Samples preparation and analysisIn

Samples preparation and analysis
In this investigation atomic absorption spectrophotometry
after dry ashing was performed based on AOAC official method 999.11 (Jorhem, 2000).
Rice samples were dried at 105 C for 48 h.
Rice samples were ashed at 450 C under gradual increase (650 C/h).
6 M HCl (1 + 1) is added,
and the solution was evaporated to dryness.
The residue is dissolved in 0.1 M HNO3 (Jorhem, 2000).
The digested solution was analysed for Pb, Cd, Cr, Ni and Co,
contents by flame and graphic furnace atomic absorption spectrometer (Shimadzu
AA-680, Kyoto, Japan; Shimadzu MUV-IA, Kyoto, Japan). All
of the samples were digested as triplicate. Each sample was analysed
three times. Concentrations of trace metal in samples were
expressed in terms of mg kg1 on a dry weight basis (Jorhem,
2000).
2.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เตรียมตัวอย่างและวิเคราะห์ใน spectrophotometry ดูดกลืนโดยอะตอมนี้ตรวจสอบ หลังจากทำ ashing แห้ง ตาม aoac หรือวิธีทาง 999.11 (Jorhem, 2000) ข้าวอบแห้ง 105 c เป็นเวลา 48 ชม ตัวอย่างข้าวถูก ashed ที่ 450 C ใต้ค่อย ๆ เพิ่ม (650 C/h)เพิ่ม 6 M HCl (1 + 1) และการแก้ปัญหาถูกระเหยให้แห้งสารที่ละลายใน 0.1 M HNO3 (Jorhem, 2000) การแก้ปัญหาย่อยถูกวิเคราะห์สำหรับ Pb, Cd, Cr, Ni และ Co เนื้อหา โดยเปลวไฟและเตากราฟิกดูดกลืนโดยอะตอมสเปกโตรมิเตอร์ (ShimadzuAA-680 เกียวโต ญี่ปุ่น Shimadzu MUV-IA เกียวโต ญี่ปุ่น) ทั้งหมดตัวอย่างที่ย่อยเป็นลข้อ เป็นวิเคราะห์แต่ละอย่างสามครั้ง มีความเข้มข้นของโลหะในการสืบค้นกลับในตัวอย่างแสดงในรูปของมิลลิกรัม kg1 ตามน้ำหนักแห้ง (Jorhem2000)2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การเตรียมความพร้อมตัวอย่างและการวิเคราะห์
ในการสืบสวนคดีนี้ spectrophotometry ดูดซึมอะตอม
หลังจาก ashing แห้งได้ดำเนินการตามวิธีการมาตรฐาน AOAC 999.11 (Jorhem, 2000).
ตัวอย่างข้าวแห้งที่อุณหภูมิ 105 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 48 ชั่วโมง.
ตัวอย่างข้าว ashed ที่ 450 C ภายใต้ค่อยๆเพิ่มขึ้น (650 C / เอช).
6 M HCl (1 + 1) มีการเพิ่ม
และการแก้ไขปัญหาที่ถูกระเหยแห้ง.
ที่เหลือจะละลายใน 0.1 M HNO3 (Jorhem, 2000).
การแก้ปัญหาย่อยได้รับการวิเคราะห์สำหรับตะกั่วแคดเมียมโครเมียม นิกเกิลและโค,
เนื้อหาด้วยเปลวไฟและเตากราฟิกการดูดซึมอะตอมสเปกโตรมิเตอร์ (Shimadzu
AA-680, เกียวโตประเทศญี่ปุ่น Shimadzu MUV-IA, เกียวโตญี่ปุ่น) ทั้งหมด
ของกลุ่มตัวอย่างที่ถูกย่อยเป็นเพิ่มขึ้นสามเท่า แต่ละตัวอย่างมาวิเคราะห์
สามครั้ง ความเข้มข้นของโลหะร่องรอยในตัวอย่างที่ถูก
แสดงในรูปของมิลลิกรัม KG1 บนพื้นฐานน้ำหนักแห้ง (Jorhem,
2000).
2