลายชั้นเพื่อ 250 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มันเป็นหนึ่งในสิ่งที่สำคัญที่สุดออกไซด์วัสดุบางฟิล์มที่ใช้สำหรับการแทรกแซง
การเคลือบหลายชั้นลงไปที่ 250 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มันเป็นหนึ่งในที่สำคัญที่สุดออกไซด์แบบฟิล์มบางวัสดุที่ใช้สำหรับการรบกวน
หลายชั้นเคลือบลง 250 นาโนเมตร