High Power Impulse Magnetron Sputte

High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS or HiPIMS, also known as high-power pulsed magnetron sputtering, HPPMS) is a method for physical vapor deposition of thin films which is based on magnetron sputter deposition. HIPIMS utilises extremely high power densities of the order of kW⋅cm−2 in short pulses (impulses) of tens of microseconds at low duty cycle (on/off time ratio) of < 10%. Distinguishing features of HIPIMS are a high degree of ionisation of the sputtered metal and a high rate of molecular gas dissociation which result in high density of deposited films. The ionization and dissociation degree increase according to the peak cathode power. The limit is determined by the transition of the discharge from glow to arc phase. The peak power and the duty cycle are selected so as to maintain an average cathode power similar to conventional sputtering (1–10 W⋅cm−2).
HIPIMS is used for:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

magnetron แรงกระตุ้นพลังงานที่สูงสปัตเตอร์ (hipims hipims หรือที่เรียกว่าเป็นพลังงานสูงสปัตเตอร์แมกพัลซิ่ง, hppms) เป็นวิธีการสะสมไอทางกายภาพของฟิล์มบางซึ่งจะขึ้นอยู่กับแมกพ่นสะสม hipims ใช้ความหนาแน่นของพลังงานที่สูงมากของคำสั่งของกิโลวัตต์⋅ ซม. -2 ในพัสั้น (แรงกระตุ้น) นับ microseconds ที่รอบการทำงานต่ำ (เปิด / ปิดอัตราส่วนเวลา) ของ <10%คุณสมบัติเด่นของ hipims มีระดับสูงของ Ionisation ของโลหะ sputtered และอัตราที่สูงของการแตกตัวโมเลกุลก๊าซซึ่งส่งผลให้ความหนาแน่นสูงของภาพยนตร์ที่ฝากไว้ ไอออนไนซ์และแยกออกจากกันเพิ่มขึ้นตามระดับพลังงานสูงสุดแคโทด จำกัด จะถูกกำหนดโดยการเปลี่ยนแปลงของการปล่อยจากการเรืองแสงที่จะโค้งระยะอำนาจสูงสุดและรอบหน้าที่จะถูกเลือกเพื่อรักษาอำนาจแคโทดเฉลี่ยคล้ายกับสปัตเตอร์ทั่วไป (1-10 ซม. กว้าง⋅-2)
hipims ใช้สำหรับ.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สูงพลังงานกระแส Magnetron พ่น (HIPIMS หรือ HiPIMS กำลังแรงสูงหรือที่เรียกว่าพัล magnetron พ่น HPPMS) คือ วิธีการสะสมไอน้ำทางกายภาพของฟิล์มบางที่ใช้สะสม sputter magnetron HIPIMS utilises ความหนาแน่นของพลังงานสูงมากลำดับ kW⋅cm−2 ในกะพริบสั้น ๆ (แรงกระตุ้น) ของสิบ microseconds ที่รอบต่ำภาษี (/ ปิดเวลาอัตรา) < 10% คุณลักษณะที่แตกต่างของ HIPIMS จะระดับสูง ionisation โลหะ sputtered และอัตราความเร็วของ dissociation แก๊สโมเลกุลซึ่งส่งผลให้ความหนาแน่นสูงของฟิล์มที่นำฝาก Ionization และ dissociation ปริญญาเพิ่มตามอำนาจสูงสุดแคโทด ขีดจำกัดเป็นไปตามการเปลี่ยนแปลงของการปล่อยออกจากเรืองแสงระยะโค้ง เลือกรอบภาษีและมีอำนาจสูงสุดเพื่อรักษาพลังงานเฉลี่ยแคโทดคล้ายกับแบบสปัตเตอร์ (1–10 W⋅cm−2) .
HIPIMS ใช้สำหรับ:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ไฟสูง magnetron นึกอยากละล่ำละลัก( hipims หรือ hipims นอกจากนั้นยังรู้จักกันในชื่อ magnetron Intense Pulsed Light กำลังไฟสูงละล่ำละลัก hppms )เป็นวิธีการทาง กายภาพ คำให้การของ Vapor ภาพยนตร์ บางซึ่งอยู่บน magnetron พูดละล่ำละลักเคลือบไอเคมี รับประกันว่าเสียง hipims หนาแน่นกำลังไฟสูงเป็นอย่างมากในการสั่งซื้อที่ของ kw⋅cm 2 ในระยะสั้นจะแสดงไฟกะพริบ(แรงกระตุ้น)ของคนหลายหมื่นไมโครวินาทีที่หน้าที่รอบต่ำ(เปิด/ปิดอัตราเวลา)ของ< 10%ความโดดเด่นของ hipims มีระดับที่สูงมากของ ionisation ของโลหะที่พ่นออกมาด้วยและอัตราดอกเบี้ยสูงไม่ลงเนื้อเห็นด้วยก๊าซโมเลกุลซึ่งผลในความหนาแน่นสูงของ ภาพยนตร์ มอบ ระดับควันไอออนไนเซชันเพิ่มขึ้นและไม่ลงเนื้อเห็นด้วยตามอำนาจโธดยอด การจำกัดที่จะถูกกำหนดโดยการเปลี่ยนแปลงของการปฏิบัติจากแสงจะปรับเปลี่ยนไปสู่ Arcกำลังไฟสูงสุดและรอบหน้าที่ที่ได้รับเลือกไว้แล้วเพื่อให้เป็นการรักษาอำนาจ ภาพ โดยเฉลี่ยที่คล้ายกับละล่ำละลักทั่วไป( 1-10 1-10 1-10 w⋅cm - 2 ). N hipims ใช้สำหรับ